一种自取向液晶显示面板及其基板的处理方法技术

技术编号:18552293 阅读:191 留言:0更新日期:2018-07-28 09:57
本申请公开了一种自取向液晶显示面板基板的处理方法,在液晶分子中添加了配向材料,该处理方法包括:调制一清洗剂,清洗剂中添加了结合剂,结合剂包括可与配向材料结合的第一结合基团;利用清洗剂清洗基板,使得结合剂附着在基板的表面上,从而增加基板和配向材料的结合力,进而提高配向稳定性;对清洗后的基板进行干燥处理。通过附着在基板表面的结合剂与配向材料结合以提高基板与配向材料的结合力,从而提高配向稳定性。

【技术实现步骤摘要】
一种自取向液晶显示面板及其基板的处理方法
本申请涉及显示
,特别是涉及一种自取向液晶显示面板及其基板的处理方法。
技术介绍
液晶显示面板一般需要在彩膜基板和薄膜晶体管阵列基板上涂布配向层,对液晶分子进行配向,通常使用聚酰亚胺(PI)膜作为配向膜。根据配向方式不同,可以分为摩擦配向、加电配向和紫外光照射配向。无论哪种配向方式,制程工序都很复杂,而且会存在很多缺陷,比如配向膜不沾导致局部无配向,配向膜面内厚度不均导致亮度不均等。因而采用无PI配向膜的显示模式,即在液晶材料中增加添加剂,可实现液晶显示面板自取向排列效果,该结构的液晶显示面板为自取向液晶显示面板,添加有添加剂的液晶材料为自取向液晶材料,添加剂为配向材料。这类配向材料一般由头基和尾基两部分构成,头基用于与基板结合,尾基为类似于PI分子支链的结构,主要作为立体障碍使得液晶分子垂直排列。本申请的专利技术人在长期的研究和实践的过程中发现,这种自取向液晶材料在基板表面的扩散性较差,而且配向材料与基板之间配向力较差,容易造成配向不良,产生亮度不均的问题。
技术实现思路
本申请主要解决的技术问题是提供一种自取向液晶显示面板及其基板的处理方法,用于解决现有技术中,无PI配向膜的自取向液晶显示面板存在的自取向液晶材料配向不良,导致亮度不均的技术问题。为解决上述技术问题,本申请采用的一个技术方案是:提供一种自取向液晶显示面板的基板的处理方法,所述自取向液晶显示面板的液晶分子中添加了配向材料,所述处理方法包括:调制一清洗剂,所述清洗剂中添加了结合剂,所述结合剂包括可与所述配向材料结合的第一结合基团;利用所述清洗剂清洗所述基板,使得所述结合剂附着在所述基板的表面上,从而增加所述基板和所述配向材料的结合力,进而提高配向稳定性;对清洗后的所述基板进行干燥处理。为解决上述技术问题,本申请采用的另一个技术方案是:提供一种自取向液晶显示面板,所述自取向液晶显示面板包括:第一基板、第二基板和液晶层,所述第一基板和所述第二基板相对设置,所述液晶层设置在所述第一基板和所述第二基板之间,其中,所述液晶层包括液晶分子和用于对所述液晶分子进行配向的配向材料,所述第一基板和所述第二基板的至少一个的表面上设置有结合剂,所述结合剂包括可与所述配向材料结合的第一结合基团。上述实施例的有益效果为:利用含有第一结合基团的结合剂作为溶质的清洗剂对自取向液晶显示面板的基板进行清洗,使得基板表面附着有结合剂,进而通过结合剂与配向材料结合以提高基板与配向材料的结合力,从而提高配向稳定性,解决因配向材料配向不良而产生亮度不均的问题。附图说明图1是本申请自取向液晶显示面板的基板的处理方法的流程示意图;图2是图1中自取向液晶显示面板的基板的处理方法对应的工艺流程示意图;图3是图2中清洗前基板的结构示意图;图4是图2清洗后基板的结构示意图;图5是本申请自取向液晶显示面板的剖视结构示意图。具体实施方式下面将对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。本申请中的术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。本申请的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。本申请实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。此外,术语“包括”和“具有”以及它们任何变形,意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或部件的过程、方法、系统、产品或设备,没有限定于已列出的步骤或部件,而是可选地还包括没有列出的步骤或部件,或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或部件。在本文中提及“实施例”意味着,结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例,也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是,本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。自取向液晶显示面板一般是由两个相对设置的基板以及设置在两个基板之间的自取向液晶材料构成的,自取向液晶材料是在液晶分子中添加配向材料后形成的,该配向材料主要依靠自身的极性基团吸附在基板表面,利用配向材料的支链结构作为立体障碍使得液晶分子可以垂直取向。请参阅图1,图1是本申请自取向液晶显示面板的基板的处理方法的流程示意图。为了提高配向材料与基板的结合力,本申请对基板进行处理,处理方法具体包括以下步骤:S10:调制一清洗剂,清洗剂中添加了结合剂,结合剂包括可与配向材料结合的第一结合基团。进一步地,结合剂作为溶质,其在清洗剂中的占比为0.01%-5%,溶剂可以为水、二甲基亚砜、二氯甲烷、N-乙基吡咯烷、γ-己内酯、丙酮等中的一种,也可以为他们中任意两种或者两种以上构成的组合物。按照比例调制好清洗剂后,进一步执行以下步骤:S20:利用清洗剂清洗基板,使得结合剂附着在基板的表面上,从而增加基板和配向材料的结合力,进而提高配向稳定性。具体地,附着在基板上的结合剂包含有可与配向材料结合的第一结合基团,该结合剂与配向材料结合,从而增加基板和配向材料的结合力,进而实现液晶分子的配向。进一步地,利用清洗剂清洗基板的方法为:在弱酸或弱碱环境下,对基板进行淋洗或浸泡,使清洗剂与基板充分接触,以使结合剂均匀分布于基板的表面。具体地,对基板的清洗可以在酸性也可以在碱性和中性的环境中进行,清洗环境的PH值的范围为6-11,例如可以在PH值为6的酸性环境中进行,也可以在PH值为7的中性环境中进行,同时也可以在PH值为11的碱性环境中进行,可以根据需求选择合适的环境进行,当PH值偏大时,可以利用酸性溶剂对清洗环境进行调节,采用的酸性溶剂可以为盐酸,醋酸等中的一种或者多种。对基板进行清洗后进一步执行以下步骤:S30:对清洗后的基板进行干燥处理。具体地,在对基板进行封装之前,需要保持基板干燥的状态,因而需要对清洗后的基板进行干燥处理。对清洗后的基板进行干燥处理的方法为:将清洗后的基板放置在20-150℃的高温中烘烤1min-6h,使得结合剂附着在基板的表面。具体地,可以将基板放置在20-150℃的高温中进行烘烤,烘烤时间根据情况而定,例如,当采用较高的温度时,可以缩短烘烤时间,当采用较低的温度时,可以延长烘烤时间,使基板完全干燥。在一个具体的实施例中,例如,为了加快生产过程,可以采用130℃的高温进行烘烤,使得基板表面的水分在较短时间内挥发,在其他实施例中,例如,为了节约生产成本,可以将清洗后的基板放置在室温下自动干燥即可。上述实施例的有益效果为:利用含有第一结合基团的结合剂作为溶质的清洗剂对自取向液晶显示面板的基板进行清洗,使得基板表面附着有结合剂,进而通过结合剂与配向材料结合以提高基板与配向材料的结合力,从而提高本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种自取向液晶显示面板的基板的处理方法,所述自取向液晶显示面板的液晶分子中添加了配向材料,其特征在于,所述处理方法包括:调制一清洗剂,所述清洗剂中添加了结合剂,所述结合剂包括可与所述配向材料结合的第一结合基团;利用所述清洗剂清洗所述基板,使得所述结合剂附着在所述基板的表面上,从而增加所述基板和所述配向材料的结合力,进而提高配向稳定性;对清洗后的所述基板进行干燥处理。

【技术特征摘要】
1.一种自取向液晶显示面板的基板的处理方法,所述自取向液晶显示面板的液晶分子中添加了配向材料,其特征在于,所述处理方法包括:调制一清洗剂,所述清洗剂中添加了结合剂,所述结合剂包括可与所述配向材料结合的第一结合基团;利用所述清洗剂清洗所述基板,使得所述结合剂附着在所述基板的表面上,从而增加所述基板和所述配向材料的结合力,进而提高配向稳定性;对清洗后的所述基板进行干燥处理。2.根据权利要求1所述的处理方法,其特征在于,所述结合剂作为溶质,其在所述清洗剂中的占比为0.01%-5%。3.根据权利要求1所述的处理方法,其特征在于,所述结合剂进一步包括可与所述基板表面的基板基团结合的第二结合基团。4.根据权利要求3所述的处理方法,其特征在于,所述配向材料包括羟基硅烷、POSS、OTS或带有羟基和/或酮基的液晶性单体,清洗前的所述基板表面的基板基团包括羟基;所述结合剂的结构通式为:其中,A可以为羟基、羧基、烷基链或苯环或环烷烃,R可以为-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-OCH2-、-CH2O-、-CH=CH-、-CF=CF-、-CH=CH-COO-或-OCO-CH=CH-,所述A和/或所述R用于与所述配向材料结合,所述R和/或所述NH2-用于与所述基板表面的羟基结合。5.根据权利要求4所述的处理方法,其特征在于,所述结合剂为6.根据权利要求1所述的处理方法,其特征在于,所述利用清洗剂清洗所述基板的方法为:在弱酸或弱碱环境下,对所述基板进行淋...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈兴武
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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