【技术实现步骤摘要】
高效光栅耦合器
[0001]本专利技术涉及集成光电子和光通讯
,尤其涉及一种高效光栅耦合器
。
技术介绍
[0002]在过去的几十年中,集成电路技术取得了广泛的应用,在器件设计
、
加工制作和封装测试方面的应用相当成熟,并形成了完整的产业链
。
但是随着信息技术的进一步发展,大数据
、
物联网及云计算等技术先后诞生,产生了海量数据
。
人们迫切需要实现具有超高传输速率
、
超快处理能力
、
超大信息容量
、
高可靠性
、
低损耗
、
低延迟及低成本的信息网络,来满足迅速增长的信息容量和处理能力的需求
。
然而基于电互联的集成电路技术逐渐逼近物理极限,速率
、
带宽
、
能耗
、
串扰
、
延迟及电磁干扰等问题愈发突出
。
在此背景下,集成光电子技术将微电子技术与光子学结合,以光子作为信息载体,具有传输速率快
、
易于调制
、
多种复用维度
、
频率带宽大
、
抗电磁干扰
、
能耗低及损耗小等优点,成为突破当前信息网络发展瓶颈的最佳方案
。
[0003]但要实现成熟的商业化光电子芯片还有许多问题亟需解决,其中突出的一个问题是芯片与光纤之间的高效光耦合问题
。
...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种高效光栅耦合器,其特征在于,从下至上依次包括:衬底层(
101
)
、
埋藏氧化物层(
102
)
、
硅波导层(
103
)
、
多晶硅层(
104
)及顶部氧化物层(
106
);其中,所述硅波导层(
103
)包括单模输出波导(
1031
)
、
过渡波导(
1032
)以及硅光栅(
1033
),所述单模输出波导(
1031
)
、
过渡波导(
1032
)及硅光栅(
1033
)依次相连;所述多晶硅层(
104
)包括多晶硅光栅(
1041
),所述多晶硅光栅(
1041
)与硅波导层(
103
)中的硅光栅(
1033
)在上下叠置,共同组成目标光栅;所述顶部氧化物层(
106
)中包括有反射层(
105
),所述反射层(
105
)至少能够覆盖所述目标光栅,通过对所述反射层(
105
)层数
、
位置和厚度的设计使入射光的反射光产生相消干涉,并将目标光栅反射向芯片外的光重新反射回目标光栅
。2.
根据权利要求1所述的高效光栅耦合器,其特征在于,还包括:反射镜(
108
【专利技术属性】
技术研发人员:李明,厉彦榛,谢毓俊,孙雨舟,杨先超,任之良,赵志勇,李伟,祝宁华,
申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所,
类型:发明
国别省市:
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