北京金都源泉科技发展有限公司专利技术

北京金都源泉科技发展有限公司共有1项专利

  • 本实用新型涉及一种分布式多电极真空电弧处理装置,主要包括:真空室、阳极、冷却系统、工件、传动机构、电源、点火电极,其中,多个所述阳极呈直线具有间距地分布于所述真空室的内部,每个所述阳极由金属管缠绕形成,包括:中空螺旋部和设置于所述中空螺...
1