发光装置、发光装置的制造方法及发光系统制造方法及图纸

基板(100)具有透光性，发光部(140)在基板(100)上形成。发光部(140)具有第1电极(110)、有机层(120)、及第2电极(130)。有机层(120)位于第1电极(110)与第2电极(130)之间。第2电极(130)延伸至发光部(140)的外侧。并且，第2电极(130)之中的、位于发光部(140)的外侧的部分的至少端部被氧化。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】发光装置、发光装置的制造方法及发光系统
本专利技术涉及发光装置、发光装置的制造方法及发光系统。
技术介绍
近年来，开展对利用有机EL的发光装置的开发。该发光装置用作照明装置、显示装置，且具有在第1电极与第2电极之间夹持有机层的构成。并且，通常，对于第1电极使用透明材料，对于第2电极使用金属材料。作为利用有机EL的发光装置之一，包括专利文献1中记载的技术。专利文献1的技术中，为了使利用有机EL的显示装置具有光透过性(透视(seethrough))，将第2电极仅设置于像素的一部分。在如上所述的构造中，由于位于多个第2电极之间的区域使光透过，因此，显示装置能够具有光透过性。需要说明的是，在专利文献1记载的技术中，在多个第2电极之间，为了划分像素，而形成有透光性的绝缘膜。在专利文献1中，作为该绝缘膜的材料，例示了氧化硅等无机材料、丙烯酸树脂等树脂材料。另外，专利文献2中记载了，将第2电极制成网眼状、并规定网眼的节距(pitch)，由此提高透过发光装置的像的可视性。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2011-23336号公报专利文献2：日本特开2014-154404号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题为了使发光装置具有光透过性，需要在发光装置中设置未设置第2电极的区域。故而，需要使第2电极具有图案。作为形成该图案的方法，例如，包括在蒸镀时使用掩膜的方法等。但是，在形成第2电极的图案时，蒸镀材料经由掩膜与基板的间隙而蔓延、第2电极的端部向第2电极的外侧扩展，结果，出现如下可能性，即未设置第2电极的区域变窄从而发光装置的光透过性降低。作为本专利技术要解决的课题，可举出使得发光装置的光透过性不会降低作为一个例子。用于解决课题的手段技术方案1记载的专利技术为一种发光装置，所述发光装置具有：透光性的基板，和在所述基板的第1表面形成的发光部，所述发光部具有第1电极、第2电极、及位于所述第1电极与所述第2电极之间的有机层，所述第2电极延伸至所述发光部的外侧，并且所述第2电极之中的、位于所述发光部的外侧的部分的至少端部被氧化。技术方案10记载的专利技术为一种发光装置的制造方法，具有：在透光性的基板之上形成第1电极的工序，形成绝缘层的工序，所述绝缘层覆盖所述第1电极的边缘、且划分发光部，在所述第1电极之上形成有机层的工序，在所述有机层之上形成第2电极的工序，和将所述第2电极之中的、位于所述发光部的外侧的部分的端部氧化的工序。技术方案14记载的专利技术为一种发光系统，所述发光系统具有：将空间与外部分隔的透光性的分隔部件，在所述分隔部件的所述空间侧的面配置的透光性的基板，和在所述基板配置的发光部，所述发光部具有第1电极、第2电极、及位于所述第1电极与所述第2电极之间的有机层，所述第2电极延伸至所述发光部的外侧，并且所述第2电极之中的、位于所述发光部的外侧的部分的至少端部被氧化。附图说明基于以下所述的优选的实施方式、及实施方式所附的以下附图，上述目的及其他目的、特征及优点将会变得明了。[图1]为示出第1实施方式涉及的发光装置的构成的剖面图。[图2]为将图1的主要部分放大的图。[图3]为发光装置的俯视图。[图4]为将由图2的虚线α围成的区域放大的图。[图5]为用于说明变形例1涉及的发光装置的主要部分的剖面图。[图6]为示出变形例2涉及的发光装置的构成的剖面图。[图7]为示出变形例3涉及的发光装置的构成的剖面图。[图8]为第2实施方式涉及的发光装置的俯视图。[图9]为从图8中将第2电极、有机层、及绝缘层除去而得到的图。[图10]为图8的B-B剖面图。[图11]为图8的C-C剖面图。[图12]为图8的D-D剖面图。[图13]为示出第3实施方式涉及的发光装置的构成的剖面图。[图14]为示出图13的变形例的剖面图。[图15]为示出实施例1涉及的发光系统的构成的剖面图。[图16]为示出实施例2涉及的发光系统的构成的剖面图。[图17]为示出实施例3涉及的发光系统的构成的剖面图。[图18]为示出图17的变形例的剖面图。[图19]为示出实施例4涉及的发光系统的构成的剖面图。[图20]为示出实施例5涉及的发光系统的构成的剖面图。[图21]为示出实施例6涉及的发光系统的构成的剖面图。具体实施方式以下，使用附图说明本专利技术的实施方式。需要说明的是，在全部附图中，对同样的构成要素标注同样的标记，适当省略说明。(第1实施方式)图1为示出第1实施方式涉及的发光装置10的构成的剖面图。图2为将图1的主要部分放大的图。第1实施方式涉及的发光装置10具有基板100及发光部140。基板100具有透光性，发光部140形成在基板100的第1表面100a。发光部140具有第1电极110、有机层120、及第2电极130。有机层120位于第1电极110与第2电极130之间。第2电极130延伸至发光部140的外侧。并且，第2电极130之中的、位于发光部140的外侧的部分的至少端部被氧化。以下，进行详细说明。发光装置10为底部发光型的照明装置，光从基板100的第2表面100b放射。基板100例如为玻璃基板、树脂基板等、透过可见光的基板。另外，基板100可以具有挠性。这种情况下，能够在基板100弯曲的状态下使用发光装置10。在具有挠性的情况下，基板100的厚度例如为10μm以上1000μm以下。基板100为例如矩形等的多边形。在基板100为树脂基板的情况下，基板100可使用例如PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)、PES(聚醚砜)、PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)或聚酰亚胺来形成。另外，在基板100为树脂基板的情况下，为抑制水分透过基板100，在基板100的至少一面(优选为两面)上，形成有SiNx、SiON等的无机阻挡膜(barrierfilm)。需要说明的是，可以在该无机阻挡膜与基板100之间，设置平坦化层(例如有机层)。在基板100的第1表面100a上，发光部140沿第1方向重复地设置。发光部140具有依序将第1电极110、有机层120、及第2电极130层叠的构成。第1电极110为具有光透过性的透明电极。透明电极的材料为包含金属的材料，例如为ITO(IndiumTinOxide)、IZO(IndiumZincOxide)、IWZO(IndiumTungstenZincOxide)、ZnO(ZincOxide)等的金属氧化物。第1电极110的厚度为例如10nm以上500nm以下。第1电极110使用例如溅射法或蒸镀法形成。需要说明的是，第1电极110也可以是碳纳米管、或PEDOT/PSS等的导电性有机材料。有机层120具有发光层。有机层120具有例如依序将空穴注入层、发光层、及电子注入层层叠的构成。可在空穴注入层与发光层之间形成空穴传输层。另外，可在发光层与电子注入层之间形成电子传输层。有机层120可通过蒸镀法形成。另外，有机层120之中的至少一层、例如与第1电极110接触的层可通过喷墨法、印刷法、或喷雾法等涂布法形成。需要说明的是，这种情况下，有机层120的剩余层通过蒸镀法形成。另外，有机层120的全部层可使用涂布法来形成。第2电极130为不透过可见光的材料，例如包含由选自由Al、Au、Ag、Pt、Mg、Sn、Zn、及In组成的第1组之中的金属、或由选自该第1组的金属的合金形成的金属层。这种情况下，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种发光装置，所述发光装置具有：透光性的基板，和在所述基板的第1表面形成的发光部，所述发光部具有第1电极、第2电极、及位于所述第1电极与所述第2电极之间的有机层，所述第2电极延伸至所述发光部的外侧，并且所述第2电极之中的、位于所述发光部的外侧的部分的至少端部被氧化。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.02.25 JP 2015-0358221.一种发光装置，所述发光装置具有：透光性的基板，和在所述基板的第1表面形成的发光部，所述发光部具有第1电极、第2电极、及位于所述第1电极与所述第2电极之间的有机层，所述第2电极延伸至所述发光部的外侧，并且所述第2电极之中的、位于所述发光部的外侧的部分的至少端部被氧化。2.根据权利要求1所述的发光装置，其中，所述端部的可见光的透过率比所述第2电极的其他部分的可见光的透过率高。3.根据权利要求1或2所述的发光装置，其中，所述端部的膜厚比所述第2电极的其他部分的膜厚薄。4.根据权利要求1～3中任一项所述的发光装置，所述发光装置具有覆盖所述第1电极的边缘的绝缘层，所述端部位于所述绝缘层之上。5.根据权利要求1～4中任一项所述的发光装置，所述发光装置具有位于所述发光部的邻位、且透过可见光的透光区域。6.根据权利要求5所述的发光装置，所述发光装置具有多个所述发光部，所述透光区域位于所述多个发光部之间。7.根据权利要求5或6所述的发光装置，其中，所述有机层还在所述透光区域中形成，且透过可见光。8.根据权利要求1～7中任一项所述的发光装置，其中，所述第2电极包含铝。...

【专利技术属性】
技术研发人员：高桥正树，丹博树，和气范明，
申请(专利权)人：日本先锋公司，日本东北先锋公司，
类型：发明
国别省市：日本,JP