显示面板及其制造方法、显示装置制造方法及图纸

技术编号:21402945 阅读:24 留言:0更新日期:2019-06-19 08:07
本发明专利技术提供了一种显示面板及其制造方法、显示装置,属于显示技术领域。所述方法包括:获取指定基板,指定基板包括网状凹槽,网状凹槽包括多个条状凹槽和多个块状凹槽,每个块状凹槽与至少一个条状凹槽连通;在网状凹槽中形成网状柔性基底,网状柔性基底包括位于条状凹槽中的条状基底和位于块状凹槽中的块状基底;在每个块状基底上形成至少一个发光单元。本发明专利技术解决了显示面板的良率较低的问题。本发明专利技术用于制造显示面板。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制造方法、显示装置
本专利技术涉及显示
,特别涉及一种显示面板及其制造方法、显示装置。
技术介绍
随着显示技术的发展,具有柔性的显示面板越来越多的应用于各种显示装置中。人们对于显示面板的柔性的要求也越来越高。一种显示面板的制造方法可以包括:在硬质基板上形成柔性基底,并对该柔性基底进行处理,使其形成网状柔性基底,以提高其柔性,该网状柔性基底包括多个块状基底和多个条状基底。之后可以在该网状柔性基底上形成用于制备发光单元中各种结构的材质层,接着可以采用构图工艺处理该材质层,以构成位于每个块状基底上的发光单元。但是,由于网状柔性基底上分布有多个网孔,这些网孔所在区域与块状基底或条状基底所在区域的段差较大,这会严重影响构图工艺的正常实施,进而导致制造出的显示面板的良率较低。
技术实现思路
本申请提供了一种显示面板及其制造方法、显示装置,可以解决相关技术中的显示面板的良率问题,所述技术方案如下:一方面,提供一种显示面板的制造方法,所述方法包括:获取指定基板,所述指定基板包括网状凹槽,所述网状凹槽包括多个条状凹槽和多个块状凹槽,每个所述块状凹槽与至少一个所述条状凹槽连通;在所述网状凹槽中形成网状柔性基底,所述网状柔性基底包括位于所述条状凹槽中的条状基底和位于所述块状凹槽中的块状基底;在每个所述块状基底上形成至少一个发光单元;分离所述指定基板与所述网状柔性基底。可选地,所述分离所述指定基板与所述网状柔性基底前,所述方法还包括:在所述发光单元远离所述网状柔性基底的一侧形成盖膜;所述分离所述指定基板与所述网状柔性基底后,所述方法还包括:在所述网状柔性基底远离所述发光单元的一侧形成背膜。可选地,所述获取指定基板,包括:提供硬质基板;通过构图工艺对所述硬质基板进行处理,以形成所述指定基板。可选地,所述指定基板由透明材料构成,所述分离所述指定基板与所述网状柔性基底前,所述方法还包括:在所述盖膜远离所述网状柔性基底的一侧形成盖膜承载体;所述分离所述指定基板与所述网状柔性基底,包括:通过指定光线从所述指定基板远离所述网状柔性基底的一侧照射所述网状柔性基底,以对所述网状柔性基底进行光剥离;通过所述盖膜承载体分离所述网状柔性基底和所述指定基板;所述在所述网状柔性基底远离所述发光单元的一侧形成背膜后,所述方法还包括:分离所述盖膜承载体和所述盖膜。可选地,所述在所述发光单元远离所述网状柔性基底的一侧形成盖膜,包括:在所述发光单元远离所述网状柔性基底的一侧涂覆盖膜材质溶液,并对所述盖膜材质溶液进行干燥处理,以形成所述盖膜;或者,制备所述盖膜,并将所述盖膜扣置在所述发光单元远离所述网状柔性基底的一侧。可选地,所述在所述网状凹槽中形成网状柔性基底,包括:采用溶液制程法在所述指定基板上形成柔性材质层;通过构图工艺对所述柔性材质层进行处理,以形成所述网状柔性基底。可选地,所述发光单元远离所述网状柔性基底的一侧形成盖膜之前,所述方法还包括:在每个所述发光单元远离所述网状柔性基底的一侧形成封装结构;所述在所述发光单元远离所述网状柔性基底的一侧形成盖膜,包括:在所述封装结构远离所述网状柔性基底的一侧形成所述盖膜。可选地,所述块状基底的厚度小于所述块状凹槽的深度。可选地,所述块状凹槽的开口逐渐增大。另一方面,提供一种显示面板,其特征在于,所述显示面板采用上述的显示面板的制造方法制备得到。又一方面,提供一种显示装置,所述显示装置包括上述显示面板。本申请提供的技术方案带来的有益效果是:在获取包括网状凹槽的指定基板后,可以在该指定基板上形成网状柔性基底。该网状柔性基底可以嵌入指定基板的网状凹槽中,如此结构下,网状柔性基底的网孔所在区域与块状基底或条状基底所在区域的段差较小,不会对后续的构图工艺造成影响。达到了能够提高制造的显示面板的良率的效果。应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的,并不能限制本申请。附图说明为了更清楚地说明本专利技术的实施例,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为相关技术中的一种硬质基板和网状柔性基底的局部示意图;图2为图1中截面1-1的示意图;图3为相关技术中形成在网状柔性基底上的功能层的结构示意图;图4为本专利技术实施例提供的一种显示面板的制造方法流程图;图5为本专利技术实施例提供的另一种显示面板的制造方法流程图;图6为本专利技术实施例提供的一种指定基板的结构示意图;图7为图6中截面2-2的示意图;图8为本专利技术实施例提供的在指定基板上形成的柔性材质层的结构示意图;图9为本专利技术实施例提供的在指定基板上形成的网状柔性基底的结构示意图;图10为图9的俯视图;图11为本专利技术实施例提供的位于网状柔性基底上的发光单元的结构示意图;图12为图11中截面3-3的示意图;图13为本专利技术实施例提供的在发光单元上形成的封装材质层的结构示意图;图14为本专利技术实施例提供的在发光单元上形成的封装结构的示意图;图15为本专利技术实施例提供的在封装结构上形成的盖膜的结构示意图;图16为本专利技术实施例提供的在盖膜上形成的盖膜承载体的结构示意图;图17为本专利技术实施例提供的激光照射网状柔性基底的示意图;图18为本专利技术实施例提供的分离后的指定基板和网状柔性基底位置关系示意图;图19为本专利技术实施例提供的在网状柔性基底远离发光单元的一侧形成的背膜的结构示意图;图20为本专利技术实施例提供的一种显示面板的结构示意图;图21为本专利技术实施例提供的一种在网状柔性基底上形成的驱动子单元的结构示意图;图22为图12中局部区域J1的示意图。此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本申请的实施例,并与说明书一起用于解释本申请的原理。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本专利技术作进一步地详细描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部份实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本专利技术保护的范围。在制备显示面板的过程中,在硬质基板上形成柔性基底后,为了提升该柔性基底的拉伸性能,可以对该柔性基底进行图案化处理,以形成具有多个网孔的网状柔性基底。示例地,图1为相关技术中的一种硬质基板和网状柔性基底的局部示意图,图2为图1中截面1-1的示意图。请结合图1和图2,位于硬质基板上的网状柔性基底100包括多个块状基底1001和多个条状基底1002,且多个块状基底1001和多个条状基底1002之间分布有多个网孔1003。如图3所示,在该柔性网状基底100上形成用于制备发光单元(图3中未示出)的功能层200(可以通过构图工艺将功能层处理为发光单元中的一些结构,如电极等)后,位于网孔1003内的部分功能层与位于块状基底1001或条状基底1002上的部分功能层的段差较大,导致后续通过构图工艺处理功能层200时,难以有效地对位于网孔1003内的部分功能层处理,从而导致显示面板的制备良率较低。本专利技术实施例提供了一种显示面板的制造方法,在使用该显示面板的制造方法制备显示面板时,该显示面板的制备良率较高。图4为本专利技术实施例提供本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:获取指定基板,所述指定基板包括网状凹槽,所述网状凹槽包括多个条状凹槽和多个块状凹槽,每个所述块状凹槽与至少一个所述条状凹槽连通;在所述网状凹槽中形成网状柔性基底,所述网状柔性基底包括位于所述条状凹槽中的条状基底和位于所述块状凹槽中的块状基底;在每个所述块状基底上形成至少一个发光单元;分离所述指定基板与所述网状柔性基底。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:获取指定基板,所述指定基板包括网状凹槽,所述网状凹槽包括多个条状凹槽和多个块状凹槽,每个所述块状凹槽与至少一个所述条状凹槽连通;在所述网状凹槽中形成网状柔性基底,所述网状柔性基底包括位于所述条状凹槽中的条状基底和位于所述块状凹槽中的块状基底;在每个所述块状基底上形成至少一个发光单元;分离所述指定基板与所述网状柔性基底。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述分离所述指定基板与所述网状柔性基底前,所述方法还包括:在所述发光单元远离所述网状柔性基底的一侧形成盖膜;所述分离所述指定基板与所述网状柔性基底后,所述方法还包括:在所述网状柔性基底远离所述发光单元的一侧形成背膜。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述指定基板由透明材料构成,所述分离所述指定基板与所述网状柔性基底前,所述方法还包括:在所述盖膜远离所述网状柔性基底的一侧形成盖膜承载体;所述分离所述指定基板与所述网状柔性基底,包括:通过指定光线从所述指定基板远离所述网状柔性基底的一侧照射所述网状柔性基底,以对所述网状柔性基底进行光剥离;通过所述盖膜承载体分离所述网状柔性基底和所述指定基板;所述在所述网状柔性基底远离所述发光单元的一侧形成背膜后,所述方法还包括:分离所述盖膜承载体和所...

【专利技术属性】
技术研发人员:牛亚男王久石陈蕾田宏伟曹占锋姚琪关峰张锋舒适李宗洋
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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