The invention provides a substrate cleaning device, which comprises a frame, is located in the shield rack, transmission mechanism, and the spraying mechanism, wherein the conveying mechanism comprises a plurality of guide rollers arranged in parallel, wherein a plurality of guide roll in at least one sponge brush roller, and above every sponge brush the guide roller is provided with a relative first pressing roller, compared to the existing technology, the sponge brush roller is arranged in the transport mechanism, can effectively improve the cleaning effect, and when the substrate cleaning equipment for the ultimate substrate after developing a cleaning process, can effectively prevent the formation of free residual photoresist and roll marks, improve cleaning product yield.
【技术实现步骤摘要】
基板清洗设备
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种基板清洗设备。
技术介绍
在显示
,液晶显示器(LiquidCrystalDisplay,LCD)与有机发光二极管显示器(OrganicLightEmittingDiode,OLED)等平板显示器已经逐步取代阴极射线管(CathodeRayTube,CRT)显示器,广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。显示面板是LCD、OLED的重要组成部分。不论是LCD的显示面板,还是OLED的显示面板,通常都具有一薄膜晶体管(ThinFilmTransistor,TFT)阵列基板。以LCD的显示面板为例,其主要是由一TFT阵列基板、一彩色滤光片(ColorFilter,CF)基板、以及配置于两基板间的液晶层(LiquidCrystalLayer)所构成,其工作原理是通过在TFT阵列基板与CF基板上施加驱动电压来控制液晶层中液晶分子的旋转,将背光模组的光线折射出来产生画面。在TFT阵列基板的制作过程中,基板都需要经过涂布光刻胶、曝光、显影这样一个光刻工序。显影的目的是去除在曝光过程中发生了光学反应的光刻胶,从而在基板上形成与曝光掩模板对应的光刻胶图形,显影后基板上覆盖有光刻胶的位置,在下一个工序刻蚀的过程中由于光刻胶的保护,相应位置的金属或非金属膜不会受到损害,从而最后达到在基板上形成TFT电路的目的。显影后还需要对玻璃基板上被显影的光刻胶和残留的显影液进行清洗,如果清洗不彻底,基板上会残留药液以及光刻胶颗粒,最终会引起基板不良。目前的基板显影后的清洗过程参照图1所示 ...
【技术保护点】
一种基板清洗设备,其特征在于,包括机架(30)、位于所述机架(30)上方的护罩(40)、传送机构(10)、及喷淋机构(20);所述护罩(40)用于提供基板清洗空间,所述传送机构(10)用于承载并运送基板(50),所述喷淋机构(20)用于向基板(50)喷淋清洗液;所述传送机构(10)包括并列设置的数个导辊(105),且所述数个导辊(105)中至少有一个为海绵刷导辊(101),其他的为传送导辊(102);每一海绵刷导辊(101)的上方相对设有一个第一压制辊(103)。
【技术特征摘要】
1.一种基板清洗设备,其特征在于,包括机架(30)、位于所述机架(30)上方的护罩(40)、传送机构(10)、及喷淋机构(20);所述护罩(40)用于提供基板清洗空间,所述传送机构(10)用于承载并运送基板(50),所述喷淋机构(20)用于向基板(50)喷淋清洗液;所述传送机构(10)包括并列设置的数个导辊(105),且所述数个导辊(105)中至少有一个为海绵刷导辊(101),其他的为传送导辊(102);每一海绵刷导辊(101)的上方相对设有一个第一压制辊(103)。2.如权利要求1所述的基板清洗设备,其特征在于,所述数个导辊(105)中,所有海绵刷导辊(101)之间的传送导辊(102)、及两侧的部分传送导辊(102)构成一海绵刷传送区,所述海绵刷传送区内每一传送导辊(102)的上方相对设有一个第二压制辊(104)。3.如权利要求1所述的基板清洗设备,其特征在于,每一海绵刷导辊(101)的两端分别设有操作模块(111)、及驱动模块(112);所述驱动模块(112)包括第一马达,每一海绵刷导辊(101)及每一第一压制辊(103)在相应的第一马达驱动下进行转动。4.如权利要求3所述的基板清洗设备,其特征在于,每一海绵刷导辊(101)下方对应设有两个平衡杆(113),所述平衡杆(113)的两端分别固定连接于相应的操作模块(111)、及驱动模块(112)上。5.如权利要求4所述的基板清洗设备,其特征在于,所述护罩(40)包括顶板(41)和从所述顶板向下延伸的左侧壁(42)、右侧壁(43)、前侧壁(44)、及后侧壁(45);所述护罩(40)的前侧壁(44)与后侧壁(45)上设有数个过孔(401),每一海绵刷导辊(101)的两端分别穿过所述前侧壁(44)与后侧壁上(45)的过孔(401)并通过轴承与所述操作模块(111)、及驱动模块(112)进行连接,每一第一压制辊(103)的两端分别穿过所述前侧壁(44)与后侧壁(45)上的过孔(401)并通过轴承与所述操作模块(111)、及驱动模块(112)进行连接;所述护罩(40)的左侧壁(42)、右侧壁(43)上均设有基板传送孔(402);所述机架(3...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈建锋,
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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