除草化合物及其作为除草剂的用途制造技术

本申请提供4‑氨基‑6‑(杂环基)吡啶‑2‑甲酸及其衍生物和6‑氨基‑2‑(杂环基)嘧啶‑4‑羧酸酯及其衍生物用于控制不期望的植被。不期望的植被例如杂草的产生是农场主在作物、牧场和其他场所中一直遇到的问题。杂草与作物竞争并且不利地影响着作物的收率。使用化学除草剂在防治不期望的植被中是重要的工具。

Herbicide Compounds and Their Use as Herbicides

This application provides 4 amino 6 (heterocyclic) pyridine 2 formic acid and its derivatives and 6 amino (heterocyclic) pyrimidine 4 carboxylic acid esters and their derivatives for the control of undesirable vegetation. Unexpected vegetation, such as weeds, is a constant problem for farmers in crops, pastures and other places. Weeds compete with crops and adversely affect crop yields. The use of chemical herbicides is an important tool in controlling undesirable vegetation.

【技术实现步骤摘要】
除草化合物及其作为除草剂的用途本专利技术申请是基于申请日为2014年3月12日，申请号为201480027999.7(国际申请号为PCT/US2014/024749)，专利技术名称为“4-氨基-6-(杂环基)吡啶-2-甲酸酯和6-氨基-2-(杂环基)嘧啶-4-羧酸酯以及它们作为除草剂的用途”的专利申请的分案申请。相关申请的交叉参考本申请要求2013年3月15日提交的美国临时专利申请61/790,391的权益，将其公开内容明确并入本申请作为参考。
本专利技术涉及除草化合物和组合物以及涉及用于防治不期望植被的方法。
技术介绍
不期望的植被例如杂草的产生是农场主在作物、牧场和其他场所中一直遇到的问题。杂草与作物竞争并且不利地影响着作物的收率。使用化学除草剂在防治不期望的植被中是重要的工具。仍需要新的化学除草剂，该新的化学除草剂具有更宽的杂草控制谱、选择性、对作物的损害最小、贮存稳定性、易操作性、更高的抗杂草活性和/或是解决针对目前使用的除草剂发展出的除草剂耐药的手段。
技术实现思路
本申请提供式(I)化合物或其N-氧化物或农用盐：其中X为N或CY，其中Y为氢、卤素、C1-C3烷基、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷氧基、C1-C3烷硫基或C1-C3卤代烷硫基；R1为OR1′或NR1″R1″′，其中R1′为氢、C1-C8烷基或C7-C10芳基烷基，且R1″和R1″′独立地为氢、C1-C12烷基、C3-C12烯基或C3-C12炔基；R2为卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C4烯基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷硫基、C1-C4卤代烷硫基、氨基、C1-C4烷基氨基、C2-C4卤代烷基氨基、甲酰基、C1-C3烷基羰基、C1-C3卤代烷基羰基、氰基或式-CR17＝CR18-SiR19R20R21的基团，其中R17为氢、F或Cl；R18为氢、F、Cl、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；且R19、R20和R21独立地为C1-C10烷基、C3-C6环烷基、苯基、取代苯基、C1-C10烷氧基或OH；R3和R4独立地为氢、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C3-C6烯基、C3-C6卤代烯基、C3-C6炔基、甲酰基、C1-C3烷基羰基、C1-C3卤代烷基羰基、C1-C6烷氧基羰基、C1-C6烷基氨基甲酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6三烷基甲硅烷基、C1-C6二烷基氧膦基，或者R3和R4与N一起为5-或6元饱和或不饱和环，或者R3和R4一起表示＝CR3′(R4′)，其中R3′和R4′独立地为氢、C1-C6烷基、C3-C6烯基、C3-C6炔基、C1-C6烷氧基或C1-C6烷基氨基，或者R3′和R4′与＝C一起表示5-或6-元饱和环；A为基团Ar1至Ar28之一:R5为氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷硫基、C1-C3卤代烷硫基、氨基、C1-C4烷基氨基或C2-C4卤代烷基氨基。R6为氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷硫基、C1-C3卤代烷硫基、氨基、C1-C4烷基氨基或C2-C4卤代烷基氨基；R6′为氢或卤素；R6″为氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、环丙基、卤代环丙基、C2-C4烯基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷硫基、C1-C3卤代烷硫基、氨基、C1-C4烷基氨基、C2-C4卤代烷基氨基、CN或NO2；R7和R7′独立地为氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基或C1-C3烷氧基；R8和R8′独立地为氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基或C1-C3烷氧基；R9、R9′、R9″和R9″′独立地为氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基或C1-C3烷氧基；R10为氢、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C3-C6烯基、C3-C6卤代烯基、C3-C6炔基、甲酰基、C1-C3烷基羰基、C1-C3卤代烷基羰基或C1-C6三烷基甲硅烷基；m，当存在时，为0、1或2；和n，当存在时，为0、1或2；条件是A不为还提供了防治不期望的植被的方法，包括施用式(I)化合物或其N-氧化物或农用盐。本申请涉及以下技术方案：1.式(I)化合物：其中X为N或CY，其中Y为氢、卤素、C1-C3烷基、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷氧基、C1-C3烷硫基或C1-C3卤代烷硫基；R1为OR1′或NR1″R1″′，其中R1′为氢、C1-C8烷基或C7-C10芳基烷基，和R1″和R1″′独立地为氢、C1-C12烷基、C3-C12烯基或C3-C12炔基；R2为卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C4烯基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷硫基、C1-C4卤代烷硫基、氨基、C1-C4烷基氨基、C2-C4卤代烷基氨基、甲酰基、C1-C3烷基羰基、C1-C3卤代烷基羰基、氰基或式-CR17＝CR18-SiR19R20R21的基团，其中R17为氢、F或Cl；R18为氢、F、Cl、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；和R19、R20和R21独立地为C1-C10烷基、C3-C6环烷基、苯基、取代的苯基、C1-C10烷氧基或OH；R3和R4独立地为氢、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C3-C6烯基、C3-C6卤代烯基、C3-C6炔基、甲酰基、C1-C3烷基羰基、C1-C3卤代烷基羰基、C1-C6烷氧基羰基、C1-C6烷基氨基甲酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6三烷基甲硅烷基、C1-C6二烷基氧膦基或R3和R4与N一起为5-或6-元饱和环或不饱和环，或者R3和R4一起代表＝CR3′(R4′)，其中R3′和R4′独立地为氢、C1-C6烷基、C3-C6烯基、C3-C6炔基、C1-C6烷氧基或C1-C6烷基氨基，或者R3′和R4′与＝C一起代表5-或6-元饱和环；A为基团Ar1至Ar28之一：R5为氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷硫基、C1-C3卤代烷硫基、氨基、C1-C4烷基氨基或C2-C4卤代烷基氨基；R6为氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷硫基、C1-C3卤代烷硫基、氨基、C1-C4烷基氨基或C2-C4卤代烷基氨基；R6′为氢或卤素；R6″为氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、环丙基、卤代环丙基、C2-C4烯基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷硫基、C1-C3卤代烷硫基、氨基、C1-C4烷基氨基、C2-C4卤代烷基氨基、CN或NO2；R7和R7′独立地为氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基或C1-C3烷氧基；R8和R8′独立地为氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基或C1-C3烷氧基；R9、R9′、R9″和R9″′独立地为氢、卤素、C1-C4烷本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.式(I)化合物：

【技术特征摘要】
2013.03.15 US 61/790,3911.式(I)化合物：其中X为N或CY，其中Y为氢、卤素、C1-C3烷基、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷硫基或C1-C3卤代烷硫基；R1为OR1′或NR1″R1″′，其中R1′为氢、C1-C8烷基或C7-C10芳基烷基，和R1″和R1″′独立地为氢、C1-C12烷基、C3-C12烯基或C3-C12炔基；R2为卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C4烯基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷硫基、C1-C4卤代烷硫基、氨基、C1-C4烷基氨基、C2-C4卤代烷基氨基、甲酰基、C1-C3烷基羰基、C1-C3卤代烷基羰基、氰基或式-CR17＝CR18-SiR19R20R21的基团，其中R17为氢、F或Cl；R18为氢、F、Cl、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；和R19、R20和R21独立地为C1-C10烷基、C3-C6环烷基、苯基、取代的苯基、C1-C10烷氧基或OH；R3和R4独立地为氢、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C3-C6烯基、C3-C6卤代烯基、C3-C6炔基、甲酰基、C1-C3烷基羰基、C1-C3卤代烷基羰基、C1-C6烷氧基羰基、C1-C6烷基氨基甲酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6三烷基甲硅烷基、C1-C6二烷基氧膦基或R3和R4与N一起为5-或6-元饱和环或不饱和环，或者R3和R4一起代表＝CR3′(R4′)，其中R3′和R4′独立地为氢、C1-C6烷基、C3-C6烯基、C3-C6炔基、C1-C6烷氧基或C1-C6烷基氨基，或者R3′和R4′与＝C一起代表5-或6-元饱和环；A为基团Ar1、Ar2、Ar3、Ar25、Ar26、Ar27或Ar28之一：R5为氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷硫基、C1-C3卤代烷硫基、C1-C4烷基氨基或C2-C4卤代烷基氨基；R6为氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷硫基、C1-C3卤代烷硫基、C1-C4烷基氨基或C2-C4卤代烷基氨基；R6′为氢或卤素；R6″为氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、环丙基、卤代环丙基、C2-C4烯基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷硫基、C1-C3卤代烷硫基、氨基、C1-C4烷基氨基、C2-C4卤代烷基氨基、CN或NO2；R7和R7′独立地为氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基或C1-C3烷氧基；R8和R8′独立地为氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基或C1-C3烷氧基；R9、R9′、R9″和R9″′独立地为氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基或C1-C3烷氧基；R10为氢、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C3-C6烯基、C3-C6卤代烯基、C3-C6炔基、甲酰基、C1-C3烷基羰基、C1-C3卤代烷基羰基或C1-C6三烷基甲硅烷基；或其N-氧化物或农用盐；条件是A不为2.权利要求1的化合物，其中X为N或CY，其中Y为氢、卤素、C1-C3烷基、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷硫基或C1-C3卤代烷硫基；R1为OR1′或NR1″R1，其中R1′为氢、C1-C8烷基或C7-C10芳基烷基，且R1″和R1″′独立地为氢、C1-C12烷基、C3-C12烯基或C3-C12炔基；R2为卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C4烯基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷硫基、C1-C4卤代烷硫基、氨基、C1-C4烷基氨基、C2-C4卤代烷基氨基、甲酰基、C1-C3烷基羰基、C1-C3卤代烷基羰基、氰基或式-CR17＝CR18-SiR19...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·D·艾克尔巴杰，J·B·埃普，L·G·费希尔，C·T·洛，J·佩特库斯，J·罗思，N·M·萨奇维，P·R·施米策，T·L·西多尔，
申请(专利权)人：美国陶氏益农公司，
类型：发明
国别省市：美国,US