The utility model discloses a radio frequency plasma chemical vapor deposition device of diamond films, including CVD reaction chamber, the inner wall of the CVD chamber is arranged on the magnetic induction coil, the CVD reaction chamber is arranged at the bottom of the reaction, the reaction of the top set of a lifting platform, the top of the lift the platform is provided with a base. The utility model is provided with CVD in the reaction chamber on the vacuum pump and the pressure gauge control for CVD reactor pressure, CVD reaction chamber pressure maintained at around 0.13Pa in the negative bias effect of deposition to form diamond film substrates, diamond film formed under low pressure, uniform thickness, production high efficiency, high deposition rate, good stability, tunability and good repeatability, ensure the quality of diamond film, by setting the mean velocity of jet nozzle, the plasma RF plasma generator in all speed spraying on the substrate, effectively improve the thickness of a diamond thin film formed on the substrate of homogeneity and stability.
【技术实现步骤摘要】
一种金刚石薄膜的射频等离子化学气相沉积装置
本技术涉及金刚石薄膜
,具体为一种金刚石薄膜的射频等离子化学气相沉积装置。
技术介绍
金刚石薄膜具有较高的硬度,良好的热传导率,极低的摩擦系数,优异的电绝缘性能,高的化学稳定性及红外透光性能。而现有的金刚石薄膜制成装置存在着,由于在沉积时,CVD反应室内的压力变化,造成生成的金刚石薄膜厚度不均匀、影响生产效率和沉积速率,导致金刚石薄膜稳定性、可调性和重复性较差,使生成的金刚石薄膜质量不能满足金刚石薄膜的使用需要。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种金刚石薄膜的射频等离子化学气相沉积装置,具备沉积速度快、厚度均匀、稳定性好、质量高的优点,解决了现有的金刚石薄膜制成存在的厚度小且不均匀,速率低、稳定性较差、质量低的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种金刚石薄膜的射频等离子化学气相沉积装置,包括CVD反应室,所述CVD反应室的内壁上设置有磁感应线圈,所述CVD反应室的底部设置有反应台,所述反应台的顶部设置有升降台,所述升降台的顶部设置有基体,所述基体和升降台之间设置有衬底,所述反应气体混合器通过管道连接有甲烷气体罐和氢气罐,所述甲烷气体罐和氢气罐与反应气体混合器之间均设置有流量计,所述反应气体混合器的出口通过管道连接有射频等离子发生器,所述射频等离子发生器通过波导与CVD反应室连接。优选的,所述CVD反应室的一侧上通过气管与真空泵连接,所述真空泵和CVD反应室之间的气管上设置有压力表。优选的,所述波导的一端上设置有喷管,所述喷管上设置有多个均速喷气喷头,所述均速喷气喷头设置在基体的正上方。优选的,所述反 ...
【技术保护点】
一种金刚石薄膜的射频等离子化学气相沉积装置,包括CVD反应室(1)和反应气体混合器(4),其特征在于:所述CVD反应室(1)的内壁上设置有磁感应线圈(2),所述CVD反应室(1)的底部设置有反应台(3),所述反应台(3)的顶部设置有升降台(14),所述升降台(14)的顶部设置有基体(13),所述基体(13)和升降台(14)之间设置有衬底(12),所述反应气体混合器(4)通过管道连接有甲烷气体罐(6)和氢气罐(7),所述甲烷气体罐(6)和氢气罐(7)与反应气体混合器(4)之间均设置有流量计,所述反应气体混合器(4)的出口通过管道连接有射频等离子发生器(8),所述射频等离子发生器(8)通过波导(9)与CVD反应室(1)连接。
【技术特征摘要】
1.一种金刚石薄膜的射频等离子化学气相沉积装置,包括CVD反应室(1)和反应气体混合器(4),其特征在于:所述CVD反应室(1)的内壁上设置有磁感应线圈(2),所述CVD反应室(1)的底部设置有反应台(3),所述反应台(3)的顶部设置有升降台(14),所述升降台(14)的顶部设置有基体(13),所述基体(13)和升降台(14)之间设置有衬底(12),所述反应气体混合器(4)通过管道连接有甲烷气体罐(6)和氢气罐(7),所述甲烷气体罐(6)和氢气罐(7)与反应气体混合器(4)之间均设置有流量计,所述反应气体混合器(4)的出口通过管道连接有射频等离子发生器(8),所述射频等离子发生器(8)通过波导(9)与CVD反应室(1)连接。2.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员:皮超杰,徐国龙,夏震,
申请(专利权)人:郑州嘉晨化工科技有限公司,
类型:新型
国别省市:河南,41
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