一种真空镀膜机制造技术

本发明专利技术公开了一种真空镀膜机，包括真空腔体、位于真空腔体顶部中间位置的镀膜鼓、位于所述镀膜鼓下方的蒸发器、位于真空腔体内两侧的靶材、以及靠近所述靶材且可以转动的工件架，所述镀膜鼓上卷绕有需要进行蒸镀的基材，所述蒸发器加热时，在蒸发器和镀膜鼓之间形成有蒸镀空间。本发明专利技术的真空镀膜机一方面能在蒸发器的作用下将镀膜材料加热蒸发，镀膜材料蒸发后向上扩散到镀膜鼓处，附着在温度较低的镀膜鼓的基材上，形成厚薄均匀的薄膜；另一方面，工件架在转动的同时均可旋转至与靶材相对的位置，从而各侧面上的工件均能完成镀膜，镀膜效率高。本发明专利技术的结构简单，能够同时进行蒸发镀膜和溅射镀膜，生产效率高，并有利于降低镀膜产品的成本。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜机
本专利技术涉及镀膜设备的
，具体涉及一种真空镀膜机。
技术介绍
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。真空镀膜机工作时：先抽真空，使真空室处于真空状态，再通过电子枪束流对真空室底部坩埚内的镀膜材料（简称膜料）加热；膜料在加热到一定的温度后，膜料分子会产生挥发，挥发出的膜料分子沉积在真空室顶部的产品表面形成薄膜。但现有的真空镀膜机只能蒸发镀膜或溅射镀膜，生产效率低。
技术实现思路
为克服现有技术中的不足，本专利技术目的是提供一种真空镀膜机，能够同时进行蒸发镀膜和溅射镀膜，镀膜效率高。为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种真空镀膜机，包括真空腔体、位于真空腔体顶部中间位置的镀膜鼓、位于所述镀膜鼓下方的蒸发器、位于真空腔体内两侧的靶材、以及靠近所述靶材且可以转动的工件架，所述镀膜鼓上卷绕有需要进行蒸镀的基材，所述蒸发器加热时，在蒸发器和镀膜鼓之间形成有蒸镀空间；所述工件架由驱动机构带动进行自转。优选的，所述驱动机构包括锥齿组和驱动电机，所述锥齿组包括与所述驱动电机转动连接的锥齿齿盘和与所述锥齿齿盘传动连接的锥齿轮，所述工件架的端部与所述锥齿轮固定连接。其中，所述蒸发器的壳体两端分别具有电极，所述电极分别与电源的正负极接通，所述壳体上还具有辅助加热片，所述辅助加热片与壳体形成用于放置镀膜材料的容纳空间，所述辅助加热片的底部部分与所述壳体相连，所述壳体和辅助加热片均采用导电材料制成。在本专利技术优选实施例中，所述工件架的横向截面呈矩形状，所述工件架的各个侧面均能装载工件。在本专利技术优选实施例中，所述靶材为圆柱形靶材。可选的，所述真空镀膜机还包括氩气输送机构，所述氩气输送机构包括氩气输送管道以及设置于所述氩气输送管道上的控制阀。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：本专利技术的真空镀膜机一方面能在蒸发器的作用下将镀膜材料加热蒸发，镀膜材料蒸发后向上扩散到镀膜鼓处，附着在温度较低的镀膜鼓的基材上，形成厚薄均匀的薄膜；另一方面，往真空腔体内通入一定气压的氩气，氩气在高电压电场作用下电离为氩离子，氩离子加速轰击靶材，从而将靶材材料溅射到工件表面，形成薄膜，工件架在转动的同时均可旋转至与靶材相对的位置，从而各侧面上的工件均能完成镀膜，镀膜效率高。本专利技术的结构简单，能够同时进行蒸发镀膜和溅射镀膜，生产效率高，并有利于降低镀膜产品的成本。附图说明为了更清楚地说明本专利技术的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它附图。图1是本专利技术实施例提供的真空镀膜机的结构示意图。图2是本专利技术实施例提供的真空镀膜机的蒸发器的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。如图1和图2所示，本专利技术的真空镀膜机包括真空腔体10、位于真空腔体顶部中间位置的镀膜鼓20、位于所述镀膜鼓20下方的蒸发器30、位于真空腔体10内两侧的靶材40、以及靠近所述靶材40且可以转动的工件架50，所述镀膜鼓20上卷绕有需要进行蒸镀的基材，所述蒸发器30的壳体两端分别具有电极31，所述电极31分别与电源的正负极接通，所述壳体上还具有辅助加热片32，所述辅助加热片32与壳体形成用于放置镀膜材料的容纳空间，所述辅助加热片32的底部部分与所述壳体相连，所述壳体和辅助加热片32均采用导电材料制成。所述蒸发器30加热时，在蒸发器30和镀膜鼓20之间形成有蒸镀空间，蒸发器30底部的热量通过热传导到镀膜材料上，辅助加热片32表面的热量通过热辐射到镀膜材料上，改善蒸发器30内镀膜材料的受热情况，使镀膜材料能够迅速蒸发扩散到真空镀膜机的内部空间，并随气流蒸镀于镀膜鼓20的基材上，同时，随着镀膜鼓20的自转，基材上被均匀蒸镀一层镀膜材料，提高了镀膜机的加工效率。所述工件架50由驱动机构带动进行自转，其中，所述驱动机构包括锥齿组和驱动电机60，所述锥齿组包括与所述驱动电机60转动连接的锥齿齿盘70和与所述锥齿齿盘70传动连接的锥齿轮80，所述工件架50的端部与所述锥齿轮80固定连接，由此，通过锥齿组和驱动电机60能带动工件架50进行转动。所述工件架50的横向截面呈矩形状，所述工件架的各个侧面均能装载工件，所述工件架的表面呈矩形，工件架50的结构简单，安装方便，不容易产生干涉现象。在工件架50的侧面上均装载上工件，各侧面上的工件在自转过程中，均可旋转至与靶材40相对的位置，从而各侧面上的工件均能完成镀膜。本专利技术的真空镀膜机还包括氩气输送机构，所述氩气输送机构包括氩气输送管道以及设置于所述氩气输送管道上的控制阀，在真空条件下，通入一定气压的氩气，氩气在高电压电场作用下电离为氩离子，氩离子加速轰击靶材，从而将靶材材料溅射到工件表面，形成薄膜。另外，所述工件架50的表面具有低粘度的Pe膜片，待镀膜工件直接通过Pe膜片粘附在工件架上，装片方便，节省了装片夹具的成本，并且，待镀膜工件上需要镀膜的表面上没有任何附加零部件，使待镀膜工件的镀膜质量更好。本专利技术中的靶材40为圆柱形靶材，相比于平面靶，圆柱形靶材的利用率高。在镀膜时即使发生氧化反应，也不容易生成氧化物而污染靶面。本专利技术的真空镀膜机一方面能在蒸发器30的作用下将镀膜材料加热蒸发，镀膜材料蒸发后向上扩散到镀膜鼓20处，附着在温度较低的镀膜鼓20的基材上，形成厚薄均匀的薄膜；另一方面，往真空腔体10内通入一定气压的氩气，氩气在高电压电场作用下电离为氩离子，氩离子加速轰击靶材40，从而将靶材40材料溅射到工件表面，形成薄膜，工件架50在转动的同时均可旋转至与靶材40相对的位置，从而各侧面上的工件均能完成镀膜，镀膜效率高。本专利技术的结构简单，能够同时进行蒸发镀膜和溅射镀膜，生产效率高，并有利于降低镀膜产品的成本。以上所揭露的仅为本专利技术的几种较佳实施例而已，当然不能以此来限定本专利技术之权利范围，因此依本专利技术权利要求所作的等同变化，仍属本专利技术所涵盖的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空镀膜机 ，其特征在于：包括真空腔体、位于真空腔体顶部中间位置的镀膜鼓、位于所述镀膜鼓下方的蒸发器、位于真空腔体内两侧的靶材、以及靠近所述靶材且可以转动的工件架，所述镀膜鼓上卷绕有需要进行蒸镀的基材，所述蒸发器加热时，在蒸发器和镀膜鼓之间形成有蒸镀空间；所述工件架由驱动机构带动进行自转。

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜机，其特征在于：包括真空腔体、位于真空腔体顶部中间位置的镀膜鼓、位于所述镀膜鼓下方的蒸发器、位于真空腔体内两侧的靶材、以及靠近所述靶材且可以转动的工件架，所述镀膜鼓上卷绕有需要进行蒸镀的基材，所述蒸发器加热时，在蒸发器和镀膜鼓之间形成有蒸镀空间；所述工件架由驱动机构带动进行自转。2.根据权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于：所述驱动机构包括锥齿组和驱动电机，所述锥齿组包括与所述驱动电机转动连接的锥齿齿盘和与所述锥齿齿盘传动连接的锥齿轮，所述工件架的端部与所述锥齿轮固定连接。3.根据权利要求1或2所述的真空镀膜机，其特征在于：所述蒸...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱晖，
申请(专利权)人：邱晖，
类型：发明
国别省市：福建,35