A·SAT株式会社专利技术

A·SAT株式会社共有2项专利

  • 提供了一种可以高精度地测量等离子体蚀刻装置用电极上设置的气体导入孔的测量方法以及具有高精度气体导入孔的电极。本发明的等离子体蚀刻装置用电极上设置的气体导入孔的测量方法,用于测量沿厚度方向贯穿等离子体蚀刻装置用电极中的基材而设置的气体导入...
  • 测量方法、电极、再生方法、等离子体蚀刻装置和显示方法
    提供了一种可以高精度地测量等离子体蚀刻装置用电极上设置的气体导入孔的测量方法以及具有高精度气体导入孔的电极。本发明的等离子体蚀刻装置用电极上设置的气体导入孔的测量方法,用于测量沿厚度方向贯穿等离子体蚀刻装置用电极中的基材而设置的气体导入...
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