本发明公开了一种使用碳化硅衬底抛光液的持续抛光设备，涉及晶圆抛光设备技术领域，包括设备主体，设备主体的内部固定安装有抛光液输送设备，设备主体内部的中间位置固定安装有抛光设备，设备主体内部远离抛光液输送设备的一侧固定安装有机械臂，还包括设...

本发明公开了一种基于多参数反馈的碳化硅抛光液精密调控系统，具体涉及碳化硅加工技术领域，包括碳化硅抛光液中央控制模块、碳化硅抛光液参数检测模块、碳化硅抛光液初级调控模块、碳化硅抛光液次级调控模块以及碳化硅抛光液调控优化模块；所述碳化硅抛光...

本发明公开了基于大数据的碳化硅抛光效果分析方法及系统，涉及碳化硅抛光效果分析技术领域，采集抛光设备参数、晶圆属性信息与抛光后图像数据，统一格式与结构建模，构建多维晶圆数据集并关联数据结构，识别并量化图像缺陷，提取缺陷参数生成缺陷指纹向量...