本发明涉及一种离子注入机及离子注入方法。本发明离子注入机包括依次通过管道连接的离子源、质量选择装置、初级加速装置、次级加速装置、束流整形装置、注入装置以及靶室，其中初级加速装置和次级加速装置为射频四极场加速器和非射频四极场加速器组合方式...