导电性支持体、电子照相感光体以及处理盒制造技术

本发明专利技术提供一种导电性支持体、电子照相感光体以及处理盒。导电性支持体由无底中空圆筒形部件形成，此无底中空圆筒形部件由金属制成并且具有等于或小于0.5mm的厚度t，所述导电性支持体包括：所述导电性支持体的至少一端的外周表面侧上的在整个圆周方向上的斜切部，其中，所述斜切部具有相对于所述外周表面等于或大于10°并且小于30°的斜切角a以及端部表面中的等于或大于0.05mm的斜切宽度b，并且其中，在包括所述斜切部的所述端部表面中端部表面宽度c等于或大于0.1mm。

【技术实现步骤摘要】
导电性支持体、电子照相感光体以及处理盒
本专利技术涉及导电性支持体、电子照相感光体以及处理盒。
技术介绍
已知设置在电子照相图像形成设备中的电子照相感光体，在此电子照相感光体中，感光层布置在导电性支持体上。例如，专利文献1公开了一种正带电性单层型电子照相感光体，在此电子照相感光体中，不包含氧化锌的感光层被设置在感光层支持体上，此感光层支持体是厚度t等于或小于0.7mm的管状部件，并且具有端部表面处的30°至60°的斜切角a以及等于或大于0.05mm的斜切宽度b。【专利文献1】日本专利5663546。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供这样一种导电性支持体，与斜切角a小于10°或者等于或大于30°或者斜切宽度b小于0.05mm的情况相比，此导电性支持体防止了在电子照相感光体的感光层上出现长度方向上的敏感度不均匀。利用下面的构造实现上述目的。根据本专利技术的第一方面，提供一种导电性支持体，其由无底中空圆筒形部件形成，此无底中空圆筒形部件由金属制成并且具有等于或小于0.5mm的厚度t，所述导电性支持体包括：所述导电性支持体的至少一端的外周表面侧上的在整个圆周方向上的斜切部，其中，所述斜切部具有相对于所述外周表面等于或大于10°并且小于30°的斜切角以及端部表面中的等于或大于0.05mm的斜切宽度b，并且其中，在包括所述斜切部的所述端部表面中端部表面宽度c等于或大于0.1mm。根据本专利技术的第二方面，在第一方面的导电性支持体中，所述厚度t等于或小于0.4mm。根据本专利技术的第三方面，在第一方面的导电性支持体中，所述端部表面宽度c等于或小于0.3mm。根据本专利技术的第四方面，在第一方面的导电性支持体中，所述斜切角a为10°到20°。根据本专利技术的第五方面，提供一种电子照相感光体，所述电子照相感光体包括：导电性支持体，其由无底中空圆筒形部件构成，所述无底中空圆筒形部件由金属制成并且具有等于或小于0.5mm的厚度t，并且所述导电性支持体包括：所述导电性支持体的至少一端的外周表面侧上的在整个圆周方向上的斜切部，其中，所述斜切部具有相对于所述外周表面等于或大于10°并且小于30°的斜切角以及端部表面中的等于或大于0.05mm的斜切宽度b，并且其中，在包括所述斜切部的所述端部表面中端部表面宽度c等于或大于0.1mm，以及布置在所述导电性支持体上的感光层。根据本专利技术的第六方面，在第五方面的电子照相感光体中，所述厚度t等于或小于0.4mm。根据本专利技术的第七方面，在第五方面的电子照相感光体中，所述端部表面宽度c等于或小于0.3mm。根据本专利技术的第八方面，在第五方面的电子照相感光体中，所述斜切角a为10°到20°。根据本专利技术的第九方面，提供一种能从图像形成设备上拆卸的处理盒，所述处理盒包括：电子照相感光体，此电子照相感光体包括：导电性支持体，其由无底中空圆筒形部件形成，所述无底中空圆筒形部件由金属制成并且具有等于或小于0.5mm的厚度t，并且所述导电性支持体包括：所述导电性支持体的至少一端的外周表面侧上的在整个圆周方向上的斜切部，其中，所述斜切部具有相对于所述外周表面等于或大于10°并且小于30°的斜切角以及端部表面中的等于或大于0.05mm的斜切宽度b，并且其中，在包括所述斜切部的所述端部表面中端部表面宽度c等于或大于0.1mm，以及布置在所述导电性支持体上的感光层。根据本专利技术的第十方面，在第九方面的处理盒中，所述厚度t等于或小于0.4mm。根据本专利技术的第十一方面，在第九方面的处理盒中，所述端部表面宽度c等于或小于0.3mm。根据本专利技术的第十二方面，在第九方面的处理盒中，所述斜切角a为10°到20°。根据本专利技术的第一或者第二方面，提供这样一种导电性支持体，与斜切角a小于10°或等于或大于30°或者斜切宽度b小于0.05mm的情况相比，此导电性支持体防止了在电子照相感光体的感光层上出现长度方向上的敏感度不均匀。根据本专利技术的第三方面，提供这样一种导电性支持体，与端部表面宽度c大于0.3mm的情况相比，此导电性支持体防止了在电子照相感光体的感光层上出现长度方向上的敏感度不均匀。根据本专利技术的第四方面，提供这样一种导电性支持体，与斜切角a大于20°的情况相比，此导电性支持体防止了在电子照相感光体的感光层上出现长度方向上的敏感度不均匀。根据本专利技术的第五或者第六方面，提供这样一种电子照相感光体，与斜切角a小于10°或者等于或大于30°或者斜切宽度b小于0.05mm的情况相比，在此电子照相感光体中较不可能在感光层上出现长度方向上的敏感度不均匀。根据本专利技术的第七方面，提供这样一种电子照相感光体，与端部表面宽度c大于0.3mm的情况相比，该电子照相感光体防止了在电子照相感光体的感光层上出现长度方向上的敏感度不均匀。根据本专利技术的第八方面，提供这样一种电子照相感光体，与斜切角a大于20°的情况相比，该电子照相感光体防止了在电子照相感光体的感光层上出现长度方向上的敏感度不均匀。根据本专利技术的第九或者第十方面，提供这样一种处理盒，与斜切角a小于10°或者等于或大于30°或者斜切宽度b小于0.05mm的情况相比，在此处理盒中较不可能在电子照相感光体的感光层上出现长度方向上的敏感度不均匀。根据本专利技术的第十一方面，提供这样一种处理盒，与端部表面宽度c大于0.3mm的情况相比，在此处理盒中较不可能在电子照相感光体的感光层上出现长度方向上的敏感度不均匀。根据本专利技术的第十二方面，提供这样一种处理盒，与斜切角a大于20°的情况相比，在此处理盒中较不可能在电子照相感光体的感光层上出现长度方向上的敏感度不均匀。附图说明将基于下面的附图详细描述本专利技术的示例性实施方式，在附图中：图1是示出示例性实施方式的导电性支持体的实例的示意性立体图；图2是示出示例性实施方式的导电性支持体的实例的示意性剖面图；图3是示出示例性实施方式的电子照相感光体的层构造的实例的示意性局部剖面图；图4是示出示例性实施方式的图像形成设备的实例的示意性构造图；图5是示出示例性实施方式的图像形成设备的另一实例的示意性构造图；图6是用于评估导电性支持体的端部表面的强度的圆柱形引导杆的示意性构造图。具体实施方式下文中将描述示例性实施方式。下面的描述与实施例仅仅是示例性实施方式的实例，并且不意图限定本专利技术的范围。在本说明书中表述组合物中各个组分的量的情况下，如果存在多种物质对应于组合物中的每种组分，则除非特别指出，量是指组合物中多种物质的总量。在说明书中，“电子照相感光体”简称为“感光体”。在说明书中，导电性支持体或者电子照相感光体的长度方向是与导电性支持体或者电子照相感光体的旋转方向正交的方向。导电性支持体示例性实施方式的导电性支持体由无底的中空圆筒形部件构成，此圆筒形部件由金属制成并且具有等于或小于0.5mm的厚度t，导电性支持体包括在整个圆周方向上位于至少一端的外周表面侧上的斜切部。斜切部具有相对于外周表面等于或大于10°并且小于30°的斜切角a，并且具有端部表面中的等于或者大于0.05mm的斜切宽度b。此外，在示例性实施方式的导电性支持体中，包括斜切部的端部表面的端部表面宽度c等于或大于0.1mm。将参照图1与图2描述示例性实施方式的导电性支持体。图1是示出用于电子照相感光体的导电性支持体的实例的示意性立体图，图1中本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种导电性支持体，其由无底中空圆筒形部件构成，所述无底中空圆筒形部件由金属制成并且具有等于或小于0.5mm的厚度t，所述导电性支持体包括：所述导电性支持体的至少一端的外周表面侧上的在整个圆周方向上的斜切部，其中，所述斜切部具有相对于所述外周表面等于或大于10°且小于30°的斜切角a，和端部表面中的等于或大于0.05mm的斜切宽度b，并且其中，在包括所述斜切部的所述端部表面中，端部表面宽度c等于或大于0.1mm。

【技术特征摘要】
2016.12.14 JP 2016-2425111.一种导电性支持体，其由无底中空圆筒形部件构成，所述无底中空圆筒形部件由金属制成并且具有等于或小于0.5mm的厚度t，所述导电性支持体包括：所述导电性支持体的至少一端的外周表面侧上的在整个圆周方向上的斜切部，其中，所述斜切部具有相对于所述外周表面等于或大于10°且小于30°的斜切角a，和端部表面中的等于或大于0.05mm的斜切宽度b，并且其中，在包括所述斜切部的所述端部表面中，端部表面宽度c等于或大于0.1mm。2.如权利要求1所述的导电性支持体，其中，所述厚度t等于或小于0.4mm。3.如权利要求1所述的导电性支持体，其中，所述端部表面宽度c等于或小于0.3mm。4.如权利要求1所述的导电性支持体，其中，所述斜切角a为10°到20°。5.一种电子照相感光体，其包括：由无底中空圆筒形部件构成的导电性支持体，所述无底中空圆筒形部件由金属制成并且具有等于或小于0.5mm的厚度t，并且所述导电性支持体包括：所述导电性支持体的至少一端的外周表面侧上的在整个圆周方向上的斜切部，其中，所述斜切部具有相对于所述外周表面等于或大于10°且小于30°的斜切角a，和端部表面中的等于或大于0.05mm的斜切宽度b...

【专利技术属性】
技术研发人员：春山大辅，
申请(专利权)人：富士施乐株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP