本发明涉及用氢氟酸气相催化氟化卤代烃。 该方法应用以铬和钒衍生物或化合物为基础的混合催化剂，其中这两种元素主要以（Ⅲ）氧化态存在。

为了除去存在于粗１，１，１，２－四氟乙烷（Ｆ１３４ａ）中的不饱和杂质（特别是１－氯－２，２－二氟乙烯和多氟丙烯），可在１００～３００℃的温度及大气压至２. ５兆帕的压力下，在氟化催化剂存在下，气相处理粗Ｆ１３４ａ，氢氟酸及氯的气相混合物...

为了除去存在于粗１，１，１，２－四氟乙烷（Ｆ１３４ａ）中的不饱和杂质（特别是１－氯－２，２－二氟乙烯和多氟丙烯），可在２００～３５０℃的温度及大气压至２．５兆帕的压力下，在氟化催化剂存在下，气相处理粗Ｆ１３４ａ，氢氟酸及氧气或空气的气相...

本发明涉及净化和再生已同苯乙烯接触过的分子筛的方法，该分子筛需用适宜的溶剂（优选乙苯）漂洗，然后再进行热处理。

＊＊＊ （Ⅰ） ＊＊＊ （Ⅱ） ＊＊＊ （Ⅲ） 在至少一种选自醇镁Ｍｇ（ＯＲ）↓［２］的催化剂存在下由至少一种（甲基）丙烯酸酯（Ⅱ）与杂环醇（Ⅲ）反应制备化合物（Ⅰ），在式（Ⅰ）、（Ⅱ）和（Ⅲ）中Ｒ为Ｃ↓［１］－...

本发明方法是在阴离子聚合引发剂和非极性溶剂存在下使共轭二烯单体聚合，然后在同样溶剂和碱金属烷氧基醇盐配位体存在下使甲基丙烯酸甲酯单体聚合。得到含有弹性的和热塑性的链段的高耐热性共聚物，这些共聚物可用作压敏粘合剂和提高聚合物冲击强度和耐热...

＊＊＊ （Ⅰ） ＊＊＊ （Ⅱ） １，３－丁二烯与水在过渡金属或其化合物、可溶于水的叔或季磷化合物及至少一种含氮化合物存在下加氢二聚反应方法的特征是，含氮化合物选自式（Ⅰ）或（Ⅱ）的叔胺和季铵盐，二式中Ｒ↓［ｐ］，Ｒ↓［ｑ...

为了除去存在于１，１，１，２－四氟乙烷（Ｆ１３４ａ）中的杂质（特别是１－氯－２，２－二氟乙烯），在氟化催化剂存在下，在２００～３８０℃的温度和大气压至２．５兆帕的压力下，在气相处理粗Ｆ１３４ａ和氢氟酸气体混合物，ＨＦ／Ｆ１３４ａ的摩尔比...

该方法在于使含苯组分（Ａ）和含乙烯组分（Ｂ）在由此得到的烷基化物中能促进形成多乙苯的烷基化反应中进行反应，然后使该烷基化物进行至少一次蒸馏／精馏，以便得到富含二乙苯和三乙苯的馏出物，最后用苯（２２）使该馏出物（１８）进行烷基转移，以便使...

在无水蒸汽情况下，由１，２－二氯乙烷热解制备氯乙烯的方法，其特征在于，（１）使基本上含１，２－二氯乙烷的液流在高温下与流体或粒子流进行很短时间的接触，（２）以便至少一部分１，２－二氯乙烷热解成氯乙烯和ＨＣｌ，（３）然后分离出所生成的氯乙烯。

本发明涉及一种活性炭载体构成的催化剂，活性炭的直径为０．３至１．５ｍｍ间、长度在０．３至５ｍｍ间的颗粒或圆柱形状，或为直径在０．３至２ｍｍ间的球形状，所说的颗粒负载有第Ⅷ族的贵金属。优选使用负载了钯的活性炭。本发明特别适用于纯化一氯乙酸。

本发明涉及一种催化剂，它含有：　　ａ）沉积于一种惰性载体之上的第Ⅷ族贵金属，在氢存在下，用它来脱除α－卤代羧酸中的卤素；　　ｂ）沉积于一种惰性载体之上的第Ⅶ族贵金属，且其粒度要比ａ小得多，使之能在α－卤代羧酸与氢料流作用下形成均匀的混合...

本发明的目的在于，在以铬为主要组分的催化剂存在下，由气相２－氯－１，１，１－三氟乙烷（１３３ａ）与氢氟酸连续制备１，１，１，２－四氟乙烷（１３４ａ）的方法。按照本发明，让从反应器出来的气流蒸馏，以便分离在顶部是含反应产生的几乎全部ＨＣｌ...

本发明属于塑性材料范围，涉及嵌段与接枝共聚物。本发明目的在于合成这种嵌段与接枝共聚物。由单体组分在聚合物一主链上自由基接枝与聚合而制备这种嵌段与接枝共聚物，而聚合物一主链花样是按顺序分布的。本发明还涉及利用这些嵌段与接枝共聚物作掺混聚合...

本发明关于由相应的碘化物Ｒ－［Ｆ］Ｉ光化学溴化作用的制造金氟烷基溴Ｒ－［＃拢虻姆椒āＮ苏叩剑遥郏疲荩杉负醵孔谌芗寥芤褐薪泄怃寤饔茫遥郏疲荩膳ǘ茸畲蟮扔冢埃的Χ?

本发明是关于一种用碱性氢氧化物水溶液进行１，１—双（Ｒ—苯基）—２，２，２—三氯乙烷脱氯化氢的方法。其特征在于在无溶剂和有相转移剂的存在下操作。

本发明涉及一种通过将氨、双氧水和带一个羧基的反应物与含有使反应物转化成吖嗪的催化剂的工作溶液相接触合成吖嗪的方法，其特征在于在无ＣＯ↓［２］的存在下进行操作。

本发明涉及全氟烷基溴Ｒ↓［Ｆ］Ｂ↓［ｒ］的制备，Ｒ↓［Ｆ］表示一个含有２－１２个碳原子的线型或支化全氟烷基。按照本发明的连续工艺在于使溴和碘化物Ｒ↓［Ｆ］Ｉ在气相中发生反应，反应温度介于２００～６００℃之间，Ｒｒ↓［２］／Ｒ↓［Ｆ］Ｉ摩...

本发明涉及一种合成１，２－二氯乙烷和极少量三氯乙烷及四氯乙烷的方法。其特征在于，在足以生成１，２－二氯乙烷的温度下，将四氯化碳、乙烯和氧与氧氯化催化剂接触，然后由反应产物分离１，２－二氯乙烷。

为了清洗光刻胶，本发明提出使用二甲亚砜（ＤＭＳＯ）或Ｎ－甲基吡咯烷酮（ＮＭＰ）和３－甲氧基丙胺（ＭＯＰＡ）的混合物。有利地，往该混合物添加少量水和腐蚀抑制剂，如甲苯基三唑酸钠。