一种掩膜台光栅尺测量系统和测量方法技术方案

本发明专利技术提供一种掩膜台光栅尺测量系统和测量方法，这种结构包括一掩膜台的承版台、一固定于承版台侧面的光栅尺、光栅尺的刻线面垂直于承版台上固定光栅尺的侧面、承版台固定光栅尺的侧面上还固定有一反射面。本发明专利技术在入射光束入射光栅尺刻线面后发生衍射后，在被衍射光束发射到的掩膜台的侧面上设置反射面，使得原本被掩膜台遮挡的衍射光束被反射面反射出，这样所有的衍射光束皆可被机器接收，避免了掩膜台对光栅尺测量的影响，同时也不必增加光栅尺的质量和尺寸，节省了测量系统的空间，提高测量系统机械模态稳定性能。

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜台光栅尺测量系统和测量方法
本专利技术涉及半导体光刻领域，特别涉及一种掩膜台光栅尺测量系统及测量方法。
技术介绍
纳米测量技术是纳米加工、纳米操控、纳米材料等领域的基础。IC产业、精密机械、微机电系统等都需要高分辨率、高精度的位移传感器，以达到纳米精度定位。随着集成电路朝大规模、高集成度的方向飞跃发展，光刻机的套刻精度要求也越来越高，与之相应地，获取工件台、掩膜台的六自由度位置信息的精度也随之提高。干涉仪有较高的测量精度，可达纳米量级，在光刻系统中，被运用于测量工件台、掩膜台的位置。然而，目前干涉仪的测量精度已达到极限，同时干涉仪测量精度受周围环境影响较大，测量重复精度不高，即便不受测量环境的影响，每两次测量之间的误差也会超过1nm，因此传统干涉仪测量系统很难满足进一步提高套刻精度的要求。此时具有高精度、高稳定性的皮米测量方案被迫切需要。在皮米测量方案中，使用光栅测量系统的测量方法在工作中受环境影响较小，且有较好的重复精度，在新一代光刻系统中已开始逐渐取代干涉仪，承担高精度、高稳定性皮米精度测量任务。在为掩膜台配备光栅尺测量系统时，通常将光栅安装在掩膜台两侧作为测量基准。为了避免产生阿贝误差，光栅衍射面应与掩膜台的硅片面处于同一高度，也就是说光栅衍射面高于掩膜台的下底面(即面对工件台的一面)。而用于光栅尺测量的+/-1级衍射光会以一定角度衍射，当光栅衍射面高于掩膜台下底面时，部分朝向掩膜台方向的衍射光会被掩膜台遮挡而不能返回光栅读头，导致信号丢失。现有技术中公布了一种光栅读头结构，如图1所示，激光器9提供入射光，入射光采用垂直入射的方式，即入射光垂直于光栅尺3，随即产生了衍射，衍射光分别被第一回射器41和第二回射器42反射，反射的光回到光栅尺3，并互相干涉，干涉后产生的光信号依次通过分光系统6、成像系统2最后达到控制系统1，由控制系统1显示出数据。该专利方案用于掩膜台测量时，朝向掩膜台的衍射光束会被遮挡，如图2所示，以水平向右为X正向，以垂直向上为Z正向，图中光栅尺110被粘接于掩膜台的承版台100一侧，一般地，承版台100是高于用于放置掩膜的掩膜面101的，光栅尺110的刻线面111与掩膜面101齐平，因此刻线面111朝下，从下往上发射入射光束140至刻线面111上并产生衍射，衍射光束分别为被遮挡光束141和未被遮挡光束142，其中被遮挡光束141由于光路方向上遇到掩膜台，从而被掩膜台遮挡，从而无法被第一回射器121接收，未被遮挡光束142的光路上没有掩膜台的遮挡，可以被第二回射器122接收，这样导致其中一个回射器即第一回射器121无法接收光信号。为了解决该专利中衍射光束被掩膜台遮挡的问题，可以采用增大光栅尺的光栅面尺寸，将光栅面上工作光斑外移的方法，如图3所示，图中光栅尺210被粘接于掩膜台的承版台200一侧，承版台200是高于用于放置掩膜的掩膜面201的，光栅尺210的刻线面211与掩膜面201齐平，因此刻线面211朝下，从下往上发射入射光束240至刻线面211上并产生衍射光束241，衍射光束241被回射器220反射至刻线面211，图中同样以水平向右方向为X正向，垂直向上的方向为Z正向，建立坐标轴，由于Y方向为垂直于纸面，因此并未标出，一般地，X方向即为光刻时的扫描方向，也是带动掩膜移动的掩膜台的移动方向。假定入射光波长为622.8mm，光栅尺210中光栅的栅距为2μm，使用光栅公式d×sinθ＝mλ进行计算，其中d为光栅尺210中光栅的栅距，θ为衍射角，λ为入射光的波长，m为衍射光的级数，如+1或者-1，假定衍射角θ＝18.45°，假设光栅尺210距离掩膜台的下底面高度H＝18mm，经过计算，光栅尺210的光栅增加量ΔW＝H×tanθ＝6mm，即光栅尺增加部分212在X向上的长度为6mm，也就是说需要在光栅尺210原长度的基础上，还要再增加6mm的长度，一般地光栅尺210的在X向上的原长度为14mm，因此需使用长度为20mm的光栅尺210，这样导致光栅尺210面积增大，必然带来光栅尺210体积和质量的增加。由于光栅尺210是粘接在掩膜台的承版台200的侧面，光栅尺210体积和质量的增加会降低掩膜台的机械稳定性能。因此有必要专利技术一种掩膜台光栅尺测量系统及测量方法，既能避免衍射光束被掩膜台遮挡，也不必增加光栅尺的体积和质量。
技术实现思路
为解决上述问题，本专利技术提出了一种掩膜台光栅尺测量系统，其在将遮挡衍射光束的掩膜台侧面上固定一反射面，将原来被掩膜台遮挡的衍射光束使用反射面反射出掩膜台，因此避免了掩膜台对光栅尺测量的影响，还提出了一种使用该光栅尺测量系统的测量方法，在衍射光束的光路上设置第一反射元件和第二反射元件并由两者将光束再次反射回光栅尺，使光束重合并发生二次衍射从而可以测量掩膜台在扫描方向的位移。为达到上述目的，本专利技术提供一种掩膜台光栅尺测量系统，包括激光器，提供光束；光栅尺，固定于所述掩膜台的承版台侧面，垂直于所述承版台；反射面，固定在所述承版台固定所述光栅尺的侧面上，反射所述光栅尺衍射光束中的第一光束；第一反射元件，将所述第一光束回射至所述反射面；第二反射元件，将所述光栅尺衍射光束中的第二光束回射至所述光栅尺；探测器，探测从所述反射面再回射至所述光栅后衍射的第一测量光束和所述第二光束回射至所述光栅后衍射的第二测量光束之间的干涉信号。作为优选，所述反射面的宽度大于或者等于所述承版台侧面的宽度。作为优选，所述反射面为镀于所述承版台侧面上的反射膜或粘接于所述承版台侧面上的反射镜。作为优选，所述光栅尺的刻线面与所述承版台与掩膜的接触面位于同一平面。作为优选，所述光栅尺中的光栅为一维光栅或者二维光栅。作为优选，所述第一反射元件和第二反射元件均为回射器。作为优选，所述回射器为角锥棱镜或者平面反射镜。作为优选，所述第一测量光束和第二测量光束分别为+1级衍射光和-1级衍射光束，或所述第一测量光束和第二测量光束分别为-1级衍射光和+1级衍射光束。本专利技术还提供一种使用如上所述的掩膜台光栅尺测量系统的光栅尺测量方法，包括以下步骤：步骤一，激光器提供光束入射至光栅的同时将入射光束的发射至控制系统形成参考信号；步骤二，光束经所述光栅尺的刻线面衍射后形成第一光束和第二光束；步骤三，掩膜台相对于激光器发出的光束沿着扫描方向移动；步骤四，所述第一光束被所述反射面反射至第一反射元件，经第一反射元件回射至所述反射面，再经反射面回射至光栅尺，再由光栅尺的刻线面衍射后形成第一测量光束，由探测器接收，同时第二光束经第二反射元件回射至光栅尺，再由光栅尺的刻线面衍射后形成第二测量光束，由探测器接收；步骤五，探测器探测第一测量光束和第二测量光束的干涉信号形成测量信号；步骤六，根据测量信号和参考信号计算得到掩膜台在扫描方向的位移。作为优选，所述步骤五中的所述第一测量光束和第二测量光束分别为+1级衍射光和-1级衍射光束，或所述第一测量光束和第二测量光束分别为-1级衍射光和+1级衍射光束。作为优选，所述步骤一中的激光器为双频激光器，所述激光器提供的光束中的一束光束的频率f1异于另一束光束的频率f2。作为优选，所述步骤一中的参考信号的莫尔条纹数N2＝f2T-f1T＝(f2-f1)T；所述步骤五中的测量干本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜台光栅尺测量系统，其特征在于，包括激光器，提供光束；光栅尺，固定于所述掩膜台的承版台侧面，垂直于所述承版台；反射面，固定在所述承版台固定所述光栅尺的侧面上，反射所述光栅尺衍射光束中的第一光束；第一反射元件，将所述第一光束回射至所述反射面；第二反射元件，将所述光栅尺衍射光束中的第二光束回射至所述光栅尺；探测器，探测从所述反射面再回射至所述光栅后衍射的第一测量光束和所述第二光束回射至所述光栅后衍射的第二测量光束之间的干涉信号。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜台光栅尺测量系统，其特征在于，包括激光器，提供光束；光栅尺，固定于所述掩膜台的承版台侧面，垂直于所述承版台；反射面，固定在所述承版台固定所述光栅尺的侧面上，反射所述光栅尺衍射光束中的第一光束；第一反射元件，将所述第一光束回射至所述反射面；第二反射元件，将所述光栅尺衍射光束中的第二光束回射至所述光栅尺；探测器，探测从所述反射面再回射至所述光栅后衍射的第一测量光束和所述第二光束回射至所述光栅后衍射的第二测量光束之间的干涉信号。2.如权利要求1所述的掩膜台光栅尺测量系统，其特征在于，所述反射面的宽度大于或者等于所述承版台侧面的宽度。3.如权利要求1所述的掩膜台光栅尺测量系统，其特征在于，所述反射面为镀于所述承版台侧面上的反射膜或粘接于所述承版台侧面上的反射镜。4.如权利要求1所述的掩膜台光栅尺测量系统，其特征在于，所述光栅尺的刻线面与所述承版台与掩膜的接触面位于同一平面。5.如权利要求1所述的掩膜台光栅尺测量系统，其特征在于，所述光栅尺中的光栅为一维光栅或者二维光栅。6.如权利要求1所述的掩膜台光栅尺测量系统，其特征在于，所述第一反射元件和第二反射元件均为回射器。7.如权利要求6所述的掩膜台光栅尺测量系统，其特征在于，所述回射器为角锥棱镜或者平面反射镜。8.如权利要求1所述的掩膜台光栅尺测量系统，其特征在于，所述第一测量光束和第二测量光束分别为+1级衍射光和-1级衍射光束，或所述第一测量光束和第二测量光束分别为-1级衍射光和+1级衍射光束。9.一种使用如权利要求1所述的掩膜台光栅尺测量系统的光栅尺测量方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴萍，张志平，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31