一种有机溶剂清洗槽制造技术

本实用新型专利技术涉及一种有机溶剂清洗槽，包括零件放置架、上下运动机构、内部清洗槽以及外部加热槽，零件放置架顶端连接上下运动机构，并在上下运动机构的带动下做上下直线运动，零件放置架底端伸入内部清洗槽，内部清洗槽上开设有内部清洗槽排出孔、内部清洗槽进液孔，内部清洗槽内设置有内部清洗槽进液管，内部清洗槽进液管与内部清洗槽进液孔连接，内部清洗槽底端开设有废液排除孔，内部清洗槽内底部置有超声波震板，内部清洗槽设置于外部加热槽内并相互隔离，外部加热槽内底部安装有加热器；本实用新型专利技术同现有技术相比，能够提高产品清洗效果，提升设备安全性，克服了现有清洗设备所存在的清洗效果差、清洗效率低、加热不安全等缺陷。

An organic solvent cleaning tank

The utility model relates to an organic solvent cleaning tank, which includes a part placement frame, an upper and lower moving mechanism, an internal cleaning groove and an external heating slot. The top of the part placement frame is connected to the upper and lower moving mechanism, and the bottom line moves up and down under the driving mechanism of the upper and lower moving bodies, and the bottom end of the part placement frame is extended into the internal cleaning groove and inside clear. There are internal cleaning grooves and inner cleaning grooves, inner cleaning grooves are arranged in the inner cleaning tank, the inner cleaning groove is connected with the inner cleaning slot, and the bottom end of the internal cleaning groove is opened with waste liquid, and the internal cleaning trough has ultrasonic shock plate and internal cleaning slot inside the inner cleaning tank. The utility model can improve the cleaning effect of the product, improve the safety of the equipment, and overcome the defects of poor cleaning effect, low cleaning efficiency and unsafe heating existing in the existing cleaning equipment, and the utility model can improve the cleaning effect of the product and improve the safety of the equipment.

【技术实现步骤摘要】
一种有机溶剂清洗槽[
]本技术涉及半导体清洗设备
，具体地说是一种有机溶剂清洗槽。[
技术介绍
]在半导体芯片湿法制程工艺设备和精密零件清洗设备中，常常会使用各种有机溶剂来处理产品，如去胶、去蜡、有机清洗等制程步骤。常用有机溶剂包括(无水乙醇、去胶液、丙酮等)。此类有机溶剂有易燃易爆炸、腐蚀性等特性。因此，有机溶剂清洗槽需要有一些特别的设计和制作方法，以提高产品清洗效果，提升设备安全性。目前，此类清洗设备中对半导体芯片和精密零件有清洗效果差，清洗效率底，加热不安全等缺陷。不能满足半导体芯片和精密零件的对清洗设备的要求越来越高。因此，开发更有效率和更加安全的清洗设备是迫切的需求。[
技术实现思路
]本技术的目的就是要解决上述的不足而提供一种有机溶剂清洗槽，能够提高产品清洗效果，提升设备安全性，克服了现有清洗设备所存在的清洗效果差、清洗效率低、加热不安全等缺陷。为实现上述目的设计一种有机溶剂清洗槽，包括零件放置架1、上下运动机构、内部清洗槽7以及外部加热槽14，所述零件放置架1顶端连接上下运动机构，并在上下运动机构的带动下做上下直线运动，所述零件放置架1底端伸入内部清洗槽7，所述内部清洗槽7上开设有内部清洗槽排出孔9、内部清洗槽进液孔10，所述内部清洗槽7内设置有内部清洗槽进液管5，所述内部清洗槽进液管5与内部清洗槽进液孔10连接，所述内部清洗槽7底端开设有废液排除孔11，所述内部清洗槽7内底部置有超声波震板13，所述内部清洗槽7设置于外部加热槽14内并相互隔离，所述外部加热槽14内底部安装有加热器12。所述上下运动机构包括电动机3、凸轮2、滑轨4，所述电动机3带动凸轮2旋转，所述凸轮2的输出端连接滑轨4，所述滑轨4在凸轮2的带动下做上下直线运动，所述零件放置架1与滑轨4相连接。所述外部加热槽14顶部装设有外部加热槽传感器8，所述外部加热槽传感器8电连接加热器12。所述零件放置架1采用不锈钢316材质外部电解抛光处理。所述内部清洗槽7、内部清洗槽进液管5均采用不锈钢316材质外部电解抛光处理。所述内部清洗槽7上部采用内部清洗槽溢流V槽(15)方式设计。所述清洗槽进液管5底部采用多孔进液设计。所述外部加热槽14和加热器12均采用不锈钢304制作。所述超声波震板13采用不锈钢316材质外部电解抛光处理。本技术同现有技术相比，具有如下优点：(1)利用电动机带动凸轮旋转，凸轮带动滑轨使电机的圆周运动变成上下直线运动传导给零件放置架。在内部清洗槽中零件放置架上下直线运动时使得待清洗零件做上下直线运动，这样做可以使得传动机械结构和内部清洗槽清洗溶剂分离，不污染内部清洗槽中清洗溶剂，且电动机离内部清洗槽较远可以更方便的做防爆处理，提高设备安全性；(2)待清洗零件在内部清洗槽中不断的上下运动，使得待清洗零件不断与新的清洗溶剂接触，增加杂质溶解或者反应速度，不溶解杂质也可以更快从待清洗零件上剥离，提高清洗效果；(3)通过内部清洗槽排除孔、内部清洗槽进液孔和内部清洗槽进液管，在内部清洗槽中流动，产生内部流场，使得待清洗零件可以不断和内部均匀流动的清洗溶剂接触反应，提高清洗效果和清洗速度；(4)利用外部加热槽和内部清洗槽隔离，加热器加热外部加热槽中的水，水温传导至内部清洗槽，同时利用外部加热槽传感器保护加热器，防止加热器干烧，控制外部加热槽和内部清洗槽中的温度；(5)超声波震板放置在内部清洗槽中，利用超声波空化效应清洗待清洗零件，而超声波震板采用不锈钢316材质外部电解抛光处理，不污染清洗溶剂，且超声波震板一体设计方便更换，超声波空化效应清洗无死角，对零部件的损伤小。[附图说明]图1是本技术的结构示意图；图中：1、零件放置架2、凸轮3、电动机4、滑轨5、内部清洗槽进液管6、待清洗零件7、内部清洗槽8、外部加热槽传感器9、内部清洗槽排出孔10、内部清洗槽进液孔11、废液排除孔12、加热器13、超声波震板14、外部加热槽15、内部清洗槽溢流V槽。[具体实施方式]下面结合附图对本技术作以下进一步说明：如附图所示，本技术包括：零件放置架1、上下运动机构、内部清洗槽7以及外部加热槽14，零件放置架1顶端连接上下运动机构，并在上下运动机构的带动下做上下直线运动，零件放置架1底端伸入内部清洗槽7，内部清洗槽7上开设有内部清洗槽排出孔9、内部清洗槽进液孔10，内部清洗槽7内设置有内部清洗槽进液管5，内部清洗槽进液管5与内部清洗槽进液孔10连接，内部清洗槽7底端开设有废液排除孔11，内部清洗槽7内底部置有超声波震板13，超声波震板13采用不锈钢316材质外部电解抛光处理，内部清洗槽7设置于外部加热槽14内并相互隔离，外部加热槽14内底部安装有加热器12。其中，上下运动机构包括电动机3、凸轮2、滑轨4，电动机3带动凸轮2旋转，凸轮2的输出端连接滑轨4，滑轨4在凸轮2的带动下做上下直线运动，零件放置架1与滑轨4相连接，利用电动机3带动凸轮2旋转，凸轮2带动滑轨4使电机的圆周运动变成上下直线运动传导给零件放置架1，在内部清洗槽7中上下直线运动的零件放置架1时使得待清洗零件6做上下直线运动；零件放置架1采用不锈钢316材质外部电解抛光处理。本技术中，外部加热槽14顶部装设有外部加热槽传感器8，外部加热槽传感器8电连接加热器12；内部清洗槽7、内部清洗槽进液管5均采用不锈钢316材质外部电解抛光处理，从而不污染内部清洗溶剂；内部清洗槽7上部采用内部清洗槽溢流V槽15方式设计，可以破除清洗溶剂表面张力，更快更均匀的通过内部清洗槽排除孔9排除清洗溶剂中杂质，清洗槽进液管5底部采用多孔进液设计，从而提高溶液进液均匀性，以及提高清洗效果和清洗速度；外部加热槽14和加热器12均采用不锈钢304制作，防止生锈腐蚀；加热器12不和内部清洗槽7清洗溶剂接触(有机溶剂易燃)，则能够提高加热安全性，内部清洗槽7温度提高有利于提高提高清洗反应速度，提升生产效率。本技术的主要原理为：a.利用超声波空化效应，提高清洗效果；b.利用加热溶液，提供清洗剂活性，提升清洗效果；c.利用上下晃动机构，增加溶液反应面积，提升清洗效果；d.利用循环管路提高溶液反应面积，取出溶液杂质，提升清洗效果和溶液使用时间；e.利用内槽清洗槽和外部加热槽隔离方式，提高设备安全性。本技术并不受上述实施方式的限制，其他的任何未背离本技术的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有机溶剂清洗槽，其特征在于：包括零件放置架(1)、上下运动机构、内部清洗槽(7)以及外部加热槽(14)，所述零件放置架(1)顶端连接上下运动机构，并在上下运动机构的带动下做上下直线运动，所述零件放置架(1)底端伸入内部清洗槽(7)，所述内部清洗槽(7)上开设有内部清洗槽排出孔(9)、内部清洗槽进液孔(10)，所述内部清洗槽(7)内设置有内部清洗槽进液管(5)，所述内部清洗槽进液管(5)与内部清洗槽进液孔(10)连接，所述内部清洗槽(7)底端开设有废液排除孔(11)，所述内部清洗槽(7)内底部置有超声波震板(13)，所述内部清洗槽(7)设置于外部加热槽(14)内并相互隔离，所述外部加热槽(14)内底部安装有加热器(12)。

【技术特征摘要】
1.一种有机溶剂清洗槽，其特征在于：包括零件放置架(1)、上下运动机构、内部清洗槽(7)以及外部加热槽(14)，所述零件放置架(1)顶端连接上下运动机构，并在上下运动机构的带动下做上下直线运动，所述零件放置架(1)底端伸入内部清洗槽(7)，所述内部清洗槽(7)上开设有内部清洗槽排出孔(9)、内部清洗槽进液孔(10)，所述内部清洗槽(7)内设置有内部清洗槽进液管(5)，所述内部清洗槽进液管(5)与内部清洗槽进液孔(10)连接，所述内部清洗槽(7)底端开设有废液排除孔(11)，所述内部清洗槽(7)内底部置有超声波震板(13)，所述内部清洗槽(7)设置于外部加热槽(14)内并相互隔离，所述外部加热槽(14)内底部安装有加热器(12)。2.如权利要求1所述的有机溶剂清洗槽，其特征在于：所述上下运动机构包括电动机(3)、凸轮(2)、滑轨(4)，所述电动机(3)带动凸轮(2)旋转，所述凸轮(2)的输出端连接滑轨(4)，所述滑轨(4)在凸轮(2)的带动下做上下直线运动，...

【专利技术属性】
技术研发人员：岳佳佳，刘号，简建至，
申请(专利权)人：冠礼控制科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31