光屏蔽装置以及包括该光屏蔽装置的电子设备制造方法及图纸

本发明专利技术提供了光屏蔽装置以及包括该光屏蔽装置的电子设备，其中该电子设备可以是成像设备或显示设备。该光屏蔽装置包括基板、上卷叶片和驱动单元。基板包括下电极和光穿过其的光透射部分。上卷叶片包括上电极和具有不同光学性质的至少两个层。驱动单元电连接到基板和上卷叶片，其控制穿过基板的光透射部分的光的量。当处于上卷位置时上卷叶片的外圆周表面可以是抗反射表面。

【技术实现步骤摘要】

以下描述的示范性实施例涉及一种光学装置、光屏蔽装置以及包括该光屏蔽装置的电子设备。
技术介绍
光屏蔽装置是透射或阻挡入射光的装置。作为一种光屏蔽装置，光学快门被用于选择性地透射光或阻挡光。例如，包括在照相机中的光学快门选择性地透射穿过照相机的透镜的光并到达图像传感器。通常，这样的照相机通过控制光学快门的操作速度和/或照相机的光圈的开口尺寸来控制光透射到图像传感器的时间和/或入射在图像传感器上的光的量。诸如光学快门的光屏蔽装置已经被用于各种电子设备，诸如光学开关器件，其需要永久或临时的光屏蔽功能，或者需要选择性阻挡或透射入射光。存在不同类型的光学快门，包括机械操作的光学快门和电操作的光学快门。在电操作的光学快门中，控制图像传感器的开/关状态从而控制图像传感器接收光的时间或限制被图像传感器接收的光的量。由于电操作的光学快门根据预定的电路构造来操作，所以电操作的光学快门已经广泛地使用在便携式数字照相机中。然而，这样的电操作光学快门存在缺点，即随着包括在照相机模块中的像素数目的增加可能发生图像拖曳(dragging)。 图像拖曳通常发生在电子卷帘快门(ERS)系统中，因为ERS系统中的图像通过顺序地从像素矩阵的一个角落(例如，左上角)到相对角(例如，右下角)激活图像传感器而被捕获。 因此，当物体快速地移动时，在图像传感器被顺序地激活期间存在物体的位置变化。这导致不期望的图像拖曳效果。近来，用于移动设备诸如移动电话、游戏设备、照相机等的照相机模块中的像素数目已经显著增加，从而获得高质量的图像，因此对机械操作的光学快门的兴趣增加。近来在移动设备产业中的趋势是使设备更小且更薄，因此，机械操作的光学快门需要在继续以快速的响应(快门)速度操作的同时变得更小且更薄。在2009年6月30日公开的名为 Shutter and Micro Camera Module Having the Same (快门和具有其的微照相机模块)” 的韩国专利申请公开No. 2009-0055996描述了机械操作的光学快门的示例，其使用多个上卷叶片(rollup blade)以实现高的响应速度。大部分电子设备包括诸如液晶显示器(LCD)触摸屏的显示器件。对于提供高质量图像和性能的显示器件的需要不断地增加。为了满足这些需求，用于显示器件的制造技术已经被显著且不断地改进以获得更好的显示器件。已经为电子设备开发了两种不同种类的显示器件。有透射型器件和反射型器件。在透射型显示器件中，图像使用透射穿过面板的光来显示；在反射型显示器件中，图像使用从面板反射的光来显示。透射型显示器件在黑暗环境中具有高的可视性，但在明亮的户外或室内环境中具有相对低的可视性。相反地，反射型显示器件在黑暗环境中具有低的可视性，但在明亮环境中具有相对高的可视性。一种半透明显示器件利用了透射型和反射型显示器两者的优点。这种半透明显示器件能够根据周围环境的亮度而选择性地以反射模式或以透射模式来操作。因此，半透明显示器件非常有利于用于在各种光条件中操作的移动电子设备。通常，半透明显示器件中的单元被分成两部分。每个单元的一部分具有反射型结构，每个单元的另一部分具有透射型结构。结果，与现有的单模式的显示器(也就是，透射型显示器或反射型显示器)相比， 半透明显示器具有相对低的亮度。
技术实现思路
—个或多个示范性实施例提供一种能够防止不期望的光反射的光屏蔽装置。一个或多个示范性实施例提供一种成像设备，其能够用光屏蔽装置防止噪声图案的形成来获得高质量的图像。一个或多个示范性实施例提供一种能够以透射模式或以反射模式来选择性地操作光屏蔽装置的显示器，并提供在透射模式和反射模式两者中与当前可获得的单模式显示系统可比拟的优良可视性。根据示范性实施例的一个方面，提供一种光屏蔽装置，包括基板、上卷叶片以及驱动单元。基板包括下电极，上卷叶片包括上电极。上卷叶片设置为当上卷叶片处于平坦位置时对应于基板的光透射部分，并包括具有不同光学性质的至少两个层。驱动单元电连接到下电极和上电极，并驱动上卷叶片以调节穿过光透射部分的光的量。根据另一示范性实施例的方面，提供一种成像设备，包括图像传感器、基板、上卷叶片和驱动单元。基板包括下电极，上卷叶片包括上电极。基板的光透射部分设置为对应于图像传感器。上卷叶片设置为当上卷叶片处于平坦位置时对应于基板的光透射部分，并包括具有不同光学性质的至少两个层。驱动单元电连接到上电极和下电极，并驱动上卷叶片以调节穿过光透射部分的光的量。根据另一示范性实施例的方面，提供一种显示器，包括背光单元、上卷叶片、滤色器和驱动单元。基板包括下电极并设置在背光单元上方。上卷叶片包括上电极。滤色器设置在上卷叶片上方。上卷叶片设置为当上卷叶片处于平坦位置时对应于基板的光透射部分，并包括具有不同光学性质的至少两个层。此外，驱动单元电连接到上电极和下电极，并驱动上卷叶片以调节穿过光透射部分的光的量。其它的特征和方面将从以下的详细描述、附图和权利要求而变得明显。 附图说明图1是示出光屏蔽装置的示范性实施例在光屏蔽装置屏蔽光时的透视图。图2A是示出图1的光屏蔽装置在光屏蔽装置透射光时的透视图。图2B是示出图2A所示的光屏蔽装置的侧视图。图3A是根据上卷叶片的示范性实施例的由图2B的虚线标记的部分的放大图。图:3B是根据上卷叶片的另一示范性实施例的由图2B的虚线标记的部分的放大图。图3C是示出根据示范性实施例的上卷叶片的所得反射率的曲线图，该上卷叶片包括第一相补偿层、光吸收层、第二相补偿层和上电极。图4是根据上卷叶片的另一示范性实施例的由图2B的虚线标记的部分的放大图。图5A是示出光屏蔽装置的另一示范性实施例在光屏蔽装置屏蔽光时的透视图。图5B是示出图5A的光屏蔽装置当光屏蔽装置透射光时的透视图。图5C是示出根据示范性实施例的由光学快门提供的光圈、设置在光学快门下方的光学元件的尺寸以及光学元件的平面与覆盖玻璃之间的垂直距离之间的示范性关系的图表。图6是示出包括光屏蔽装置的成像设备的示范性实施例的截面图。图7A和图7B是示出反射-透射组合型显示器的示范性实施例当该反射-透射组合型显示器以反射模式操作时的截面图。图8A和图8B是示出图7A和图7B的反射-透射组合型显示器当该反射-透射组合型显示器以透射模式操作时的截面图。图9A示出当根据示范性实施例的显示设备以透射模式操作时表现每个像素的灰度级的示范性方法。图9B示出当根据示范性实施例的显示设备以反射模式操作时表现每个像素的灰度级的示范性方法。在附图和详细描述中，除非另外地描述，相同的附图标记将被理解为指代相同的元件、特征和结构。为了清晰、说明和方便，这些元件的相对尺寸和图示可以被夸大。具体实施例方式现在参照附图更充分地描述各个示范性实施例，一些示范性实施例在附图中示出。然而，这里公开的特定结构和功能细节仅是代表性地用于描述示范性实施例的目的。因此，实施例可以涵盖许多替代形式而不应被解释为限于以下的描述。因此，应当理解，并不旨在将示范性实施例限制于所公开的特定形式，而是相反的，示范性实施例意在涵盖能被本领域技术人员理解的所有修改、等同物和替代物。在附图中，为了清晰，层和区域的厚度可以被夸大，在附图的描述始终，相似的附图标记指代相似的元件。虽然这里可使用术语第一、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
2010.12.17 KR 10-2010-01302501.一种光屏蔽装置，包括 基板，包括下电极；上卷叶片，包括上电极；以及驱动单元，电连接到所述下电极和所述上电极，其中所述上卷叶片可处于平坦位置和上卷位置，在所述平坦位置，所述上卷叶片覆盖所述基板的光透射部分，其中所述上卷叶片包括具有不同光学性质的至少两个层。2.如权利要求1所述的光屏蔽装置，其中所述上卷叶片的所述至少两个层包括至少一个金属吸收层和至少一个电介质层。3.如权利要求1所述的光屏蔽装置，其中所述驱动单元驱动所述上卷叶片以将所述上卷叶片在所述平坦位置和所述上卷位置之间移动，由此调节穿过所述光透射部分的光的量。4.如权利要求1所述的光屏蔽装置，其中所述至少两个层包括包含抗反射表面的层， 该抗反射表面定义处于所述上卷位置的所述上卷叶片的外圆周表面。5.如权利要求4所述的光屏蔽装置，其中包括所述抗反射表面的所述层包括光学黑层。6.如权利要求5所述的光屏蔽装置，其中所述光学黑层具有包括两个不同材料的多层结构。7.如权利要求5所述的光屏蔽装置，其中所述光学黑层包括至少一个金属吸收层和至少一个电介质层。8.如权利要求4所述的光屏蔽装置，其中所述抗反射层具有关于可见光的约20%或更小的反射率。9.如权利要求4所述的光屏蔽装置，其中所述上卷叶片包括至少三个层。10.如权利要求9所述的光屏蔽装置，其中所述上卷叶片的所述至少三个层包括金属吸收层。11.如权利要求10所述的光屏蔽装置，其中所述金属吸收层由Cr和Mo中的至少一个形成。12.如权利要求9所述的光屏蔽装置，其中所述上卷叶片的所述至少三个层包括至少两个相补偿层以及设置在所述至少两个相补偿层之间的光吸收层。13.如权利要求9所述的光屏蔽装置，其中所述上卷叶片的至少三个层包括电介质层。14.如权利要求1所述的光屏蔽装置，其中所述上电极由Cr、Al、Au、Mo和不透明聚合物中的至少一个形成。15.如权利要求1所述的光屏蔽装置，其中所述上卷叶片包括固定部分和移动部分，所述固定部分在所述光透射部分外侧固定到所述基板，所述移动部分在所述上卷叶片处于所述上卷位置时朝向所述固定部分上卷。16.如权利要求15所述的光屏蔽装置，其中当所述上卷叶片处于所述上卷位置时，所述移动部分的外圆周表面是抗反射表面。17.如权利要求1所述的光屏蔽装置，其中所述至少两个层包括包含反射表面的层和包含抗反射表面的层，所述反射表面在所述上卷叶片处于所述上卷位置时作为所述上卷叶片的内圆周表面，所述抗反射表面在所述上卷叶片处于所述上卷位置时作为所述上卷叶片的外圆周表面。18.如权利要求17所述的光屏蔽装置，其中包括所述反射表面的所述层是设置在所述上电极上的光反射层。19.如权利要求1所述的光屏蔽装置，其中所述基板还包括由透明或半透明材料形成的衬底。20.如权利要求19所述的光屏蔽装置，其中所述衬底由玻璃、石英、塑料和硅石中的至少一种形成。21.如权利要求19所述的光屏蔽装置，其中所述下电极由铟锡氧化物(IT0)、ai0、 SnO2、碳纳米管(CNT)和导电聚合物中的至少一种形成。22.—种成像装置，包括图像传感器；基板，设置在所述图像传感器上方并包括下电极；多个上卷叶片，每个上卷叶片包括上电极；以及驱动单元，电连接到所述下电极和所述上电极，其中所述基板的光透射部分对应于所述图像传感器设置，所述多个上卷叶片可处于平坦位置和上卷位置，在该平坦位置，所述多个上卷叶片覆盖所述基板的所述光透射部分；所述多个上卷叶片的每个包括具有不同光学性质的至少两个层。23.如权利要求22所述的成像装置，其中所述多个上卷叶片的每个的至少两个层包括至少一个金属吸收层和至少一个电介质层。24.如权利要求22所述的成像装置，其中所述驱动单元驱动所述多个上卷叶片到所述上卷位置，由此...

【专利技术属性】
技术研发人员：金载兴，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：