基板清洗系统及清洗方法技术方案

本发明专利技术涉及显示面板领域，尤其涉及一种基板清洗系统及基板清洗方法。其中，基板清洗系统包括：至少两个侧边喷洒单元，设置于所述基板的周边位置，用于喷洒清洗剂以清洗所述基板的周边；中间喷洒单元，设置于所述基板的中部位置，并位于所述至少两个侧边喷洒单元之间，用于喷洒清洗剂以清洗所述基板的中部；控制单元，分别与所述至少两个侧边喷洒单元和所述中间喷洒单元连接，用于根据滞留在所述基板不同部位的清洗剂量，调整所述至少两个侧边喷洒单元和/或所述中间喷洒单元的清洗剂的喷洒量，以使所述基板不同部位不存在清洗剂量的偏差。在清洗基板时，使得滞留在基板上各个部位的清洗剂量能够均匀，从而提高基板的品质，有效改善白斑现象。

Substrate cleaning system and cleaning method

The invention relates to the display panel field, in particular to a substrate cleaning system and a substrate cleaning method. The substrate cleaning system comprises at least two side spraying units arranged at the periphery of the substrate for spraying cleaning agent to clean the periphery of the substrate, and an intermediate spraying unit arranged at the middle position of the substrate and located between the at least two side spraying units for spraying cleaning agent. To clean the middle of the substrate, the control unit is connected with the at least two side spraying units and the intermediate spraying unit respectively for adjusting the spraying amount of the cleaning agent of the at least two side spraying units and/or the intermediate spraying unit according to the cleaning dose remaining at different parts of the substrate, so as to enable There is no deviation of cleaning dose in different parts of the substrate. In the process of cleaning the substrate, the cleaning dose remaining in each part of the substrate can be uniform, thereby improving the quality of the substrate and effectively improving the white spot phenomenon.

【技术实现步骤摘要】
基板清洗系统及清洗方法
本专利技术涉及显示面板领域，尤其涉及一种基板清洗系统及清洗方法。
技术介绍
目前5.48FHD基板产品块状白斑高发，经过专利技术人研究发现：基板产品的白斑高发是由1300&1600站点(Dockingclean)产生。请一并参阅图1与图2，图1是传统技术提供一种基板清洗系统的结构示意图，图2是基于图1所示的基板清洗系统清洗的基板的测试图。如图1与图2所示，该基板清洗系统100包括共用同一管路11的若干个喷洒装置12，喷洒装置12喷洒出清洗剂，用以清洗基板13。在喷洒过程中，等量的清洗剂从基板13上方喷洒出，由于基板13的中心液面高度H1大于周边高度H2，所以清洗剂从基板13的周边流出。专利技术人在实现本专利技术的过程中，发现传统技术至少存在以下问题：由于基板13中间位置的清洗剂的滞留量与基板12周边不同，此种滞留量差异会造成基板最终出现亮度不均匀的Mura问题，即容易引发白斑现象。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本专利技术实施例的目的旨在提供一种基板清洗系统及清洗方法，旨在解决传统技术存在着基板上的清洗剂滞留量差异导致显示亮度不均匀出现白斑的技术问题。本专利技术实施例提供一种基板清洗系统，用于清洗基板，包括：至少两个侧边喷洒单元，设置于所述基板的周边位置，用于喷洒清洗剂以清洗所述基板的周边；中间喷洒单元，设置于所述基板的中部位置，并位于所述至少两个侧边喷洒单元之间，用于喷洒清洗剂以清洗所述基板的中部；控制单元，分别与所述至少两个侧边喷洒单元和所述中间喷洒单元连接，用于根据滞留在所述基板不同部位的清洗剂量，调整所述至少两个侧边喷洒单元和/或所述中间喷洒单元的清洗剂的喷洒量，以使所述基板不同部位不存在清洗剂量的偏差。本专利技术实施例还提供一种基板清洗方法，用于清洗基板，包括：提供至少两个侧边喷洒单元以及中间喷洒单元，所述至少两个侧边喷洒单元设置于所述基板的周边位置，所述中间喷洒单元设置于所述基板的中部位置，所述中间喷洒单元位于所述至少两个侧边喷洒单元之间；根据滞留在所述基板不同部位的清洗剂量，调整所述至少两个侧边喷洒单元和/或所述中间喷洒单元的清洗剂的喷洒量，以使所述基板不同部位不存在清洗剂量的偏差。本专利技术实施例提供的基板清洗系统和基板清洗方法，每排喷洒改为由两套管路系统提供清洗剂，其中一套管路系统为两个侧边喷洒单元，另一套管路系统为中间喷洒单元，两套管路系统可以单独控制压力、流量和浓度，使得滞留在基板上各个部位的清洗剂量能够均匀，以解决大板清洗不均匀问题，从而提高基板的品质，避免出现亮度不均的Mura问题，有效改善白斑现象。附图说明图1是传统技术提供一种基板清洗系统的结构示意图；图2是基于图1所示的基板清洗系统清洗的基板的测试图；图3是本专利技术实施例提供一种基板清洗系统的结构示意图；图4是图3中控制单元的结构示意图；图5是本专利技术另一实施例提供一种基板清洗系统的结构示意图；图6是本专利技术实施例提供一种基板清洗方法的流程示意图；图7是图6中步骤52的流程示意图；图8是本专利技术另一实施例提供一种基板清洗方法的流程示意图。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术为达成预定目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本专利技术提出的基板清洗系统及清洗方法的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。有关本专利技术的前述及其它
技术实现思路
、特点及功效，在以下配合参考图的较佳实施例的详细说明中将可清楚呈现。通过具体实施方式的说明，当可对本专利技术为达成预定目的所采取的技术手段及功效得以更加深入且具体的了解，然而所附图仅是提供参考与说明之用，并非用来对本专利技术加以限制。请参阅图3，图3是本专利技术实施例提供一种基板清洗系统的结构示意图，该基板清洗系统用于清洗基板。如图3所示，该基板清洗系统200包括：两个侧边喷洒单元21、中间喷洒单元22以及控制单元23，控制单元23分别与两个侧边喷洒单元21和中间喷洒单元22连接。两个侧边喷洒单元21设置于基板24的周边位置，用于喷洒清洗剂以清洗基板24的周边。侧边喷洒单元21包括喷洒装置210与驱动装置(图未示)，驱动装置用于带动喷洒装置210转动，以调整喷洒装置210的位置、角度等等。喷洒装置210接受控制单元23的控制，调整喷洒速率，其中，喷洒装置210的进水入口接通管路，接收经过管路传输具有一定浓度的清洗液，清洗液由清洗剂等物质配置而成。在本实施例中，两个侧边喷洒单元21负责清洗基板24的周边位置。在一些实施例中，侧边喷洒单元21的数量不仅仅局限于两个，其还可以为两个以上。中间喷洒单元22设置于基板24的中部位置，并位于两个侧边喷洒单元21之间，用于喷洒清洗剂以清洗基板24的中部。中间喷洒单元22包括喷洒装置220与驱动装置(图未示)，驱动装置用于带动喷洒装置220转动，以调整喷洒装置220的位置、角度等等。喷洒装置220接受控制单元23的控制，调整喷洒速率，其中，喷洒装置220的进水入口接通管路，接收经过管路传输具有一定浓度的清洗液，清洗液由清洗剂等物质配置而成。在本实施例中，中间喷洒单元22与两个侧边喷洒单元21连接不同的管路，亦即，可以通过在不同的管路配置不同浓度的清洗液，经过侧边喷洒单元21或中间喷洒单元22输出。在本实施例中，中间喷洒单元22负责清洗基板24的中间位置。控制单元23根据滞留在基板24不同部位的清洗剂量，调整两个侧边喷洒单元21和/或中间喷洒单元22的清洗剂的喷洒量，以使基板24不同部位不存在清洗剂量的偏差，亦即，使滞留在周边部位的清洗剂量与中间部位的清洗剂量相等。举例而言：在检测到滞留在基板24的中间部位的清洗剂量大于周边部位的清洗剂量时，控制单元23降低中间喷洒单元22的清洗剂的喷洒量，以使基板24中间部位与周边部位不存在清洗剂量的偏差。降低中间喷洒单元22的清洗剂的喷洒量，包括但不限于，例如，降低中间喷洒单元22的清洗液浓度，或者降低中间喷洒单元22的喷洒速率，或者降低中间喷洒单元22的喷洒压力等等。再举例而言：在检测到滞留在基板24的中间部位的清洗剂量大于周边部位的清洗剂量时，控制单元23提高两个侧边喷洒单元22的清洗剂的喷洒量，以使基板24中间部位与周边部位不存在清洗剂量的偏差。提高侧边喷洒单元22的清洗剂的喷洒量，包括但不限于，例如，提高侧边喷洒单元21的清洗液浓度，或者提高侧边喷洒单元21的喷洒速率，或者提高侧边喷洒单元21的喷洒压力等等。再举例而言：在检测到滞留在基板24的中间部位的清洗剂量小于周边部位的清洗剂量时，控制单元23提高中间喷洒单元22的清洗剂的喷洒量，以使基板24中间部位与周边部位不存在清洗剂量的偏差。提高中间喷洒单元22的清洗剂的喷洒量，包括但不限于，例如，提高中间喷洒单元22的清洗液浓度，或者提高中间喷洒单元22的喷洒速率，或者提高中间喷洒单元22的喷洒压力等等。再举例而言：在检测到滞留在基板24的中间部位的清洗剂量小于周边部位的清洗剂量时，控制单元23降低两个侧边喷洒单元21的清洗剂的喷洒量，以使基板24中间部位与周边部位不存在清洗剂量的偏差。降低侧边喷洒单元21的清洗剂的喷洒量，包括但不限于，例如，降低侧边喷洒单元21的清洗液浓度，或者降低侧边喷洒单元21的喷洒速率，或者降低侧边喷洒单元21的喷洒压力等等。在一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板清洗系统，用于清洗基板，其特征在于，包括：至少两个侧边喷洒单元，设置于所述基板的周边位置，用于喷洒清洗剂以清洗所述基板的周边；中间喷洒单元，设置于所述基板的中部位置，并位于所述至少两个侧边喷洒单元之间，用于喷洒清洗剂以清洗所述基板的中部；控制单元，分别与所述至少两个侧边喷洒单元和所述中间喷洒单元连接，用于根据滞留在所述基板不同部位的清洗剂量，调整所述至少两个侧边喷洒单元和/或所述中间喷洒单元的清洗剂的喷洒量，以使所述基板不同部位不存在清洗剂量的偏差。

【技术特征摘要】
1.一种基板清洗系统，用于清洗基板，其特征在于，包括：至少两个侧边喷洒单元，设置于所述基板的周边位置，用于喷洒清洗剂以清洗所述基板的周边；中间喷洒单元，设置于所述基板的中部位置，并位于所述至少两个侧边喷洒单元之间，用于喷洒清洗剂以清洗所述基板的中部；控制单元，分别与所述至少两个侧边喷洒单元和所述中间喷洒单元连接，用于根据滞留在所述基板不同部位的清洗剂量，调整所述至少两个侧边喷洒单元和/或所述中间喷洒单元的清洗剂的喷洒量，以使所述基板不同部位不存在清洗剂量的偏差。2.根据权利要求1所述的基板清洗系统，其特征在于，每个侧边喷洒单元以及所述中间喷洒单元各自均包括管路和喷洒装置，所述喷洒装置的进水入口接通所述管路。3.根据权利要求1所述的基板清洗系统，其特征在于，所述至少两个侧边喷洒单元与所述中间喷洒单元共用一个控制单元，或者各自独立使用不同的控制单元。4.根据权利要求1所述的基板清洗系统，其特征在于，所述控制单元包括：采集单元，用于采集所述基板不同部位的清洗剂量；控制器，与所述采集单元连接，用于根据所述采集单元的采集结果获得滞留在所述基板不同部位的清洗剂量，调整所述至少两个侧边喷洒单元和/或所述中间喷洒单元的清洗剂的喷洒量，以使所述基板不同部位不存在清洗剂量的偏差。5.根据权利要求4所述的基板清洗系统，其特征在于，所述采集单元为浓度传感器，用于采集所述基板上不同部位的清洗剂浓度；或者，所述采集单元为摄像机，用于采集所述基板的喷洒图像。6.根据权利要求1至5任一项所述的基板清洗系统，其特征在于，所述基板清洗系统还包括空气刀单元，所述空气刀单元与所述控制单元连接，通过调整所述空气刀单元与所述基板的相对位置和/或距离和/或空气流量，以使所述基板不同部位不存在清洗剂量的偏差。7.一种基板清洗方法，用于清洗基板，其特征在于，包括：提供至少两个侧边喷洒单元以及中间喷洒单元，所述至少两个侧边喷洒单元设置于所述基板的周边位置，所述中间喷洒单元设置于所述基板的中部位置，所述中间喷洒单元位于所述至少两个侧边喷洒单元之间；根据滞留在所述基板不同部位的清洗剂量，调整所述至少两个侧边喷洒单元和/或所述中间喷洒单元的清洗剂的喷洒量，以使所述基板不同部位不存在清洗剂量的偏差。8.根据权利要求7所述的基板清洗方法，其特征在于，所述根据滞留在所述基板不同部位的清洗剂量，调整所述至少两个侧边喷洒单元和/或所述中间喷洒单元的清洗剂的喷洒量，以使所述基板不同部位不存在清洗剂量的偏差，包括：采集...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋烨，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32