一种高透可钢化三银Low-E玻璃制造技术

本实用新型专利技术公开一种高透可钢化三银Low‑E玻璃，包括玻璃基板，玻璃基板顶面由下至上依次层叠有十六个膜层，其中第一膜层为Si3N4层、第二膜层为TiO2层、第三膜层为ZnO层、第四膜层为Ag层、第五膜层为AZO层、第六膜层为Si3N4层、第七膜层为TiO2层、第八膜层为ZnO层、第九膜层为Ag层、第十膜层为AZO层、第十一膜层为Si3N4层、第十二膜层为TiO2层、第十三膜层为ZnO层、第十四膜层为Ag层、第十五膜层为AZO层、第十六膜层为Si3N4层；该玻璃膜系结构设计合理，透过率高、反射率低、辐射率小、机械加工性能好，且制备方法简单，适于大范围推广应用。

A highly permeable and tempered three silver Low-E glass

The utility model discloses a high permeability and toughening three-silver Low_E glass, which comprises a glass substrate. The top surface of the glass substrate is successively laminated with 16 film layers from bottom to top. The first film layer is Si3N4, the second film layer is TiO2, the third film layer is ZnO, the fourth film layer is Ag, the fifth film layer is AZO, and the sixth film layer is Si3N4. The seventh layer is titanium dioxide layer, the eighth layer is zinc oxide layer, the ninth layer is Ag layer, the tenth layer is AZO layer, the eleventh layer is Si3N4 layer, the twelfth layer is titanium dioxide layer, the thirteenth layer is zinc oxide layer, the fourteenth layer is Ag layer, the fifteenth layer is AZO layer, and the sixteenth layer is Si3N4 layer. It has the advantages of high transmittance, low reflectivity, low emissivity, good machinability and simple preparation method, which is suitable for wide application.

【技术实现步骤摘要】
一种高透可钢化三银Low-E玻璃
本技术涉及薄膜玻璃
，具体是一种高透可钢化三银Low-E玻璃。
技术介绍
Low-E玻璃又称低辐射玻璃，是在优质浮法玻璃基板上镀制以Ag为功能层，包含介质层和其它金属层的多层膜系产品。其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使其与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，具有优异的隔热效果和良好的透光性。按照功能层银的层数来进行划分，LOW-E玻璃可以分为单银LOW-E玻璃、双银LOW-E玻璃和三银LOW-E玻璃。随着Ag膜层数量的提高，Low-E玻璃的节能效果也随之提高，三银Low-E玻璃的隔热节能效果远远优于双银和单银。在建筑上使用三银low-E玻璃，可以有效的降低室内空调所带来的能源消耗，可保证室内足够的自然采光，有更低的太阳红外线透射比和更低的传热系数。但是，目前三银low-E玻璃由于膜系结构设计普遍不合理，对Low-E玻璃的透过率、可加工性影响较大，导致三银low-E玻璃阳光透过率低、反射率高、选择系数低、机械加工性差、钢化后颜色偏差大等缺点。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种高透可钢化三银Low-E玻璃，该玻璃膜系结构设计合理，透过率高、反射率低、辐射率小、机械加工性能好，且制备方法简单，适于大范围推广应用。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种高透可钢化三银Low-E玻璃，包括玻璃基板，玻璃基板顶面由下至上依次层叠有十六个膜层，其中第一膜层为Si3N4层、第二膜层为TiO2层、第三膜层为ZnO层、第四膜层为Ag层、第五膜层为AZO层、第六膜层为Si3N4层、第七膜层为TiO2层、第八膜层为ZnO层、第九膜层为Ag层、第十膜层为AZO层、第十一膜层为Si3N4层、第十二膜层为TiO2层、第十三膜层为ZnO层、第十四膜层为Ag层、第十五膜层为AZO层、第十六膜层为Si3N4层。进一步的，所述第一膜层的厚度为20～30nm、第六膜层的厚度为45～65nm、第十一膜层的厚度为50～70nm、第十六膜层的厚度为25～45nm。进一步的，所述第二膜层的厚度为15～25nm、第七膜层的厚度为15～30nm、第十二膜层的厚度为15～35nm。进一步的，所述第三膜层、第八膜层与第十三膜层的厚度均为5～15nm。进一步的，所述第四膜层的厚度为5～10nm、第九膜层的厚度为6～12nm、第十四膜层的厚度为5～13nm。进一步的，所述第五膜层、第十膜层与第十五膜层的厚度均为8～15nm。本技术的有益效果是：一、采用三组相同五层结构的复合膜层以及顶层膜构成本技术三银low-E玻璃的膜系结构，匹配各个膜层的厚度，膜系结构合理，本三银Low-E玻璃透光率≥65％、可见光反射率≤6、选择系数≥1.5、辐射率≤0.05。二、Si3N4层作为第一、第六、第十一与第十六膜层，起到基膜、中间介质层及顶膜的作用，Si3N4和玻璃基板表面原子亲和力高，能够牢固而紧密的附着在玻璃基板表面，可防止高温钢化时玻璃基板中的钠离子扩散进入膜系破坏Ag层，使整个膜系在高温下耐热性更好；Si3N4是一种非常坚硬的材料，它的硬度是玻璃的三倍，是TiO2的两倍，能提高膜系的硬度，机械加工性能更好，改善传统三银low-E玻璃膜层偏软的现象；另外，Si3N4层还具有可见光高透过以及对中远红外线高反射的特性。三、利用TiO2层高折射率n＝2.5的特性，提高三银low-E玻璃的透光率，并且TiO2层具有优异的表面光滑特点，能够降低功能Ag层的面电阻，减少Ag的消耗；同时，还可以减少三银low-E玻璃热处理后的光散射，使玻璃呈中性颜色。四、ZnO层作为Ag层的种子层，沉积在TiO2层上的ZnO更倾向于生长（002）晶体结构，在具有（002）晶体结构的ZnO层上生长的Ag层具有（111）晶体结构，能够进一步降低功能Ag层的面电阻，同时对Ag层起到一定的抗氧化保护作用，提高Low-E玻璃的整体透过率，减少玻璃表面偏色问题。五、Ag层作为Low-E玻璃的核心功能层，起环保节能的作用，金属Ag提供了较低的辐射率。六、AZO层作为保护介质层，具有良好的隔绝氧气的作用，能够很好的保护到功能层银元素，同时通过控制AZO层的厚度能够更有利于三银LOW-E玻璃的表面色泽控制，避免表面偏色问题。七、本技术三银LOW-E玻璃机械加工性能好，满足异地钢化要求，可合成中空加工使用。八、本技术玻璃钢化后颜色偏差较小，在Lab模式下,a*＝-2～-3，b*＝-4.5～-5.5。附图说明下面结合附图和实施例对本技术进一步说明：图1是本技术的结构示意图。具体实施方式如图1所示，本技术提供一种高透可钢化三银Low-E玻璃，包括玻璃基板1，玻璃基板1顶面由下至上依次层叠有十六个膜层，其中第一膜层21为Si3N4层、第二膜层22为TiO2层、第三膜层23为ZnO层、第四膜层24为Ag层、第五膜层25为AZO层、第六膜层31为Si3N4层、第七膜层32为TiO2层、第八膜层33为ZnO层、第九膜层34为Ag层、第十膜层35为AZO层、第十一膜层41为Si3N4层、第十二膜层42为TiO2层、第十三膜层43为ZnO层、第十四膜层44为Ag层、第十五膜层45为AZO层、第十六膜层5为Si3N4层。作为优选的，第一膜层21的厚度为20～30nm、第六膜层31的厚度为45～65nm、第十一膜层41的厚度为50～70nm、第十六膜层5的厚度为25～45nm。第二膜层22的厚度为15～25nm、第七膜层32的厚度为15～30nm、第十二膜层42的厚度为15～35nm。第三膜层23、第八膜层33与第十三膜层43的厚度均为5～15nm。第四膜层24的厚度为5～10nm、第九膜层34的厚度为6～12nm、第十四膜层44的厚度为5～13nm。第五膜层25、第十膜层35与第十五膜层45的厚度均为8～15nm。在制备时，可以采用磁控溅射工艺，依次溅镀十六个膜层，包括以下步骤：S1、采用磁控溅射工艺，在玻璃基板1顶面溅镀第一膜层21，第一膜层21为20～30nm厚度的Si3N4层；溅镀时采用交流中频电源、氩气作为工艺气体、氮气作为反应气体，溅射纯度为99.9%的SiAl靶，SiAl靶中Si：Al为90:10wt%；S2、采用磁控溅射工艺，在第一膜层21顶面溅镀第二膜层22，第二膜层22为15～25nm厚度的TiO2层；溅镀时采用交流中频电源、氩气作为工艺气体、氧气作为辅助气体，溅射半导体陶瓷TiOx靶；S3、采用磁控溅射工艺，在第二膜层22顶面溅镀第三膜层23，第三膜层23为5～15nm厚度的ZnO层；溅镀时采用直流电源、氩气作为工艺气体、氮气作为反应气体，溅射纯度为99.9%以上的ZnAl靶，ZnAl靶中的Al为2wt%；S4、采用磁控溅射工艺，在第三膜层23顶面溅镀第四膜层24，第四膜层24为5～10nm厚度的Ag层；溅镀时采用直流电源、氩气作为工艺气体，溅射金属Ag；S5、采用磁控溅射工艺，在第四膜层24顶面溅镀第五膜层25，第五膜层25为8～15nm厚度的AZO层；溅镀时采用交流中频电源、氩气作为工艺气体、氧气作为辅助气体，溅射氧化物陶瓷掺铝氧化锌靶，靶材中ZnO:Al2O3为98:2wt%；S6、采用磁本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高透可钢化三银Low‑E玻璃，包括玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板顶面由下至上依次层叠有十六个膜层，其中第一膜层为Si3N4层、第二膜层为TiO2层、第三膜层为ZnO层、第四膜层为Ag层、第五膜层为AZO层、第六膜层为Si3N4层、第七膜层为TiO2层、第八膜层为ZnO层、第九膜层为Ag层、第十膜层为AZO层、第十一膜层为Si3N4层、第十二膜层为TiO2层、第十三膜层为ZnO层、第十四膜层为Ag层、第十五膜层为AZO层、第十六膜层为Si3N4层。

【技术特征摘要】
1.一种高透可钢化三银Low-E玻璃，包括玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板顶面由下至上依次层叠有十六个膜层，其中第一膜层为Si3N4层、第二膜层为TiO2层、第三膜层为ZnO层、第四膜层为Ag层、第五膜层为AZO层、第六膜层为Si3N4层、第七膜层为TiO2层、第八膜层为ZnO层、第九膜层为Ag层、第十膜层为AZO层、第十一膜层为Si3N4层、第十二膜层为TiO2层、第十三膜层为ZnO层、第十四膜层为Ag层、第十五膜层为AZO层、第十六膜层为Si3N4层。2.根据权利要求1所述的一种高透可钢化三银Low-E玻璃，其特征在于，所述第一膜层的厚度为20～30nm、第六膜层的厚度为45～65nm、第十一膜层的厚度为50～70n...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏申江，张山山，屠友明，李险峰，井治，沈晓晨，张西涛，
申请(专利权)人：中建材光电装备太仓有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32