喷嘴制造技术

一种喷嘴，所述喷嘴包含圆柱状的基部及抵顶部，基部的中心具有通气孔，通气孔的孔径不大于基部最大厚度的两倍；基部的外周缘或内壁具有环状沟槽，环状沟槽的深度不大于基部最大厚度的二分之一；抵顶部由基部的一端向外延伸形成，抵顶部的中心具有与通气孔相互连通的穿孔，抵顶部的最大外径不小于基部的最大外径，抵顶部远离基部的一端具有平整的顶面；喷嘴能透过环状沟槽卡合设置于机台，且各喷嘴的抵顶部的部分能对应贴合设置于机台上的晶圆储存盒的气孔周缘，而机台能通过喷嘴及晶圆储存盒的气孔，对晶圆储存盒内部进行气体交换。

injector

A nozzle, the nozzle base contains a cylindrical base and the arrival of top center has a vent vent, two times the diameter is not greater than the maximum thickness of the base; the base of the outer periphery of the inner wall or an annular groove with an annular groove, the depth is less than the maximum thickness of the base is 1/2; from the top end of the base portion extends outward to form the top of the center has arrived, perforation with the vent holes are communicated with each other, the maximum diameter of the largest diameter at the top of the base is not less than the other end, stay away from the top base has a top flat surface of the nozzle; through the clamping ring groove arranged on the platform, and to the top the nozzle part of the corresponding joint arranged on the platform of wafer storage box machine and peripheral hole, can through the air hole nozzle and wafer storage box, the wafer storage box inside the gas exchange.

【技术实现步骤摘要】
喷嘴
本技术涉及一种喷嘴，特别是一种固定设置于用以对晶圆储存盒进行气体交换的机台上的喷嘴。
技术介绍
在晶圆的生产过程中，晶圆在运送过程中，必需透过晶圆储存盒来进行运送，而为了避免晶圆表面的各种结构于运送过程中发生质变。相关生产厂商会利用特制的机台，来对晶圆储存盒内的气体进行交换，以使晶圆储存盒内充满相对稳定的气体。对于相关厂商而言，如何设计机台上的喷嘴，以避免机台对晶圆储存盒进行气体交换时，气体由喷嘴向外泄漏的问题，成为了制作该机台时最重要的问题之一。
技术实现思路
本技术的主要目的在于提供一种喷嘴，用以解决现有技术中，喷嘴容易在机台对晶圆储存盒内部的气体进行交换时，发生泄漏的问题。为了实现上述目的，本技术提供一种喷嘴，其用以固定设置于一机台，机台用以提供一晶圆储存盒置放，而喷嘴能与晶圆储存盒的气孔相连接，而机台能通过喷嘴对晶圆储存盒充气或抽气，喷嘴包含：一基部及一抵顶部。基部为一圆柱状结构，基部的中心形成有一通气孔；基部的两端分别定义为一通气端及一连接端，基部具有一环状沟槽，环状沟槽用以与机台相互卡合，环状沟槽形成于基部的外周缘或基部形成通气孔的内壁；其中，基部的外周缘与基部形成通气孔的内壁距离定义为一最大厚度，最大厚度减去环状沟槽的深度定义为一最小厚度，通气孔的孔径不大于最大厚度的两倍，且环状沟槽的深度不大于最小厚度。抵顶部由基部的连接端向远离基部的方向延伸形成，抵顶部的中心形成有一穿孔，穿孔、通气孔及环状沟槽位于相同的中心轴线上，而穿孔与通气孔相互连通，抵顶部的最大外径不小于基部的最大外径，抵顶部相反于与基部相连接的一端具有平整的一顶面；其中，晶圆储存盒固定设置于机台时，抵顶部的部分能对应贴合于晶圆储存盒的气孔周缘，而穿孔及通气孔则能对应与晶圆储存盒的气孔相互连通。优选地，该抵顶部包含有多个环状气密结构，该些环状气密结构由该顶面向远离该基部的方向凸出延伸形成，且该些环状气密结构彼此间隔地设置。优选地，各该环状气密结构与该穿孔位于相同的中心轴线上；最接近该穿孔的该环状气密结构的内环侧壁，不与形成该穿孔的内壁共平面。优选地，最远离该穿孔的该环状气密结构的外环侧壁，与该穿孔的中心轴线的距离，不大于该基部的外环侧壁与该通气孔的中心轴线的距离。优选地，该些环状气密结构相反于与该顶面相连接的一接触表面位于相同的平面；其中，该晶圆储存盒固定设置于该机台时，各该环状气密结构的该接触表面能对应贴合于该晶圆储存盒的气孔周缘。优选地，该抵顶部的厚度由邻近于该基部的位置，向远离该基部的方向逐渐递减。优选地，该抵顶部具有一辅助环状沟槽，该辅助环状沟槽形成于该抵顶部形成该穿孔的内壁，且该辅助环状沟槽与该环状沟槽彼此相连通。优选地，该抵顶部相反于与该基部相连接的一端内凹形成有一卡合槽，该卡合槽与该穿孔相互连通，且该卡合槽的孔径大于该穿孔的孔径，该顶面形成于该卡合槽与该穿孔相连接的位置；该卡合槽用以与位于该晶圆储存盒的气孔周缘的结构相互卡合。优选地，该环状沟槽形成于该基部形成该通气孔的内壁，该基部的外周缘向外延伸形成有一强化结构，该强化结构与该抵顶部相互连接，而该抵顶部的外周缘与该强化结构的外周缘位于同一弧面。优选地，该抵顶部邻近于该穿孔的位置形成有一环状斜面，该环状斜面由远离该基部的一端向该穿孔的中心轴线方向倾斜设置。本技术的有益效果可以在于：透过基部及抵顶部的设计，可以有效地加强喷嘴与晶圆储存盒接触时的气密度，而降低喷嘴于机台对晶圆储存盒内部进行气体交换时发生气体泄漏的问题。附图说明图1为本技术的喷嘴设置于机台上的示意图。图2、3为本技术的喷嘴的第一实施例的示意图。图4、5为本技术的喷嘴的第二实施例的示意图。图6、7为本技术的喷嘴的第三实施例的示意图。图8、9为本技术的喷嘴的第四实施例的示意图。图10、11为本技术的喷嘴的第五实施例的示意图。具体实施方式请参阅图1，其为本技术的喷嘴固定设置于机台的示意图。如图所示，机台A包含有一平台A1，本技术的喷嘴1则是固定设置于该平台A1上，该平台A1用以提供一晶圆储存盒(FOUP)置放，且机台A能对设置于平台A1上的晶圆储存盒内部的气体进行置换，以使晶圆储存盒内部填充有相对稳定的气体(例如惰性气体)。多个本技术的喷嘴1固定设置于平台A1，当晶圆储存盒固定设置于平台A1时，该些喷嘴1将对应贴合于晶圆储存盒的气孔周缘，而机台A所产生的气体，则是通过该些喷嘴1及晶圆储存盒的气孔，进入晶圆储存盒中；相对地，晶圆储存盒内的气体，亦可以通过气孔及喷嘴1而排出。[第一实施例]请一并参阅图2及图3，其为本技术的喷嘴1的第一实施例的示意图。如图所示，喷嘴1包含有一基部10及一抵顶部11。基部10为圆柱状结构，基部10的中心形成有一通气孔101；较佳地，基部10形成通气孔101的内壁10a是呈现为平整状。基部10具有一环状沟槽102，环状沟槽102用以与机台A(如图1所示)相互卡合，环状沟槽102形成于基部10的外周缘10b；如图3所示，环状沟槽102的截面可以是呈现为矩形状。如图3所示，在实际应用中，基部10的外周缘10b与基部10形成通气孔101的内壁10a距离定义为一最大厚度T1，最大厚度T1减去环状沟槽102的深度D则定义为一最小厚度T2。较佳地，通气孔101的孔径是不大于最大厚度T1的两倍，且环状沟槽102的深度D是不大于最小厚度T2。如此，当晶圆储存盒抵压于喷嘴1上时，基部10将可以具有相对较佳的支撑力，而可避免喷嘴1因为支撑力不足，而发生漏气的问题。基部10的两端分别定义为一通气端E1及一连接端E2，通气端E1即为基部10与机台A(如图1所示)相互连接的一端，而基部10的连接端E2沿中心轴线C向远离基部10的方向延伸形成抵顶部11。抵顶部11的中心形成有一穿孔111，该穿孔111、基部10的通气孔101及环状沟槽102位于相同的中心轴线C上。于本实施例中，是以通气孔101的孔径与穿孔111的孔径相同为例，但不以此为限，在不同的应用中，通气孔101及穿孔111可以是具有不同的孔径。在通气孔101的孔径不与穿孔111的孔径相同，且环状沟槽102形成于基部10的外周缘10b的实施例中，较佳地，穿孔111孔径的二分之一是不大于，通气孔101的孔径的二分之一与最小厚度T2的和。抵顶部11的最大外径是略大于基部10的最大外径；在其他的实施中，抵顶部11的最大外径亦可以是与基部10的最大外径相同，不以图中所示为限。抵顶部11相反于与基部10相连接的一端具有平整的一顶面11b。较佳地，顶面11b可以是沿中心轴线C向远离基部10的方向，凸出延伸形成有多个环状气密结构12，该些环状气密结构12是与穿孔111位于相同的中心轴线C上。该些环状气密结构12是彼此间隔地设置，且该些环状气密结构12相反于与顶面11b相连接的一接触表面12c是位于相同的平面。如此，当晶圆储存盒抵压于喷嘴1时，该些环状气密结构12的接触表面12c能同时紧密地接触于晶圆储存盒的气孔周缘，从而可强化喷嘴1与晶圆储存盒之间的气密效果。在更好的实施态样中，最接近穿孔111的环状气密结构12的内环侧壁12a，是不与形成穿孔111的内壁10a共平面；最远离穿孔111的环状气密结构本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种喷嘴，其特征在于，所述喷嘴用以固定设置于一机台，该机台用以提供一晶圆储存盒置放，而该喷嘴能与该晶圆储存盒的气孔相连接，而该机台能通过该喷嘴对该晶圆储存盒充气或抽气，该喷嘴包含：一基部，其为一圆柱状结构，该基部的中心形成有一通气孔；该基部的两端分别定义为一通气端及一连接端，该基部具有一环状沟槽，该环状沟槽用以与该机台相互卡合，该环状沟槽形成于该基部的外周缘或该基部形成该通气孔的内壁；其中，该基部的外周缘与该基部形成该通气孔的内壁距离定义为一最大厚度，该最大厚度减去该环状沟槽的深度定义为一最小厚度，该通气孔的孔径不大于最大厚度的两倍，且该环状沟槽的深度不大于最小厚度；以及一抵顶部，其由该基部的该连接端向远离该基部的方向延伸形成，该抵顶部的中心形成有一穿孔，该穿孔、该通气孔及该环状沟槽位于相同的中心轴线上，而该穿孔与该通气孔相互连通，该抵顶部的最大外径不小于该基部的最大外径，该抵顶部相反于与该基部相连接的一端具有平整的一顶面；其中，该晶圆储存盒固定设置于该机台时，该抵顶部的部分能对应贴合于该晶圆储存盒的气孔周缘，而该穿孔及该通气孔则能对应与该晶圆储存盒的气孔相互连通。

【技术特征摘要】
1.一种喷嘴，其特征在于，所述喷嘴用以固定设置于一机台，该机台用以提供一晶圆储存盒置放，而该喷嘴能与该晶圆储存盒的气孔相连接，而该机台能通过该喷嘴对该晶圆储存盒充气或抽气，该喷嘴包含：一基部，其为一圆柱状结构，该基部的中心形成有一通气孔；该基部的两端分别定义为一通气端及一连接端，该基部具有一环状沟槽，该环状沟槽用以与该机台相互卡合，该环状沟槽形成于该基部的外周缘或该基部形成该通气孔的内壁；其中，该基部的外周缘与该基部形成该通气孔的内壁距离定义为一最大厚度，该最大厚度减去该环状沟槽的深度定义为一最小厚度，该通气孔的孔径不大于最大厚度的两倍，且该环状沟槽的深度不大于最小厚度；以及一抵顶部，其由该基部的该连接端向远离该基部的方向延伸形成，该抵顶部的中心形成有一穿孔，该穿孔、该通气孔及该环状沟槽位于相同的中心轴线上，而该穿孔与该通气孔相互连通，该抵顶部的最大外径不小于该基部的最大外径，该抵顶部相反于与该基部相连接的一端具有平整的一顶面；其中，该晶圆储存盒固定设置于该机台时，该抵顶部的部分能对应贴合于该晶圆储存盒的气孔周缘，而该穿孔及该通气孔则能对应与该晶圆储存盒的气孔相互连通。2.依据权利要求1所述的喷嘴，其特征在于，该抵顶部包含有多个环状气密结构，该些环状气密结构由该顶面向远离该基部的方向凸出延伸形成，且该些环状气密结构彼此间隔地设置。3.依据权利要求2所述的喷嘴，其特征在于，各该环状气密结构与该穿孔位于相同的中心轴线上；最接近该穿孔的该环状气密结构的内环侧壁，...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈勇州，古伊钧，林祺浩，
申请(专利权)人：华景电通股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71