一种光电器件功能层的制备方法和光电器件技术

本发明专利技术提供了一种光电器件功能层的制备方法及光电器件。该制备方法包括：提供基层；提供界面层墨水，界面层墨水包括第一牺牲材料和第二牺牲材料，第一牺牲材料溶于第二牺牲材料，第一牺牲材料的熔点高于第二牺牲材料的熔点且第一牺牲材料的沸点高于第二牺牲材料的沸点，界面层墨水与基层不溶；采用成膜工艺将界面层墨水设置在基层上，形成界面层液膜；使界面层液膜的至少部分第二牺牲材料挥发，形成界面层；在界面层上设置功能层墨水，得到功能层液膜；以及对功能层液膜进行加热，并去除界面层，形成功能层；其中，界面层包括多个散布的岛状结构、海状膜层中的一种或两种。解决了现有技术中提高各功能层材料成膜均匀性和避免混色不能兼顾的问题。

A Method for Preparing Functional Layer of Photoelectric Devices and Photoelectric Devices

The invention provides a preparation method of a functional layer of an optoelectronic device and an optoelectronic device. The preparation method includes: providing a base layer; providing an interfacial layer ink, which includes the first sacrificial material and the second sacrificial material; the first sacrificial material dissolves in the second sacrificial material; the melting point of the first sacrificial material is higher than that of the second sacrificial material; the boiling point of the first sacrificial material is higher than that of the second sacrificial material; and the interfacial layer ink is insoluble with the base layer; The interfacial layer ink is set on the base to form the interfacial layer liquid film; the second sacrificial material of the interfacial layer liquid film is volatilized to form the interfacial layer; the functional layer liquid film is obtained by setting the functional layer ink on the interfacial layer; and the functional layer liquid film is heated and removed to form the functional layer; the interfacial layer includes many scattered island structures and sea-like film layers. One or two. The problem of improving uniformity of film formation and avoiding color mixing of functional layer materials in the prior art is solved.

【技术实现步骤摘要】
一种光电器件功能层的制备方法和光电器件
本专利技术涉及光电器件的制作领域，具体而言，涉及一种光电器件功能层的制备方法和光电器件。
技术介绍
随着OLED手机、电视逐渐走入人们的生活，其生动真实的画面、快速的响应性能得到了普遍的赞誉，使得电致发光显示技术得到了越来越广泛的关注。但是，OLED显示面板普遍采用高真空度下热蒸镀的方式制作，设备造价和维护成本极高，使得面板成本极高。因此，当溶液法制程、更广色域的QLED显示技术一经问世就得到空前的关注，由于采用喷墨打印技术这一溶液法制程，舍弃了蒸镀设备的高真空和造价昂贵的精密掩模板(finemask)，因而可将面板的成本大大降低。为了使画面更加清晰，需要将像素密度(ppi,PixelsPerInch)不断提升，即不断降低像素尺寸。为了防止打印时墨水在子像素坑漫溢造成混色，一种方法是对喷墨打印设备的喷头不断升级，即不断降低其出液量，如从10皮升/滴降至1皮升/滴等，但随着打印头喷嘴越做越小，溶剂挥发的敏感度增加，即喷嘴堵塞的概率大大提升，设备的维护成本不断升高；另一种方法是在打印制程开始前，先对TFT基板进行处理，如CF4等离子体处理，使TFT基板的像素隔离结构(bank)表面植入F基团，对墨水实现排斥作用，帮助滴液聚拢在子像素内，该方法看似一劳永逸，但是各功能层材料的亲疏水性差别很大(上下层材料一般会采取正交溶剂的方法避免混色)，使得各层墨水与bank的接触角差异大，干燥后膜层分布不均匀，产品性能和稳定性不容乐观；另外也可以调节墨水的表面张力，降低对底层的亲润性，使墨滴在底层的铺展直径缩小，但铺展直径过小有时会使子像素坑内的数个墨滴之间融合效果不佳，不利于材料均匀成膜。现有技术中，在湿法制作光电器件时，功能层墨水的铺展主要依靠其溶剂体系对作为基层的功能层(以下统称为“下功能层”)材料的亲润性来调节。比如，当需要功能层墨水液滴有尽可能小的铺展直径，即墨滴接触角较大(如接近90°)时，可以选取与下功能层材料的表面能接近的溶剂组合；当需要功能层墨水有尽可能大的铺展直径，即墨滴接触角较小(如小于10°)时，需选取表面能尽可能小于下功能层材料的溶剂组合。然而，在实际器件制作中，除了满足上述亲润性要求外，功能层墨水的溶剂组合还必须满足对功能材料有较好的溶解性前提下又不破坏下功能层，即所谓正交溶剂。由此可见，在湿法制作光电器件时，紧邻上下功能层之间采取正交溶剂的形式配制溶液，以期达到下功能层不受上功能层溶剂影响的目的。但是，某些功能材料结构具有一定相似性，当这些材料需要依次相邻施加时，很难找到很好的正交溶剂体系；另一方面，光电器件中，各功能层的厚度非常薄，只有几纳米到几十纳米，上功能层墨水的溶剂量对这个尺度的膜厚来说，可以说非常巨大，因此，在上功能层材料干燥时，某些溶剂往往会渗透至下功能层，造成下功能层膜厚不均，影响最终的器件性能。因此急需要一种简便、适用面广的方法来有效控制各功能层材料墨滴的铺展，提升喷墨打印工艺产品品质。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种光电器件功能层的制备方法及光电器件，以解决现有技术中提高各功能层材料成膜均匀性和避免混色不能兼顾的问题。为了实现上述目的，根据本专利技术的一个方面，提供了一种光电器件功能层的制备方法，包括：提供基层；提供界面层墨水，界面层墨水包括第一牺牲材料和第二牺牲材料，第一牺牲材料溶于第二牺牲材料，第一牺牲材料的熔点高于第二牺牲材料的熔点且第一牺牲材料的沸点高于第二牺牲材料的沸点，界面层墨水与基层不溶；采用成膜工艺将界面层墨水设置在基层上，形成界面层液膜；使界面层液膜的至少部分第二牺牲材料挥发，形成界面层；在界面层上设置功能层墨水，得到功能层液膜；以及对功能层液膜进行加热，并去除界面层，形成功能层；其中，界面层包括多个散布的岛状结构、海状膜层中的一种或两种。进一步地，上述第一牺牲材料的熔点大于等于15℃，优选第一牺牲材料的熔点在20～80℃之间，更优选在20～50℃之间。进一步地，上述第二牺牲材料的熔点小于等于0℃。进一步地，上述第二牺牲材料的沸点在60～250℃之间，第一牺牲材料的沸点与第二牺牲材料的沸点之差大于等于30℃。进一步地，上述第一牺牲材料和第二牺牲材料的质量比为2:98～98:2。进一步地，上述功能层墨水与第一牺牲材料互溶。进一步地，上述第一牺牲材料和第二牺牲材料各自独立地选自芳烃类、脂肪烃类、醇醚类、酯类和醇类中的任意一种或多种。进一步地，上述岛状结构所在的基层的表面定义为x轴和y轴所在的第一平面，将与第一平面垂直的方向定义为z轴所在方向，岛状结构在x轴方向上的长度为1nm～50μm，优选50nm～10μm，在y轴方向上的长度为1nm～50μm，优选50nm～10μm，在z轴方向上的高度为1nm～50μm，优选50nm～10μm。进一步地，上述海状膜层的厚度为0～50nm，优选为0～10nm。进一步地，上述功能层选自空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、空穴阻挡层和电子阻挡层中的任意一种，优选成膜工艺选自喷涂、喷墨打印、旋涂、丝网印刷和狭缝涂布中的任意一种。进一步地，上述光电器件为OLED或QLED。根据本专利技术的另一方面，提供了一种光电器件，包括功能层，该功能层采用上述任一种的制备方法制备而成。应用本专利技术的技术方案，通过在设置功能层材料之前设置牺牲材料形成界面层，高熔点的第一牺牲材料溶于第二牺牲材料中形成均质溶液，因此所形成的界面层厚度均匀；同时第一牺牲材料的沸点高于第二牺牲材料，因此当界面层墨水设置后，第二牺牲材料相对快速挥发，导致界面层液膜体系温度的下降，当体系内第二牺牲材料的量不足以维持第一牺牲材料再以液体的状态融合在界面层液膜中时，第一牺牲材料就会发生凝结，随着体系内溶剂的进一步挥发，整个界面层液膜会发生凝结形成界面层(固态)，此时，由于两种牺牲材料的沸点差异、组成比例的不同，会形成不同形态的界面层，如海状、海-岛状或岛状，如此多样化的界面层可在一定范围内调控上功能层墨水的亲润铺展性能，当光电器件是发光器件时，还可以防止相邻像素的混色；同时由于界面层材料与功能层墨水的亲润性可调，因此保证了所形成的功能层的膜层均匀性。由于形成界面层的材料均为牺牲材料即有机材料，因此在对功能层液膜进行加热的同时可以随着功能层液膜中的溶剂挥发而挥发，即使没有挥发也可以通过进一步的加热去除，不会残留在功能层中。附图说明构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1示出了本专利技术的实施例4制备得到的光电器件的RGB像素的显微镜照片；以及图2示出了本专利技术的对比例2制备得到的光电器件的RGB像素的显微镜照片。具体实施方式需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本专利技术。如本申请
技术介绍
所分析的，现有技术的各种功能层的制备方法均不能兼顾提高各功能层材料成膜均匀性和避免混色的问题，为了解决该问题，本申请提供了光电器件功能层的制备方法和光电器件。在本申请一种典型的实施方式中，提供了一种光电器件功能层的制备方法，该制备方法包括：提供基层；提供界面层墨本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光电器件功能层的制备方法，其特征在于，包括：提供基层；提供界面层墨水，所述界面层墨水包括第一牺牲材料和第二牺牲材料，所述第一牺牲材料溶于所述第二牺牲材料，所述第一牺牲材料的熔点高于所述第二牺牲材料的熔点且所述第一牺牲材料的沸点高于所述第二牺牲材料的沸点，所述界面层墨水与所述基层不溶；采用成膜工艺将所述界面层墨水设置在所述基层上，形成界面层液膜；使所述界面层液膜的至少部分所述第二牺牲材料挥发，形成界面层；在所述界面层上设置功能层墨水，得到功能层液膜；以及对所述功能层液膜进行加热，并去除所述界面层，形成功能层；其中，所述界面层包括多个散布的岛状结构、海状膜层中的一种或两种。

【技术特征摘要】
1.一种光电器件功能层的制备方法，其特征在于，包括：提供基层；提供界面层墨水，所述界面层墨水包括第一牺牲材料和第二牺牲材料，所述第一牺牲材料溶于所述第二牺牲材料，所述第一牺牲材料的熔点高于所述第二牺牲材料的熔点且所述第一牺牲材料的沸点高于所述第二牺牲材料的沸点，所述界面层墨水与所述基层不溶；采用成膜工艺将所述界面层墨水设置在所述基层上，形成界面层液膜；使所述界面层液膜的至少部分所述第二牺牲材料挥发，形成界面层；在所述界面层上设置功能层墨水，得到功能层液膜；以及对所述功能层液膜进行加热，并去除所述界面层，形成功能层；其中，所述界面层包括多个散布的岛状结构、海状膜层中的一种或两种。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一牺牲材料的熔点大于等于15℃，优选所述第一牺牲材料的熔点在20～80℃之间，更优选在20～50℃之间。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第二牺牲材料的熔点小于等于0℃。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第二牺牲材料的沸点在60～250℃之间，所述第一牺牲材料的沸点与所述第二牺牲材料的沸点之差大于等于30℃。5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一牺牲材料和所述第二牺牲材料的质量比为2:98～98:2。6.根据权利要求1所述的制...

【专利技术属性】
技术研发人员：顾辛艳，
申请(专利权)人：纳晶科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33