一种用于确定薄膜工艺前体的渗透深度的方法，包括：提供插入件(100)；将该插入件(100)布置为接触基底(200)以在该插入件(100)与该基底(200)之间形成多个空间(101)；以及将该(一个或多个)前体供给到形成的空间(101)中...

提供了产生耐等离子体腐蚀的涂布基板的方法和相关的涂层。方法包括通过气相的化学沉积的工艺，优选地，通过原子层沉积(ALD)，在基板的至少一部分之上沉积含钇的耐等离子体涂层。在一些配置中，例如由混合物膜形成耐等离子体涂层，该混合物膜由氧化铝...