专利技术简介:
本实用新型专利技术提供了一种基板承载装置,包括支撑支架,支撑滚珠以及间隙滚珠,所述支撑支架的顶部形成与支撑滚珠配合的滚珠托盘,间隙滚珠设置于滚珠托盘内支撑所述支撑滚珠,所述支撑滚珠的顶部进行支撑;本实用新型专利技术还提供了一种高温炉设备,用于对基板进行加热,包括上述的基板承载装置。本实用新型专利技术提供的基板承载装置,不仅满足了其与基板进行小面积接触的需求,而且有效地避免了其与基板进行滑动摩擦而产生划痕,保证了基板的安全性;本实用新型专利技术提供的高温炉设备,在保证基板正反两面受热均匀的同时,还改善了基板在加热时被划伤的状况。
专利技术说明:
技术领域本实用新型涉及机械设备技术领域,具体涉及一种承载装置及加热设备。背景技术目前,在显示装置生产行业,需要将基板放入高温炉类设备中进行加热,为了保证基板的正反两面受热均匀,以达到温度均一性良好的要求,就要使承载基板的结构与基板的接触面积足够小。为了解决这个问题,现有技术中往往在腔室内部使用带有尖状结构的承载装置,使得其在支撑基板的同时保证了与基板进行小面积接触,但是基板放置到尖状结构上后,由于其自身重力的缘故会使得基板下沉导致位移,尖状结构与基板之间就会产生滑动摩擦,在基板上留下划痕。实用新型内容有鉴于此,本实用新型实施例提供了一种基板承载装置,解决了承载装置与基板小面积接触会产生滑动划痕的技术问题;本实用新型实施例还提供了一种高温炉设备,解决了基板正反两面受热不均匀的同时,还避免了基板在加热时被划伤的状况。本实用新型一实施例提供的一种基板承载装置,其中包括支撑支架,支撑滚珠以及间隙滚珠,所述支撑支架的顶部形成滚珠托盘,所述滚珠托盘开设有凹槽,所述支撑滚珠与间隙滚珠收容于所述凹槽内,所述间隙滚珠设置于滚珠托盘内用以支撑所述支撑滚珠,所述支撑滚珠的顶部用以支撑基板。其中,所述支撑滚珠的顶端高于滚珠托盘的顶端高度;其中,所述支撑滚珠与间隙滚珠均为可任意转动的球体,支撑滚珠的直径大于间隙滚珠的直径;其中,所述滚珠托盘凹槽为半球形;其中,所述支撑滚珠的直径小于所述滚珠托盘的内径;其中,所述支撑滚珠的材料为石英;其中,所述间隙滚珠为多个;其中,所述支撑支架还包括支撑杆和底座,所述滚珠托盘通过支撑杆与所述底座连接。本实用新型一实施例提供的一种高温炉设备,用于对基板进行加热,包括上述任一所述的基板承载装置。本实用新型实施例所提供的基板承载装置,通过将支撑基板的结构设计成多层滚珠的方法,不仅满足了其与基板进行小面积接触的需求,而且多层滚珠的配合滚动也有效地避免了其与基板进行滑动摩擦而产生划痕,保证了基板的安全性;本实用新型实施例所提供的高温炉设备,在保证基板正反两面受热均匀的同时,还改善了基板在加热时被划伤的状况。附图说明图1所示为本实用新型一实施例提供的一种基板承载装置的结构示意图。具体实施方式下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。如图1所示,本实用新型实施例提供的基板承载装置,包括支撑支架1,支撑滚珠2以及间隙滚珠3,其中,支撑支架1包括支撑杆和底座5,支撑支架1的顶部形成与支撑滚珠2配合的滚珠托盘4,滚珠托盘4通过支撑杆与底座5连接,滚珠托盘4为内表面开设有半球形的凹槽
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