有机电致发光器件制造技术

本发明专利技术公开了一种有机电致发光器件，包括：阳极；第一有机功能层，第一有机功能层形成于阳极上；发光层，发光层形成于第一有机功能层上；第二有机功能层，第二有机功能层形成于发光层上；阴极，阴极形成于第二有机功能层上；其中，发光层包括红光发光层、绿光发光层和蓝光发光层；红光发光层与绿光发光层均形成于第一有机功能层上；蓝光发光层形成于红光发光层上以及未被红光发光层和绿光发光层覆盖的第一有机功能层上；且蓝光发光层覆盖红光发光层的区域作为红光发光层的第一红光补偿层。其以部分蓝光发光层作为红光发光层的部分光学补偿层，减少了传统的红光发光层的光学补偿层的厚度，有效提高了器件的良率。

【技术实现步骤摘要】
有机电致发光器件
本专利技术涉及发光器件
，特别是涉及一种有机电致发光器件。
技术介绍
有机电致发光器件OLED通常包括多个像素，每个像素由若干子像素组成。目前，在中小尺寸中广泛应用的是由红、绿、蓝三种像素组成一个像素。相应的，有机电致发光器件的结构中通常包括并排设置的红光发光层、绿光发光层和蓝光发光层。其中，红光发光层对应红光像素区域，绿光发光层对应绿光像素区域，蓝光发光层对应蓝光像素区域。由于红光、绿光和蓝光的波长不同，为了保证发光器件的显示效果，需要在发光器件中对绿光发光层和红光发光层进行光学补偿。传统的对绿光发光层和红光发光层进行光学补偿时，通常是采用氧化物，如：ITO(IndiumTinOxide，掺锡氧化铟)或者有机材料来实现。但是，采用有机材料进行红光发光层和绿光发光层的光学补偿时需要采用精密MASK(掩膜板)进行蒸镀以形成光学补偿层。而采用精密MASK进行蒸镀形成光学补偿层时，当量产线长时间蒸镀时很容易在蒸镀过程中阻塞精密MASK，从而影响发光器件的性能。
技术实现思路
基于此，有必要针对传统的采用精密MASK蒸镀形成光学补偿层时容易导致蒸镀过程中出现阻塞现象而影响发光器件的性能的问题，提供一种有机电致发光器件。为实现本专利技术目的提供的一种有机电致发光器件，包括：阳极；第一有机功能层，所述第一有机功能层形成于所述阳极上；发光层，所述发光层形成于所述第一有机功能层上；第二有机功能层，所述第二有机功能层形成于所述发光层上；阴极，所述阴极形成于所述第二有机功能层上；其中，所述发光层包括红光发光层、绿光发光层和蓝光发光层；所述红光发光层与所述绿光发光层均形成于所述第一有机功能层上；所述蓝光发光层形成于所述红光发光层上以及未被所述红光发光层和所述绿光发光层覆盖的所述第一有机功能层上；且所述蓝光发光层覆盖所述红光发光层的区域作为所述红光发光层的第一红光补偿层。在其中一个实施例中，所述蓝光发光层的材料为偏电子型材料。在其中一个实施例中，所述蓝光发光层的结构为单主体结构。在其中一个实施例中，所述蓝光发光层主体材料的HOMO小于所述红光发光层主体材料的HOMO。在其中一个实施例中，所述蓝光发光层的厚度为10nm-60nm。在其中一个实施例中，所述第一有机功能层包括空穴注入层、空穴传输层、绿光补偿层和第二红光补偿层；所述空穴注入层直接形成于所述阳极上；所述空穴传输层形成于所述空穴注入层上；所述绿光补偿层与所述第二红光补偿层均形成于所述空穴传输层上并相邻设置；且所述绿光补偿层与所述绿光发光层相对应，所述第二红光补偿层与所述红光发光层相对应。在其中一个实施例中，所述绿光补偿层的材料与所述第二红光补偿层的材料相同；且所述绿光补偿层的厚度与所述第二红光补偿层的厚度相同。在其中一个实施例中，所述第二有机功能层包括空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层；所述空穴阻挡层形成于所述蓝光发光层上和未被所述蓝光发光层覆盖的所述绿光发光层上；所述电子传输层形成于所述空穴阻挡层上；所述电子注入层形成于所述电子传输层上。在其中一个实施例中，所述空穴阻挡层的厚度小于或等于20nm。在其中一个实施例中，所述空穴阻挡层的厚度为5nm-10nm。上述有机电致发光器件，通过将红光发光层和绿光发光层均形成在第一有机功能层上，并设置蓝光发光层形成于红光发光层上以及未被红光发光层和绿光发光层覆盖的第一有机功能层上，从而以蓝光发光层覆盖红光发光层的区域作为红光发光层的第一红光补偿层。由此，其通过以部分蓝光发光层作为红光发光层的部分光学补偿层，减少了传统的全部采用有机材料进行红光发光层的光学补偿时所需要的光学补偿层的厚度，进而也就减少了传统的采用精密MASK蒸镀形成光学补偿层的时间。同时，蓝光发光层可直接采用不太精密的MASK进行蒸镀来实现。由此，也就有效避免了传统的采用精密MASK蒸镀形成较厚的光学补偿层而导致精密MASK阻塞的现象，最终保证了发光器件的性能。附图说明图1为本专利技术的有机电致发光器件的一具体实施例的纵截面结构示意图；图2为本专利技术的有机电致发光器件的另一具体实施例的纵截面结构示意图。具体实施方式为使本专利技术技术方案更加清楚，以下结合附图及具体实施例对本专利技术作进一步详细说明。首先，需要说明的是，为了保证附图能够清晰的表现本专利技术的有机电致发光器件的结构，说明书附图中每一个具体实施例对应的附图会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。也就是说，在本专利技术的有机电致发光器件中，说明书附图所提供的具体实施例的结构图仅起辅助说明的作用，实际所制备的有机电致发光器件每一层的厚度与面积并不完全以附图中所示的实施例为准。参见图1，作为本专利技术的有机电致发光器件100的一具体实施例，其包括阳极110、第一有机功能层120、发光层130、第二有机功能层140和阴极150。其中，阳极110可直接形成于基板上，也可直接采用具有导电性能的基板作为阳极110，如：ITO。第一有机功能层120、发光层130和第二有机功能层140均位于阳极110与阴极150之间。发光层130形成于第一有机功能层120与第二有机功能层140之间。具体的：第一有机功能层120形成于阳极110上，发光层130形成于第一有机功能层120上，第二有机功能层140形成于发光层130上，阴极150则形成于第二有机功能层140上。其中，发光层130包括红光发光层132、绿光发光层131和蓝光发光层133。红光发光层132和绿光发光层131均形成于第一有机功能层120上。蓝光发光层133则形成于红光发光层132上以及未被红光发光层132和绿光发光层131覆盖的第一有机功能层120上。并且，蓝光发光层133覆盖红光发光层132的区域作为红光发光层132的第一红光补偿层。由此，其通过将蓝光发光层133形成在红光发光层132和未被红光发光层132和绿光发光层131覆盖的第一有机功能层120上，使得蓝光发光层133作为蓝光子像素的同时，还能够实现对红光发光层132的补偿。其实现了以覆盖在红光发光层132上的部分蓝光发光层133作为红光发光层132的第一红光补偿层的目的。由此，减少了传统的采用精密MASK蒸镀的红光补偿层的厚度，从而也就避免了精密MASK阻塞的现象，有效提高了最终所制备的有机电致发光器件100的良率。其中，需要说明的是，蓝光发光层133的材料为偏电子型材料，以保证部分蓝光发光层133作为红光发光层132的第一红光补偿层的同时，还能够保证另一部分蓝光发光层133同时作为蓝光子像素，从而有效保证有机电致发光器件100的性能。并且，其通过采用蓝光发光层133作为红光发光层132的部分光学补偿层，在有效避免蒸镀过程中掩膜板阻塞的现象的同时，还进一步减少了光学补偿层的制备工艺，节省了蒸镀材料。其中，需要说明的是，参见图1，在本专利技术的有机电致发光器件100的一具体实施例中，第一有机功能层120具体可包括空穴注入层121、空穴传输层122、绿光补偿层123和第二红光补偿层124。其中，空穴注入层121直接形成于阳极110上。空穴传输层122形成于空穴注入层121上。绿光补偿层123与第二红光补偿层124均形成于空穴传输层122上并相邻设置。并且，绿光补偿层123与绿光发光层131相对应，第二红光补偿层124与红光发光层1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有机电致发光器件，其特征在于，包括：阳极；第一有机功能层，所述第一有机功能层形成于所述阳极上；发光层，所述发光层形成于所述第一有机功能层上；第二有机功能层，所述第二有机功能层形成于所述发光层上；阴极，所述阴极形成于所述第二有机功能层上；其中，所述发光层包括红光发光层、绿光发光层和蓝光发光层；所述红光发光层与所述绿光发光层均形成于所述第一有机功能层上；所述蓝光发光层形成于所述红光发光层上以及未被所述红光发光层和所述绿光发光层覆盖的所述第一有机功能层上；且所述蓝光发光层覆盖所述红光发光层的区域作为所述红光发光层的第一红光补偿层。

【技术特征摘要】
1.一种有机电致发光器件，其特征在于，包括：阳极；第一有机功能层，所述第一有机功能层形成于所述阳极上；发光层，所述发光层形成于所述第一有机功能层上；第二有机功能层，所述第二有机功能层形成于所述发光层上；阴极，所述阴极形成于所述第二有机功能层上；其中，所述发光层包括红光发光层、绿光发光层和蓝光发光层；所述红光发光层与所述绿光发光层均形成于所述第一有机功能层上；所述蓝光发光层形成于所述红光发光层上以及未被所述红光发光层和所述绿光发光层覆盖的所述第一有机功能层上；且所述蓝光发光层覆盖所述红光发光层的区域作为所述红光发光层的第一红光补偿层。2.根据权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述蓝光发光层的材料为偏电子型材料。3.根据权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述蓝光发光层的结构为单主体结构。4.根据权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述蓝光发光层主体材料的HOMO小于所述红光发光层主体材料的HOMO。5.根据权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述蓝光发光层的厚度为10nm-60nm。6.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：高松，李维维，刘嵩，
申请(专利权)人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32