本发明涉及一种在化学机械抛光过程中使用在线传感器测量抛光片的抛光设备和方法。由测量数据可识别出抛光片是否已经磨损坏了或是否不均匀磨损，并更换抛光片。按照即时的测量数据而不是按照统计预期方法来安排检修，可将检修的停机时间降到最低，并避免使...

包括静压流体轴承的化学机械带剖光机等剖光系统，静压流体轴承的一个特征是采用环绕流体入口阵列的柔性表面来扩展绕入口的升高压力区域；另一特征为控制或改变轴承中流体流动的方向以减少时间平均压力的偏差并在剖光垫中产生振动而提高剖光性能；又一特征...

一种晶片抛光装置，包括一组件框架；环形皮带，皮带在竖直方向横向上有抛光垫；晶片夹持抛光头驱动器有一端面，它能移到与皮带横向部分平行的第一竖直位置。抛光头驱动器包括晶片架，用于将晶片夹在抛光驱动头端面上；驱动器将抛光头和晶片移到邻近皮带横...

一种用于抛光系统的夹持薄片等物体的承载头，在抛光过程中该承载头能够旋转。这样的承载头包括一个传感器，它确定可移动卡盘和固定驱动机构的相对取向（或者它们之间的角度）。控制系统使用测量值选择施加给薄片或者卡盘的边缘压力，来控制薄片抵靠在抛光...

抛光机采用容纳流体的密封腔，流体支承抛光垫靠住被抛光物体。在一实施例中，腔的边界包括支承结构、抛光材料的一部分及支承结构和抛光材料之间的密封件。抛光材料相对支承结构和密封件运动。多种密封结构可以使流体保持在腔内。腔内的流体压力可随时间变...

一种由旋转轮喷洒液浆的液浆喷洒器，设置在制造集成电路所需的化学机械抛光过程中，在第二种结构中，液浆喷洒器使用一对反向转动轮，该转轮由可变速电动机以一预定速度驱动，凭经验确定的转速可喷洒出所需的液浆量，旋转轮的形状控制射流的竖直分布，液浆...