一种掩膜板及其制备方法技术

技术编号:18967981 阅读:6 留言:0更新日期:2018-09-19 01:51
本发明专利技术涉及蒸镀技术领域,公开一种掩膜板及其制备方法,其中,掩膜板包括掩膜本体和形成在所述掩膜本体上的涂层;其中:所述涂层对有机材料的吸附性比所述掩膜本体对有机材料的吸附性差。上述掩膜板,由于其掩膜本体表面具有涂层,且该涂层对有机材料的吸附性比较差,进而,在利用该掩膜板进行蒸镀时,蒸镀材料不易吸附于该掩膜板上,因此,该掩膜板的开口不易发生堵塞,从而该掩膜板的使用寿命较长;并且,该掩膜板可以具有较高的精度和较小的图案开口,尤其适合制备高PPI的OLED产品,可以提高产品的蒸镀良率。

Mask plate and preparation method thereof

The invention relates to the technical field of evaporation plating, and discloses a mask plate and a preparation method thereof, wherein the mask plate comprises a mask body and a coating formed on the mask body, wherein the adsorption of the coating on the organic material is worse than that of the mask body on the organic material. Because of the coating on the surface of the mask body and the poor adsorption of the coating on the organic material, the evaporation material is not easy to be adsorbed on the mask plate when the mask plate is used for evaporation, so the opening of the mask plate is not easy to be blocked and the service life of the mask plate is long. Moreover, the mask plate can have higher precision and smaller pattern opening, especially suitable for preparing OLED products with high PPI, and can improve the product evaporation yield.

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜板及其制备方法
本专利技术涉及蒸镀
,特别涉及一种掩膜板及其制备方法。
技术介绍
目前,有机电致发光显示器(OLED,OrganicLightEmittingDisplay)主要包括白光OLED(WOLED)和红、绿、蓝像素并置型(RGB-SBS,Side-By-Side)OLED,其中,RGB-SBS型OLED产品具有亮度损失小及色域高的优点,因此,在微显示领域,尤其是虚拟现实(VR)和增强现实(AR)显示领域中,RGB-SBS型OLED是一种必然的趋势。现有技术中,RGB-SBS型OLED产品主要采用精细金属掩膜板(FMM)分别蒸镀R、G、B像素来制备。然而,对于像素(PPI)较高的RGB-SBS型OLED产品,例如微显示OLED产品,由于其需要的精细蒸镀掩膜板的精度往往比较高,开口尺寸比较小,因此,在掩膜板使用过程中,很容易导致掩膜板开口堵塞,从而使产品品质受损。
技术实现思路
本专利技术公开了一种掩膜板及其制备方法,用于避免掩膜板的开口堵塞,提高蒸镀产品良率。为达到上述目的,本专利技术提供以下技术方案:一种掩膜板,包括掩膜本体和形成在所述掩膜本体上的涂层;其中:所述涂层对有机材料的吸附性比所述掩膜本体对有机材料的吸附性差。上述掩膜板,由于其掩膜本体表面具有涂层,且该涂层对有机材料的吸附性比较差,进而,在利用该掩膜板进行蒸镀时,蒸镀材料不易吸附于该掩膜板上,因此,该掩膜板的开口不易发生堵塞,使用寿命较长;具体地,该掩膜板可以具有较高的精度和较小的图案开口,尤其适合制备高PPI的OLED产品,可以提高产品的蒸镀良率。一种可选的实施例中,所述涂层包括金属涂层或者特氟龙涂层。一种可选的实施例中,所述涂层包围所述掩膜本体,所述掩膜本体的开口尺寸与所述掩膜板的实际开口尺寸之差等于所述涂层厚度的两倍。一种可选的实施例中,所述涂层形成在所述掩膜本体朝向蒸镀装置的一侧。一种掩膜板的制备方法,包括:制备掩膜本体;在掩膜本体上形成涂层,所述涂层对有机材料的吸附性比所述掩膜本体对有机材料的吸附性差。一种可选的实施例中,所述涂层包括金属涂层或者特氟龙涂层。一种可选的实施例中,所述在掩膜本体上形成涂层,包括:在掩膜本体表面电镀涂层,所述涂层包围所述掩膜本体,其中,所述掩膜本体的开口尺寸与所述掩膜板的实际开口尺寸之差等于所述涂层厚度的两倍。一种可选的实施例中,所述掩膜本体的开口尺寸为5um;所述涂层的厚度为0.5um。一种可选的实施例中,所述在掩膜本体上形成涂层,包括:在掩膜本体朝向蒸镀装置的一侧表面喷涂涂层。一种可选的实施例中,所述涂层的厚度为2-5um。附图说明图1为本专利技术一实施例提供的一种掩膜板的结构示意图;图2为本专利技术另一实施例提供的一种掩膜板的结构示意图;图3为本专利技术实施例提供的一种掩膜板的制备方法流程图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。请参考图1~图3。如图1和图2所示,本专利技术实施例提供了一种掩膜板1,包括掩膜本体2和形成在掩膜本体2上的涂层3;其中:涂层3对有机材料的吸附性比掩膜本体2对有机材料的吸附性差。上述掩膜板1,由于其掩膜本体2表面具有涂层3,且该涂层3对有机材料的吸附性比较差,进而,在利用该掩膜板1进行蒸镀时,蒸镀材料不易吸附于该掩膜板1上,因此,该掩膜板1的开口不易发生堵塞,从而该掩膜板1使用寿命较长;具体地,该掩膜板1可以具有较高的精度和较小的图案开口,尤其适合制备高PPI的OLED产品,可以提高产品的蒸镀良率。如图1和图2所示,一种具体的实施例中,掩膜本体2可以为金属材料,也可以为半导体材料,如硅或者砷化镓。如图1所示,一种具体的实施例中,涂层3可以包括金属涂层31。由于有机材料在金属涂层31上的附着性较差,即金属涂层31不容易黏着有机物,存在较小的有机物沉积性,因此,可以减少掩膜板1对有机物的吸附,进而减少掩膜板1开口堵塞的问题。另外,由于OLED基板4对于有机材料的吸附性比较好,且在进行蒸镀前,OLED基板4上往往可能已覆盖有有机层,而有机材料与有机材料间的亲和性很好,因此,蒸镀基板4对有机材料的吸附性会比掩膜板1更好;进而,同等条件下,有机材料在具有涂层3的掩膜板1上和在蒸镀基板4上的沉积比差异较大,例如,有机材料在具有金属涂层31的掩膜板1上和在蒸镀基板4上的沉积比可以达到1:5,因此,有机材料更容易吸附于蒸镀基板4上,不易吸附在具有金属涂层31的掩膜板1上。如图2所示,另一种具体的实施例中,涂层3可以包括特氟龙涂层32。特氟龙(聚四氟乙烯)这种材料具有抗各种有机溶剂的特点,即特氟龙不容易黏着有机物,存在较小的有机物沉积性,因此,可以减少掩膜板1对有机物的吸附,进而减少掩膜板1开口堵塞的问题。另外,特氟龙属于柔性材料,且具有抗酸抗碱性,因此可以缓解掩膜板1较薄易碎的问题,并可以保护掩膜板1不受腐蚀。如图1和图2所示,一种可选的实施例中,掩膜板1的涂层3可以采用电镀或喷涂等多种方式形成。如图1所示,一种具体的实施例,本专利技术实施例的掩膜板1中,涂层3可以包围掩膜本体2的表面,即涂层3可以将掩膜本体2的开口边缘包覆,例如,可以在掩膜本体2的表面电镀金属涂层31。具体地,本专利技术实施例的掩膜板1中,掩膜本体2的开口尺寸与掩膜板1的实际开口尺寸之差等于涂层3厚度的两倍,即掩膜本体2的开口尺寸需比实际掩膜板1产品的开口尺寸略大一些,比如,实际掩膜板1产品的开口尺寸是4um,掩膜本体2的开口尺寸可以为5um,此时,涂层3厚度则为0.5um。如图2所示,另一种具体的实施例中,涂层3可以形成在掩膜本体2朝向蒸镀装置的一侧,例如,可以在掩膜本体2朝向蒸镀装置的一侧喷涂特氟龙涂层32。此时,涂层3不包覆掩膜本体2的开口边缘,掩膜本体2的开口尺寸与掩膜板1产品的实际开口尺寸等同。如图3所示,本专利技术实施例还提供了一种掩膜板的制备方法,该方法包括以下步骤:步骤S101,制备掩膜本体;步骤S102,在掩膜本体上形成涂层,该涂层对有机材料的吸附性比掩膜本体对有机材料的吸附性差。通过上述方法制备的掩膜板,由于其掩膜本体表面具有涂层,且该涂层对有机材料的吸附性比较差,进而,在利用该掩膜板进行蒸镀时,蒸镀材料不易吸附于该掩膜板上,因此,该掩膜板的开口不易发生堵塞,使用寿命较长;具体地,该掩膜板可以具有较高的精度和较小的图案开口,尤其适合制备高PPI的OLED产品,可以提高产品的蒸镀良率。如图1和图2所示,一种具体的实施例中,掩膜本体2可以为金属材料,也可以为半导体材料,如硅或者砷化镓。如图1所示,一种具体的实施例中,涂层3可以包括金属涂层31。由于有机材料在金属涂层31上的附着性较差,即金属涂层31不容易黏着有机物,存在较小的有机物沉积性,因此,可以减少掩膜板1对有机物的吸附,进而减少掩膜板1开口堵塞的问题。如图2所示,另一种具体的实施例中,涂层3可以包括特氟龙涂层32。特氟龙(聚四氟乙烯)这种材料具有抗各种有机溶剂的特点,即特氟龙不容易黏着有机物,存在较小的有机物沉积性,因此本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜板,其特征在于,包括掩膜本体和形成在所述掩膜本体上的涂层;其中:所述涂层对有机材料的吸附性比所述掩膜本体对有机材料的吸附性差。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板,其特征在于,包括掩膜本体和形成在所述掩膜本体上的涂层;其中:所述涂层对有机材料的吸附性比所述掩膜本体对有机材料的吸附性差。2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述涂层包括金属涂层或者特氟龙涂层。3.根据权利要求1或2所述的掩膜板,其特征在于,所述涂层包围所述掩膜本体,所述掩膜本体的开口尺寸与所述掩膜板的实际开口尺寸之差等于所述涂层厚度的两倍。4.根据权利要求1或2所述的掩膜板,其特征在于,所述涂层形成在所述掩膜本体朝向蒸镀装置的一侧。5.一种掩膜板的制备方法,其特征在于,包括:制备掩膜本体;在掩膜本体上形成涂层,所述涂层对有机材料的吸附性比所述掩膜本体对有机材料的吸附性差。6.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:王灿张粲杨明岳晗丛宁玄明花陈小川
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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