一种化合物的制造方法，包含下述工序：在有机溶剂中，使式：Q‑OH(式中，Q表示能够具有取代基的有机基团。)所表示的羟基化合物与1,4‑环己烷二甲酰二氯和/或1,4‑环己烷二甲酸反应，从而得到包含下述式(I)所表示的单酯化合物(式中，A表示羟基或氯原子，Q表示与上述相同的意思。)、以及1,4‑环己烷二甲酰二氯和/或1,4‑环己烷二甲酸的反应生成物的工序；以及将反应生成物与酸性水溶液混合的工序。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】化合物的制造方法、化合物以及混合物
本专利技术涉及化合物的制造方法、化合物、以及包含该化合物的混合物，上述化合物可成为在光学膜、光学各向异性体的制造中所使用的聚合性化合物的制造中间体。
技术介绍
平板显示装置等各种装置中所使用的相位差板有将直线偏振光转换为圆偏振光的1/4波片、对直线偏振光的偏振光振动面进行90度转换的1/2波片等。这些相位差板对于某特定的单色光能够准确地给予光线波长的1/4λ或1/2λ的相位差。但是，在现有的相位差板中存在着通过相位差板而输出的偏振光被变换为有色的偏振光的问题。这起因于：构成相位差板的材料对相位差具有波长色散性，对于作为混合有可见光区域的光线的合成波的白色光，在各个波长的偏振状态产生分布，因此不可能将输入光在全部的波长区域中都调节为准确的1/4λ或1/2λ的相位差的偏振光。为了解决这样的问题，研究了各种对于宽波长区域的光可给予均匀的相位差的宽频带相位差板、具有所谓反波长色散性的相位差板。另一方面，随着移动电脑、移动电话等移动型的信息终端的高功能化和普及，逐渐要求将平板显示装置的厚度极力地抑制得薄。其结果，也要求作为构成构件的相位差板的薄层化。作为薄层化的方法，将含有低分子聚合性化合物的聚合性组合物涂敷于膜基材而形成光学膜从而制作相位差板的方法被认为是近年来最有效的方法。因此，大量地进行可形成具有优异的反波长色散性的光学膜的聚合性化合物、或使用该聚合性化合物的聚合性组合物的开发。作为可成为这样的聚合性化合物的制造中间体的化合物，优选使用具有1个以上羧基的羧酸酯化合物。在此，一直以来，在制造具有1个以上羧基的羧酸酯化合物时，研究了各种制造方法。作为一直以来研究的一种制造方法，可举出使醇与二羧酸氯化物反应的制造方法(参考例如专利文献1)。此外，作为其它制造方法，可举出包含以下工序的具有1个以上羧基的羧酸酯化合物的制造方法(参考例如专利文献2)：通过混合具有1个羟基的化合物(A)与具有2个以上羧基的化合物(B)从而进行酯化反应的工序(工序1)；将工序1中得到的反应混合物与碱性化合物和水混合，得到悬浊液的工序(工序2)；以及从在工序2中得到的悬浊液中获得包含具有1个以上羧基的羧酸酯化合物的固体成分的工序(工序3)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开昭62-289545号公报；专利文献2：日本特开2015-157776号公报。
技术实现思路
专利技术要解决的问题在此，以工业生产规模来制造光学膜、光学各向异性体(以下有时将两者统称为“光学膜等”。)的情况下，需要高效地制造聚合性化合物。因此，要求高效且高品质地制造成为聚合性化合物的中间体的化合物(以下也称为“中间体化合物”)。然而，上述专利文献1和2记载的制造方法无法以高水平兼顾中间体化合物的制造效率和得到的中间体化合物的品质。本专利技术是鉴于上述实际情况而完成的，目的在于提供一种能够高效地制造高品质的中间体化合物的化合物的制造方法。此外，本专利技术的目的在于提供可成为高品质的中间体化合物的前体的化合物、和包含这样的化合物的混合物。用于解决问题的方案本专利技术人为了解决上述问题，进行了深入研究，结果发现在有机溶剂中利用特定的羧酸酯化合物将特定结构的羟基化合物进行酯化而得到反应生成物，进而将得到的反应生成物与具有规定的性质的至少一种液体混合，从而能够高效地制造高品质的中间体化合物，完成了本专利技术。这样根据本专利技术，可提供下述所示的化合物的制造方法、化合物和混合物。[1]一种化合物的制造方法，包含下述工序：在有机溶剂中，使式：Q-OH(式中，Q表示能够具有取代基的有机基团。)所表示的羟基化合物与1,4-环己烷二甲酰二氯和/或1,4-环己烷二甲酸反应，从而得到包含下述式(I)所表示的单酯化合物、以及1,4-环己烷二甲酰二氯和/或1,4-环己烷二甲酸的反应生成物的工序(A1)；以及将上述反应生成物与酸性缓冲溶液混合的工序(A2)。[化学式1](式中，A表示羟基或氯原子，Q表示与上述相同的意思。)[2]根据上述[1]所述的制造方法，其中，上述有机溶剂为亲水性有机溶剂。[3]根据上述[1]或[2]所述的制造方法，其中，在上述工序(A1)与上述工序(A2)之间，进一步包含将上述反应生成物与水混合的工序(工序A1-1)。[4]根据上述[1]～[3]中任一项所述的制造方法，其中，上述酸性缓冲溶液的pH为5.0以上且6.0以下。[5]一种化合物的制造方法，包含下述工序：在有机溶剂中，使式：Q-OH(式中，Q表示能够具有取代基的有机基团。)所表示的羟基化合物与1,4-环己烷二甲酰二氯和/或1,4-环己烷二甲酸反应，从而得到包含下述式(I)所表示的单酯化合物、以及1,4-环己烷二甲酰二氯和/或1,4-环己烷二甲酸的反应溶液的工序(B1)；在上述反应溶液中混合碱性化合物和水，从而得到析出物的工序(B2)；以及将在上述工序(B2)中得到的上述析出物直接以固体状态、或制成溶解状态与酸性水溶液混合的工序(B3)。[化学式2](式中，A表示羟基或氯原子，Q表示与上述相同的意思。)[6]根据上述[5]所述的制造方法，其中，上述酸性水溶液的酸解离常数pKa为6.5以下。[7]根据上述[5]所述的制造方法，其中，上述酸性水溶液为pH5.0以上且6.0以下的酸性缓冲溶液。[8]根据上述[1]～[4]、[7]中任一项所述的制造方法，其中，上述酸性缓冲溶液为乙酸和乙酸钠的混合溶液、或邻苯二甲酸氢钾和氢氧化钠的混合溶液。[9]根据上述[1]～[8]中任一项所述的制造方法，其中，上述式(I)所表示的化合物的上述有机基团Q由下述式(Ⅱ)所表示。[化学式3](式中，R表示氢原子或甲基、Y1表示化学单键、-O-、-S-、-O-C(＝O)-、-C(＝O)-O-、-O-C(＝O)-O-、-NR1-C(＝O)-、或-C(＝O)-NR1-。在此，R1表示氢原子或碳原子数为1～6的烷基。G1表示能够具有取代基的碳原子数为1～20的2价链状脂肪族基团。[在该脂肪族基团中能够插入有-O-、-S-、-O-C(＝O)-、-C(＝O)-O-、-O-C(＝O)-O-、-NR2-C(＝O)-、-C(＝O)-NR2-、-NR2-、或-C(＝O)-。其中，-O-或-S-各自2以上邻接而插入的情况除外。在此，R2表示氢原子或碳原子数为1～6的烷基。]A1表示能够具有取代基的碳原子数为3～12的2价芳香族烃环、或能够具有取代基的碳原子数为3～12的2价环状脂肪族基团。n表示0或1。)[10]一种化合物，由下述式(Ⅲ)所表示。[化学式4](式中，R表示氢原子或甲基、Y1表示化学单键、-O-、-S-、-O-C(＝O)-、-C(＝O)-O-、-O-C(＝O)-O-、-NR1-C(＝O)-、或-C(＝O)-NR1-。在此，R1表示氢原子或碳原子数为1～6的烷基。G1表示能够具有取代基的碳原子数为1～20的2价链状脂肪族基团。[在该脂肪族基团中能够插入有-O-、-S-、-O-C(＝O)-、-C(＝O)-O-、-O-C(＝O)-O-、-NR2-C(＝O)-、-C(＝O)-NR2-、-NR2-、或-C(＝O)-。其中，-O-或-S-各自2个以上邻接而插入的情况除外。在此，R2表示氢原子或碳原子数为1～6的烷基。]A1表示能够具有取代基的碳原本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种化合物的制造方法，包含下述工序：工序A1，在有机溶剂中，使式：Q‑OH所表示的羟基化合物与1,4‑环己烷二甲酰二氯和/或1,4‑环己烷二甲酸反应，从而得到包含下述式(I)所表示的单酯化合物、以及1,4‑环己烷二甲酰二氯和/或1,4‑环己烷二甲酸的反应生成物，以及工序A2，将所述反应生成物与酸性缓冲溶液混合，式：Q‑OH中，Q表示能够具有取代基的有机基团，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.05.18 JP 2016-1000121.一种化合物的制造方法，包含下述工序：工序A1，在有机溶剂中，使式：Q-OH所表示的羟基化合物与1,4-环己烷二甲酰二氯和/或1,4-环己烷二甲酸反应，从而得到包含下述式(I)所表示的单酯化合物、以及1,4-环己烷二甲酰二氯和/或1,4-环己烷二甲酸的反应生成物，以及工序A2，将所述反应生成物与酸性缓冲溶液混合，式：Q-OH中，Q表示能够具有取代基的有机基团，式(I)中，A表示羟基或氯原子，Q表示与上述相同的意思。2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，所述有机溶剂为亲水性有机溶剂。3.根据权利要求1或2所述的制造方法，其中，在所述工序A1与所述工序A2之间，进一步包含工序A1-1：将所述反应生成物与水混合的工序。4.根据权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其中，所述酸性缓冲溶液的pH为5.0以上且6.0以下。5.一种化合物的制造方法，包含下述工序：工序B1，在有机溶剂中，使式：Q-OH所表示的羟基化合物与1,4-环己烷二甲酰二氯和/或1,4-环己烷二甲酸反应，从而得到包含下述式(I)所表示的单酯化合物、以及1,4-环己烷二甲酰二氯和/或1,4-环己烷二甲酸的反应溶液，工序B2，在所述反应溶液中混合碱性化合物和水而得到析出物，以及工序B3，将在所述工序B2中得到的所述析出物直接以固体状态、或制成溶解状态与酸性水溶液混合，式：Q-OH中，Q表示能够具有取代基的有机基团，式(I)中，A表示羟基或氯原子，Q表示与上述相同的意思。6.根据权利要求5所述的制造方法，其中，所述酸性水溶液的酸解离常数pKa为6.5以下。7.根据权利要求5所述的制造方法，其中，所述酸性水溶液为pH5.0以上且6.0以下的酸性缓冲溶液。8.根据权利要求1～4、7中任一项所述的制造方法，其中，所述酸性缓冲溶液为乙酸和乙酸钠的混合溶液、或邻苯二甲酸氢钾和氢氧化钠的混合溶液。9.根据权利要求1～8中任一项所述的制造方法，其中，所述式(I)所表示的化合物的所述有机基团Q由下述式(Ⅱ)所表示，式中，R表示氢原子或甲基，Y1表示化学单键、-O-、-S-、-O-C(＝O)-、-C(＝O)-O-、-O-C(＝O)-O-、-NR1-C(＝O)-、或-C(＝O)-NR1-，在此，R1表...
【专利技术属性】
技术研发人员：坂本圭，奥山久美，
申请(专利权)人：日本瑞翁株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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