The present invention provides a magnetic junction having an elongated free layer, a method of providing the same, and a magnetic memory including the same. A magnetic junction that can be used in magnetic devices is described. The magnetic junction has a free layer, a reference layer, and a nonmagnetic spacer layer between the reference layer and the free layer. When the write current passes through the magnetic junction, the free layer is switchable between the stable magnetic states. The free layer has a length in the first direction, a width in the second direction perpendicular to the first direction, an exchange stiffness, and a aspect ratio equal to the length divided by the width. Aspect ratio is greater than 1. The exchange stiffness shall be no less than 2 * 10
【技术实现步骤摘要】
具有细长自由层的磁结及其提供方法和包括其的磁存储器本申请要求于2015年11月16日提交的第62/255,994号临时专利申请和于2016年2月12日提交的第15/043,349号非临时专利申请的权益,通过引用将所述申请包含于此。
本专利技术涉及一种磁结及其提供方法和一种包括其的磁存储器,更具体地讲,涉及一种具有细长自由层的磁结及其提供方法和一种包括其的磁存储器。
技术介绍
磁存储器,特别是磁随机存取存储器(MRAM)因其在操作期间读/写速度高、耐力优秀、非易失性和低功耗的潜能而受到越来越多的关注。MRAM可以利用磁性材料作为信息记录介质来存储信息。MRAM的一种类型是自旋转移力矩随机存储存储器(STT-MRAM)。STT-MRAM利用由被驱动经过磁结的电流来至少部分地对其进行写入的磁结。被驱动经过磁结的自旋极化电流在磁结中对磁矩施加自旋力矩。结果,具有响应于自旋力矩的磁矩的层可被切换到期望的状态。例如,传统磁隧道结(MTJ)可以用于传统STT-MRAM中。传统MTJ包括传统被钉扎层(或传统参考层)、传统自由层以及在传统参考层与传统自由层之间的传统隧道势垒层。传统MTJ可以包括传统反铁磁(AFM)层。传统参考层和传统自由层是磁性的。传统参考层的磁化在特定的方向上被固定或被钉扎。传统自由层具有可变的磁化。传统自由层可以是单层或可以包括多层。参考层和自由层可以具有垂直于层的平面(垂直于平面)或在层的平面内(平面内)来取向的它们的磁化。为了切换传统自由层的磁矩,在电流垂直于平面(CPP)方向上驱动电流经过传统MTJ。此电流被参考层所自旋极化。当在CPP构造中驱动 ...
【技术保护点】
一种磁结,所述磁结位于基底上并可用于磁性装置中,所述磁结包括:参考层;非磁性间隔层;以及自由层,所述非磁性间隔层位于参考层和自由层之间,自由层具有在第一方向上的长度、在第二方向上的宽度、长宽比和交换刚度,所述长宽比为长度除以宽度且大于1,所述交换刚度不小于2×10
【技术特征摘要】
2015.11.16 US 62/255,994;2016.02.12 US 15/043,3491.一种磁结,所述磁结位于基底上并可用于磁性装置中,所述磁结包括:参考层;非磁性间隔层;以及自由层,所述非磁性间隔层位于参考层和自由层之间,自由层具有在第一方向上的长度、在第二方向上的宽度、长宽比和交换刚度,所述长宽比为长度除以宽度且大于1,所述交换刚度不小于2×10-6erg/cm;其中,磁结被构造成使得当写入电流经过磁结时,自由层在多个稳定磁状态之间是可切换的。2.如权利要求1所述的磁结,其中,所述交换刚度至少为3×10-6erg/cm。3.如权利要求1所述的磁结,其中,自由层具有基本上与长度和宽度垂直的厚度,所述厚度至少为1.5纳米且不超过2纳米。4.如权利要求1所述的磁结,其中,自由层基本上无玻璃促进成分。5.如权利要求1所述的磁结,其中,所述宽度不超过20纳米。6.如权利要求5所述的磁结,其中,所述宽度不超过16纳米。7.如权利要求1所述的磁结,其中,自由层包括Fe、Co、SmCo5、MnGe、Co2FeSi、Co2MnSi、FexCo1-x中的至少一种,其中x至少为0.5且小于0.65。8.如权利要求1所述的磁结,其中,所述长宽比至少为2。9.如权利要求1所述的磁结,其中,自由层具有椭圆形的占用区域。10.如权利要求1所述的磁结,其中,参考层和非磁性间隔层具有所述长宽比。11.如权利要求1所述的磁结,其中,自由层具有至少100的热稳定常数。1...
【专利技术属性】
技术研发人员:德米特罗·埃帕尔科夫,王淑霞,李将银,
申请(专利权)人:三星电子株式会社,
类型:发明
国别省市:韩国,KR
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