一种用于晶体平面抛光机的气缸机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于晶体平面抛光机的气缸机构，主要用于大四轴晶体平面抛光机。主要技术方案：在主轴套筒上安装活塞，与活塞配合再安装气缸筒，气缸筒两端装有上下盖，用一根止转杆通过穿过活塞，与上盖下盖连接，用四根螺杆将上盖和下盖拉紧固定，就形成一个完整的气缸，在气缸上盖下盖的左右两面和后面，分别固定一根支撑条。本实用新型专利技术试用证明：从根本上克服了原抛光机整机体积较大，结构复杂的现象，达到有效的提高了生产效率，降低制造成本，适应现代化生产的需要。

Cylinder mechanism for crystal plane polishing machine

The utility model discloses a cylinder mechanism used for a crystal plane polishing machine, which is mainly used for a large four axis crystal plane polishing machine. The main technical proposal: install the piston in the main shaft sleeve, and piston to install cylinder, cylinder are arranged on both ends of the upper and lower cover, a locking rod passes through the piston is connected with the upper cover, lower cover, with four screws on the cover and the lower cover is fixed tightly, forming a complete cylinder on the cylinder cover, cover the right and left sides and back are respectively fixed supporting bar. The utility model has proved: fundamentally overcome the original polishing machine large volume, complex structure of the phenomenon, to effectively improve the production efficiency, reduce manufacturing cost, to meet the needs of modern production.

【技术实现步骤摘要】
一种用于晶体平面抛光机的气缸机构
本技术属于一种光学制造设备的部件，主要用于大四轴晶体平面抛光机的气缸机构，也可用于其它类似晶体平面抛光机。
技术介绍
在光电行业中，加工晶体基片和光学面板平面的平面抛光机，在上下盘对工件抛光时需要对上盘施加一定的压力和速度，才能完成抛光任务。因此抛光机工作时，除了旋转动力外，在机床的上方还有一套专门的气缸系统，来对活塞杆进行推动，施以一定的压力给上盘，以保证抛光机的正常工作。这样气缸系统和一些连接零部件全部装入抛光机，就带来整机体积较大，结构复杂，相关的零件加工困难，导致制造成本居高不下，不适应现代化生产的需要。
技术实现思路
本技术的主要任务和目的是，根据现有的晶体平面抛光机存在的不足，在此基础上进行改进，设计一套新的气缸机构，用于晶体平面抛光机，去掉原来的专门的气缸系统。从根本上克服抛光机整机体积较大，结构复杂的现象，达到有效的提高生产效率，降低制造成本，适应现代化生产的需要。本技术的主要技术方案：本技术包含主轴套筒、轴套、下盖、气缸筒、止转杆、挡圈、活塞、进气口、上盖、螺杆、支撑条、螺钉、小密封圈、密封圈，具体结构：在主轴套筒上，通过小密封圈、挡圈安装活塞，与活塞配合再安装气缸筒，气缸筒上端通过密封圈装有上盖，气缸筒下端通过密封圈装有下盖，一根止转杆通过小密封圈穿过活塞，与上盖下盖连接，以防止上盖下盖错位转动，用四根螺杆将上盖和下盖拉紧固定，这样就形成一个完整的气缸，在气缸上盖下盖的左右两面和后面，分别用螺钉固定连接一根支撑条。本技术通过实际应用证明：完全达到设计目的，使用时直接与抛光机的转动轴配合连接，由进气口气体推动活塞主轴套筒施压于上工件盘，使工件正常进行抛光，工件的加工效率和质量与原机床相同。机床整机体积和重量明显减小，主轴传动部分结构紧凑，零件工艺性好，生产效率得到提高，制造成本明显降低，完全适应现代化生产的需要。附图说明下面结合附图，对本技术作进一步详细地描述。图1，是本技术的结构示意图。图2，是图1的右视图。图3，是图1A—A向剖视图。图4，是本技术应用于大四轴晶体平面抛光机的示意图，这里仅绘出一个轴的使用情况，因相同其它三轴省略。图5，是图4标记Ⅰ的放大图。图6，是图4标记Ⅱ的放大图。具体实施方式参照图1、2、3，对本技术的主要技术方案进行说明：本技术包含主轴套筒1、轴套2、下盖3、气缸筒4、止转杆5、挡圈6、活塞7、进气口8、上盖9、螺杆10、支撑条11、螺钉12、小密封圈13、密封圈14，具体结构：在主轴套筒1上，通过小密封圈13、挡圈6安装活塞7，与活塞配合再安装气缸筒4，气缸筒上端通过密封圈14装有上盖9，气缸筒下端通过密封圈14装有下盖3，一根止转杆5通过小密封圈13穿过活塞7，与上盖9下盖3连接，以防止上盖下盖错位转动，用四根螺杆10将上盖9和下盖3拉紧固定，这就形成一个完整的气缸，在气缸的上盖9下盖3左右两面和后面分别用螺钉12固定连接一根支撑条11。参照图1、4，本技术的工作过程：首先将本技术通过三根支撑条11与抛光机架固定，把主轴套筒1与机床的带花键主轴16通过轴承18配合，并与上工件盘组件连接（见图5、6），气缸的上下进气口8和压缩气体管道联通；工作时，电机15带动带花键主轴16转动，带花键主轴带动拨盘和上工件盘17旋转，此时由气缸上面的进气口8输入的压缩气体推动活塞7向下，活塞再推动主轴套筒1向下所产生的力（见图1），施加在上工件盘17上，开始对工件进行抛光；抛光结束，由气缸下面的进气口8输入的压缩气体推动活塞7向上，此时上工件盘17松开并向上提起，取下工件。本技术已用于大四轴晶体平面抛光机和普通数控单轴晶体抛光机设备，效果较好。由于机构简单而且有它的独立性，所以用于的抛光机种类这里不再一一列举。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于晶体平面抛光机的气缸机构，其特征在于：包含主轴套筒（1）、轴套（2）、下盖（3）、气缸筒（4）、止转杆（5）、挡圈（6）、活塞（7）、进气口（8）、上盖（9）、螺杆（10）、支撑条（11）、螺钉（12）、小密封圈（13）、密封圈（14），具体结构：在主轴套筒（1）上，通过小密封圈（13）、挡圈（6）安装活塞（7），与活塞配合再安装气缸筒（4），气缸筒上端通过密封圈（14）装有上盖（9），气缸筒下端通过密封圈（14）装有下盖（3），一根止转杆（5）通过小密封圈（13）穿过活塞（7），与上盖（9）下盖（3）连接，以防止上盖下盖错位转动，用四根螺杆（10）将上盖（9）和下盖（3）拉紧固定，这样就形成一个完整的气缸，在气缸上盖（9）下盖（3）的左右两面和后面，分别用螺钉（12）固定连接一根支撑条（11）。

【技术特征摘要】
1.一种用于晶体平面抛光机的气缸机构，其特征在于：包含主轴套筒（1）、轴套（2）、下盖（3）、气缸筒（4）、止转杆（5）、挡圈（6）、活塞（7）、进气口（8）、上盖（9）、螺杆（10）、支撑条（11）、螺钉（12）、小密封圈（13）、密封圈（14），具体结构：在主轴套筒（1）上，通过小密封圈（13）、挡圈（6）安装活塞（7），与活塞配合再安装气缸筒（4），...

【专利技术属性】
技术研发人员：王安全，曾旭东，余永泰，黄长娅，
申请(专利权)人：云南飞隆劳尔设备有限公司，
类型：新型
国别省市：云南,53