一种类金属片状粉末制造技术

技术编号:15587973 阅读:183 留言:0更新日期:2017-06-13 20:23
本发明专利技术涉及一种类金属片状粉末,该类金属片状粉末通过磁控溅射技术在片状粉体表面镀膜制备得到。该类金属片状粉末膜层平整,金属含量少,密度小,漂浮性佳,可导电,能在塑料、油漆、涂料、颜料等领域代替片状金属粉末,有效解决片状金属粉末因为密度较大导致漂浮性不足、遮盖效果一般、添加量多等缺点,并且具有遮盖性好、成本低、环境友好等诸多优点。

【技术实现步骤摘要】
一种类金属片状粉末
:本专利技术涉及一种类金属片状粉末,该类金属片状粉末与片状金属粉末外观类似,在保证效果的前提下,有效降低成本。
技术介绍
:片状金属粉末,如片状铝粉、铜粉、纯银粉等,往往具有独特的外观效果,这些效果决定了片状金属粉末在对外观装饰有需求的领域具有广泛的应用,如塑料、油漆、涂料、颜料等领域。但片状金属粉末因为密度较大导致漂浮性不足,遮盖效果一般,这意味着更多的添加量以及较高的成本;片状金属粉末的制备过程存在着较严重的环境污染,甚至可能引发事故(譬如铝粉制备)。故寻求一种能够在外观上代替片状金属粉末且成本较低、环境友好的材料是一项必要且有发展前景的工作。磁控溅射是物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多种材料,且具有易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,而上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤的效果。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束提高等离子体密度以增加溅射率。由于磁控溅射中轰击基材的电子能量较低,故往往可以得到表面平整度更佳的镀膜。本专利技术中即通过磁控溅射技术在片状粉体表面镀膜制备替代片状粉末尤其是片状金属粉末的粉体。
技术实现思路
:本专利技术涉及一种基于磁控溅射技术制备的类金属片状粉末。该类金属片状粉末可以有效代替片状金属粉末,并且具有遮盖性好、成本低、环境友好等诸多优点。该专利技术的类金属片状粉末膜层平整,具有良好的色泽及镜面效果,能够在塑料、油漆、涂料、颜料等领域代替片状金属粉末;另外镀膜片状粉体金属含量少,密度较小,漂浮性佳,故相对片状金属粉末具有较小的用量及较低的成本;相对于传统片状金属粉末的制备方法(如干式球磨、湿式球磨、振动球磨等),通过磁控溅射技术制备的镀膜片状镀膜粉末明显更加环保,并且降低了发生生产事故的几率;由于制备的片状粉末材料表面具有可导电的膜层,故其亦具有一定的导电性,可以作为导电填料使用。具体制备流程为:(1)选用15%-30%的乙醇溶液浸泡片状粉末,待片状粉体出现沉底现象后通超声波10-30分钟,之后抽滤除去乙醇溶液,用蒸馏水清洗三次;(2)将经过步骤(1)清洗的片状粉末在120℃的条件下烘干3小时;(3)将经过步骤(2)烘干的片状粉体投入磁控溅射设备,得到镀有膜层的片状粉体。其中,步骤(1)所述的片状粉末包括片状云母粉、片状氧化铝粉、片状珠光粉等。所述片状粉体粒径范围为50目-600目。步骤(3)所述的膜层种类包括单层膜,如Al、Cu、Ag、Cr、Ti、Zn、In、Sn、TiN、TiO2、Al2O3、AlN等,也可以是复合镀层膜,譬如Ti-TiO2、Ti-TiN、Al-Al2O3、Al-Cu、Cr-Al、Cr-Cu、Cr-Ag等。所述膜层厚度为20nm~80mm。具体实施方式:实施例1选取60目的片状云母粉,首先用20%乙醇溶液浸泡片状云母粉,待片状云母粉出现沉底现象后通超声波10分钟,之后抽滤去除乙醇溶液并用蒸馏水清洗三次,120℃下烘干3小时,然后将云母粉加入磁控溅射设备进行镀膜,靶材选用铝靶,溅射气体选用99.999%的高纯氩气,镀膜完成后可得镀铝片状云母粉,膜层厚度为1mm。实施例2选取550目的片状云母粉,首先用15%乙醇溶液浸泡片状云母粉,待片状云母粉出现沉底现象后通超声波25分钟,之后抽滤去除乙醇溶液并用蒸馏水清洗三次,120℃下烘干3小时,然后将云母粉加入磁控溅射设备进行镀膜,靶材选用银靶,溅射气体选用99.999%的高纯氩气,镀膜完成后可得镀银片状云母粉,膜层厚度为50nm。实施例3选取350目的片状氧化铝粉,首先用25%乙醇溶液浸泡片状氧化铝粉,待片状氧化铝粉出现沉底现象后通超声波15分钟,之后抽滤去除乙醇溶液并用蒸馏水清洗三次,120℃下烘干3小时,然后将片状氧化铝粉加入磁控溅射设备进行镀膜,靶材选用钛靶,溅射气体选用99.999%的高纯氩气,反应气体选用99.999%高纯氧气,镀膜完成后可得镀有二氧化钛的片状氧化铝粉,膜层厚度为500nm。实施例4选取260目的珠光粉,首先用18%乙醇溶液浸泡珠光粉,待珠光粉出现沉底现象后通超声波20分钟,之后抽滤去除乙醇溶液并用蒸馏水清洗三次,120℃下烘干3小时,然后将珠光粉加入磁控溅射设备进行镀膜,靶材选用钛靶,第一步溅射复合镀层的内层(结合层),溅射气体选用99.999%的高纯氩气,第二步溅射复合镀层的外层(功能层),溅射气体为99.999%高纯氩气,反应气体为99.999%高纯氮气,镀膜完成后可得复合镀Ti(内)-TiN(外)珠光粉,膜层厚度为5mm。实施例5选取400目的片状云母粉,首先用15%乙醇溶液浸泡片状云母粉,待片状云母粉出现沉底现象后通超声波20分钟,之后抽滤去除乙醇溶液并用蒸馏水清洗三次,120℃下烘干3小时,然后将云母粉加入磁控溅射设备进行镀膜,复合镀层内层(结合层)镀膜选用铬靶,溅射气体为99.999%高纯氩气,复合镀层外层(功能层)选用铜靶,溅射气体为99.999%高纯氩气,镀膜完成后可得复合镀Cr(内)-Cu(外)片状云母粉,膜层厚度为20mm。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种类金属片状粉末,其特征在于:包括片状粉体和膜层,所述膜层包覆于片状粉体表面。

【技术特征摘要】
1.一种类金属片状粉末,其特征在于:包括片状粉体和膜层,所述膜层包覆于片状粉体表面。2.根据权利要求1所述的一种类金属片状粉末,其特征在于:所述片状粉体为片状云母粉、片状氧化铝粉、片状珠光粉。3.根据权利要求1所述的一种类金属片状粉末,其特征在于:所述片状粉体粒径范围为50目~600目。4.根据权利要求1所述的一种类金属片状...

【专利技术属性】
技术研发人员:唐晓峰李大铭董建廷逯琪
申请(专利权)人:上海朗亿功能材料有限公司
类型:发明
国别省市:上海,31

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