【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】除草化合物本专利技术涉及某些经取代的二氢-乙内酰脲衍生物,涉及用于制备它们的方法,包含它们的除草组合物以及它们在控制植物或抑制植物生长中的用途。具有以下化学式的除草二氢-乙内酰脲(其中A是异噁唑环)传授于例如美国专利号4,302,239和加拿大专利号1205077中。专利技术概述令人惊讶地,现在已经发现,针对用异噁唑环取代的二氢-乙内酰脲化合物的某些基团,除草活性几乎完全存在于在含有R2取代基的碳处具有R立体化学的化合物中(如化学式(I)中所示)。因此,在第一方面中,本专利技术提供了具有化学式(I)的化合物其中X选自S和O;Rb选自C1-C6烷基、C1-C6氰基烷基、C3-C6环烷基、C3-C6氰基环烷基、C1-C6卤代烷基和C1-C6烷硫基;Rc选自氢、卤素、氰基、C1-C6烷基以及C1-C6卤代烷基;或Rb和Rc连同它们附接的碳原子一起形成3-7元饱和或部分不饱和环,该环任选地包含从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素、C1-C6烷基和C1-C6卤代烷基的基团取代;R2选自C1-C4烷氧基和C1-C4烷氧基-C1-C4烷基;R3选自卤素、羟基、-NR5R6以及以下基团中的任一个R5和R6独立地选自氢、C1-C20烷基、C1-C20卤代烷基、C2-C20烯基、C2-C20炔基,或R5和R6连同它们附接的碳原子一起形成3-6元饱和或部分不饱和环,该环任选地包含从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素和C1-C6烷基的基团取代;R7和R8独立地选自氢,C1-C6烷基,C1-C6卤代烷基,C2 ...
【技术保护点】
一种具有化学式(I)的化合物
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.06.16 IN 1622/DEL/20141.一种具有化学式(I)的化合物其中X选自S和O;Rb选自C1-C6烷基、C1-C6氰基烷基、C3-C6环烷基、C3-C6氰基环烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷硫基,Rc是选自氢、卤素、氰基、C1-C6烷基或C1-C6卤代烷基;或Rb和Rc连同它们附接的碳原子一起形成3-7元饱和或部分不饱和环,该环任选地包含从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素、C1-C6烷基和C1-C6卤代烷基的基团取代;R2选自C1-C4烷氧基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基;R3选自卤素、羟基、-NR5R6或以下基团中的任一个R5和R6独立地选自氢、C1-C20烷基、C1-C20卤代烷基、C2-C20烯基、C2-C20炔基,或R5和R6连同它们附接的碳原子一起形成3-6元饱和或部分不饱和环,该环任选地包含从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素和C1-C6烷基的基团取代;R7和R8独立地选自氢,C1-C6烷基,C1-C6卤代烷基,C2-C6烯基,C2-C6炔基,可以是单环或双环的包含从1至4个独立地选自N、O和S的杂原子并且任选地被1至3个独立地选自卤素、C1-C3烷基、C1-C3卤代烷基和C1-C3烷氧基的基团取代的C5-C10杂芳基基团,任选地被1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基和C1-C3卤代烷氧基的基团取代的C6-C10芳基基团,或R7和R8连同它们附接的原子一起形成3-6元饱和或部分不饱和环,该环任选地包含从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素或C1-C6烷基的基团取代;R9选自C1-C6烷基或任选地被1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基和C1-C3卤代烷氧基的基团取代的苄基;或其N-氧化物或盐形式并且其中R2附接的二氢-乙内酰脲环碳具有如所描述的R-立体化学。2.如权利要求1所述的化合物,其中X是O。3.如权利要求1或权利要求2所述的化合物,其中Rb选自C1-C6烷基、C1-C6氰基烷基、C3-C6环烷基、C3-C6氰基环烷基、C1-C6卤代烷基和C1-C6烷硫基。4.如权利要求3所述的化合物,其中Rb选自C1-C4烷基、C1-C4氰基烷基、C3-C6环烷基、C3-C6氰基环烷基、C1-C4卤...
【专利技术属性】
技术研发人员:A·J·亨尼西,J·A·莫里斯,M·费德特,T·R·戴森,J·古德温廷达尔,S·E·拉塞尔,J·E·波赫米尔,D·W·莫塞利,
申请(专利权)人:先正达参股股份有限公司,
类型:发明
国别省市:瑞士,CH
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