双膜可热弯LOW-E玻璃制造技术

本实用新型专利技术属于玻璃技术领域，尤其涉及一种双膜可热弯LOW‑E玻璃。该双膜可热弯LOW‑E玻璃包括具有锡面层和空气面层的玻璃基板，锡面层和空气面层的表面分别覆盖固定有第一膜层组件和第二膜层组件；第一膜层组件包括第一电介质干涉层、第二电介质干涉层、半导体低辐射层、第一复合介质保护层以及第二复合介质保护层；第二膜层组件包括第三电介质干涉层、第四电介质干涉层、第一合金光吸收层、金属低辐射层、第二合金光吸收层、第一电介质抗氧化层、第二电介质抗氧化层、第三复合介质保护层以及第四复合介质保护层。该LOW‑E玻璃具有高透光、低传热、高节能的性能特点，提升了现有镀膜玻璃产品的功能，增加了镀膜玻璃产品的多元性。

Double film thermally bent LOW-E glass

The utility model belongs to the field of glass technology, in particular to a double film thermally bent LOW E glass. The double-film thermally bendable LOW_E glass comprises a glass substrate with tin and air surface layers, and the surfaces of tin and air surface layers are respectively covered and fixed with a first film module and a second film module; the first film module comprises a first dielectric interference layer, a second dielectric interference layer, a semiconductor low radiation layer and a first composite medium. The second layer consists of the third dielectric interference layer, the fourth dielectric interference layer, the first alloy optical absorption layer, the metal low radiation layer, the second alloy optical absorption layer, the first dielectric oxidation layer, the second dielectric oxidation layer, the third composite dielectric protection layer and the third composite dielectric protection layer. Four composite dielectric protection layer. The LOW_E glass has the characteristics of high light transmission, low heat transfer and high energy saving. It improves the functions of existing coated glass products and increases the diversity of coated glass products.

【技术实现步骤摘要】
双膜可热弯LOW-E玻璃
本技术属于玻璃
，尤其涉及一种双膜可热弯LOW-E玻璃。
技术介绍
上世纪80年代开始，离线真空磁控溅射镀制低辐射镀膜玻璃技术得到迅猛的发展，从而使镀膜玻璃得到推广，与此同时，随着国家对建筑节能要求的不断提高，这类低辐射镀膜节能玻璃的应用普及程度也得到了不断的提高。同时，人们在选择建筑门窗玻璃时，除了考虑其外观美学特征外，也越来越注重玻璃的节能特性，如热量控制、制冷成本以及内部阳光投射舒适平衡等的问题。其中最主要的是解决热量透过问题，即如何控制玻璃对红外线波段的阻挡，使其透热量最少、保温性最高，从而降低制冷或采暖费用来提升节能性，也就是说，同时做到光热平衡是目前低辐射镀膜玻璃首要解决的问题。目前市面上常见的可以控制热能的低辐射镀膜玻璃有单银LOW-E玻璃、双银LOW-E玻璃以及三银LOW-E玻璃，虽然后两者的热量透过率相对较低、光热平衡度较好，但是同样的制作面积，后两者的制造成本要比单银LOW-E玻璃高出3至6倍，故而对节能要求高的建筑成本也会大幅度增加。此外，虽然双银LOW-E和三银LOW-E的玻璃产品可以控制较低的传热，但是其不能满足高遮阳的要求，故其在北方一些对遮阳及传热要求高的地区的使用也会受到限制；而单银LOW-E玻璃虽然具有较好的遮阳能力，但是其传热能力却没有双银LOW-E玻璃和三银LOW-E玻璃好。所以，设计一种既够满足低传热要求并控制遮阳，也能够达到高遮阳要求并控制传热，同时成本又相对低于双银LOW-E和三银LOW-E玻璃产品的新型节能产品是目前玻璃市场的又一发展方向。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种双膜可热弯LOW-E玻璃，旨在解决现有技术中的镀膜玻璃在传热性能、遮阳性能以及制作成本之间存在矛盾的技术问题。为实现上述目的，本技术采用的技术方案是：提供一种双膜可热弯LOW-E玻璃，包括玻璃基板，玻璃基板相对的两表面分别为锡面层和空气面层，锡面层和空气面层的表面分别覆盖固定有第一膜层组件和第二膜层组件；第一膜层组件包括依序叠设的第一电介质干涉层、第二电介质干涉层、半导体低辐射层、第一复合介质保护层以及第二复合介质保护层，第一电介质干涉层覆盖固定于锡面层上；第二膜层组件包括依序叠设的第三电介质干涉层、第四电介质干涉层、第一合金光吸收层、金属低辐射层、第二合金光吸收层、第一电介质抗氧化层、第二电介质抗氧化层、第三复合介质保护层以及第四复合介质保护层，第三电介质干涉层覆盖固定于空气面层上。优选地，第一电介质干涉层和第二电介质干涉层分别为ZnAlOX层和SiO2层；且第一电介质干涉层的厚度为20nm～40nm，第二电介质干涉层的厚度为40nm～60nm。优选地，半导体低辐射层为ITO层，且半导体低辐射层的厚度为10nm～18nm。优选地，第一复合介质保护层和第二复合介质保护层分别为SiO2层和ZrO2层；且第一复合介质保护层的厚度为20nm～40nm，第二复合介质保护层的厚度为40nm～60nm。优选地，第三电介质干涉层和第四电介质干涉层分别为Si3N4层和AZO层；且第三电介质干涉层的厚度为15nm～25nm，第四电介质干涉层的厚度为10nm～20nm。优选地，第一合金光吸收层和第二合金光吸收层均为NiCrNX层；且第一合金光吸收层和第二合金光吸收层的厚度均为4nm～15nm。优选地，金属低辐射层为AgNX层；且金属低辐射层的厚度为5nm～10nm。优选地，第一电介质抗氧化层和第二电介质抗氧化层分别为AZO层和ZnAlOX层；且第一电介质抗氧化层和第二电介质抗氧化层的厚度均为5nm～15nm。优选地，第三复合介质保护层和第四复合介质保护层分别为Si3N4层和ZrO2层；且第三复合介质保护层膜层的厚度为10nm～20nm，第四复合介质保护层膜层的厚度为10nm～15nm。优选地，玻璃基板为浮法玻璃。本技术的有益效果：本技术提供的双膜可热弯LOW-E玻璃，由于在玻璃基板的锡面层叠加设置有第一电介质干涉层、第二电介质干涉层、半导体低辐射层、第一复合介质保护层以及第二复合介质保护层，同时在玻璃基板的空气面层叠加第三电介质干涉层、第四电介质干涉层、第一合金光吸收层、金属低辐射层、第二合金光吸收层、第一电介质抗氧化层、第二电介质抗氧化层、第三复合介质保护层以及第四复合介质保护层，上述的各个功能膜层之间的相互配合作用，使该双膜可热弯LOW-E玻璃能够实现对透光、传热、遮阳以及低辐射的控制，其单片玻璃的可见光透过率为45％～85％，传热K值小于2.9，具有高透光、低传热及高节能的性能特点，提升了现有工艺及结构下的镀膜玻璃产品的功能，增加了镀膜玻璃产品的多元性；并且，双膜可热弯LOW-E玻璃的制作成本也只仅为双银LOW-E玻璃制作成本的1/2、三银LOW-E的1/4，生产成本相对较低，使其更加能够适应市场的潮流变化。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术提供的双膜可热弯LOW-E玻璃的结构示意图。其中，图中各附图标记：10—玻璃基板11—锡面层12—空气面层20—第一膜层组件21—第一电介质干涉层22—第二电介质干涉层23—半导体低辐射层24—第一复合介质保护层25—第二复合介质保护层30—第二膜层组件31—第三电介质干涉层32—第四电介质干涉层33—第一合金光吸收层34—金属低辐射层35—第二合金光吸收层36—第一电介质抗氧化层37—第二电介质抗氧化层38—第三复合介质保护层39—第四复合介质保护层。具体实施方式下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图1描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。如图1所示，本技术的提供了一种双膜可热弯LOW-E玻璃，包括玻璃基板10，玻璃基板10相对的两表面分别为锡面层11和空气面层12，锡面层11和空气面层12的表面分别覆盖固定有第一膜层组件20和第二膜层组件30；第一膜层组件20包括依序叠设的第一电介质干涉层21、第二电介质干涉层22、半导体低辐射层23、第一复合本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双膜可热弯LOW‑E玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板相对的两表面分别为锡面层和空气面层，其特征在于：所述锡面层和所述空气面层的表面分别覆盖固定有第一膜层组件和第二膜层组件；所述第一膜层组件包括依序叠设的第一电介质干涉层、第二电介质干涉层、半导体低辐射层、第一复合介质保护层以及第二复合介质保护层，所述第一电介质干涉层覆盖固定于所述锡面层上；所述第二膜层组件包括依序叠设的第三电介质干涉层、第四电介质干涉层、第一合金光吸收层、金属低辐射层、第二合金光吸收层、第一电介质抗氧化层、第二电介质抗氧化层、第三复合介质保护层以及第四复合介质保护层，所述第三电介质干涉层覆盖固定于所述空气面层上。

【技术特征摘要】
1.一种双膜可热弯LOW-E玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板相对的两表面分别为锡面层和空气面层，其特征在于：所述锡面层和所述空气面层的表面分别覆盖固定有第一膜层组件和第二膜层组件；所述第一膜层组件包括依序叠设的第一电介质干涉层、第二电介质干涉层、半导体低辐射层、第一复合介质保护层以及第二复合介质保护层，所述第一电介质干涉层覆盖固定于所述锡面层上；所述第二膜层组件包括依序叠设的第三电介质干涉层、第四电介质干涉层、第一合金光吸收层、金属低辐射层、第二合金光吸收层、第一电介质抗氧化层、第二电介质抗氧化层、第三复合介质保护层以及第四复合介质保护层，所述第三电介质干涉层覆盖固定于所述空气面层上。2.根据权利要求1所述的双膜可热弯LOW-E玻璃，其特征在于，所述第一电介质干涉层和所述第二电介质干涉层分别为ZnAlOX层和SiO2层；且所述第一电介质干涉层的厚度为20nm～40nm，第二电介质干涉层的厚度为40nm～60nm。3.根据权利要求1所述的双膜可热弯LOW-E玻璃，其特征在于，所述半导体低辐射层为ITO层，且所述半导体低辐射层的厚度为10nm～18nm。4.根据权利要求1所述的双膜可热弯LOW-E玻璃，其特征在于，所述第一复合介质保护层和第二复合介质保护层分别为SiO2层和ZrO2层；且所述第一复合介质保护层的厚度为20nm～40nm，所述第二复合介...

【专利技术属性】
技术研发人员：董清世，陈大伟，
申请(专利权)人：信义玻璃天津有限公司，
类型：新型
国别省市：天津,12