用于确定处理速率的设备制造技术

本发明专利技术涉及用于确定处理速率的设备，提供了一种用于处理衬底的设备。衬底支撑件位于处理室中。气体入口提供工艺气体到处理室内。排放泵从处理室排放气体。气体副产物测量系统包括红外光源和红外检测器。控制器包括至少一个处理器和计算机可读介质。该计算机可读介质包括计算机可读代码，其用于使工艺气体流入蚀刻室，用于处理来自所述红外检测器的数据，用于使用经处理的来自红外检测器的数据以确定气体副产物的浓度，以及用于使用所确定的气体副产物的浓度来调整流入处理室的工艺气体的流动。

【技术实现步骤摘要】
相关申请的交叉引用本专利技术通过引用纳入了Kabouzi等人于2015年9月23日提交的名称为“用于确定处理速率的方法和设备”的美国专利No.14/862,983，其为了所有目的通过参考并入本文。
本专利技术涉及半导体器件的制造。更具体地，本专利技术涉及用于制造半导体器件的蚀刻。
技术介绍
在处理半导体晶片的过程中，包含多个层的硅被选择性地蚀刻。
技术实现思路
为了实现上述并按照本专利技术的目的，提供了一种用于处理衬底的设备。提供了处理室。衬底支撑件位于处理室中。气体入口提供了工艺气体到处理室内，其中，当衬底在处理室被处理时，该处理提供气体副产物。气体源提供工艺气体至该气体入口。排放泵从处理室抽排气体。气体副产物测量系统包括红外光源和红外检测器。控制器可控地连接到该气体源和红外光源并接收来自红外检测器的信号。控制器包括至少一个处理器和计算机可读介质。所述计算机可读介质包括用于使该工艺气体流进该蚀刻室的计算机可读代码，用于处理来自红外检测器的数据的计算机可读代码，用于使用经处理的来自红外检测器的数据来确定气体副产物的浓度的计算机可读代码，和用于使用所确定的气体副产物的浓度来调整流入处理室的工艺气体的流动的计算机可读代码。在另一个表现方式中，提供了一种用于处理衬底的设备。提供了处理室。衬底支撑件位于该处理室内。气体入口提供工艺气体到处理室内，其中，当衬底在处理室进行处理的过程中，该处理提供气体副产物。气体源提供工艺气体至该气体入口。排放泵从处理室抽排气体。气体副产物测量系统包括红外光源；围绕在所述衬底支撑件上方的体积的约束环；至少一个镜，其用于在该约束环内反射红外光；以及红外检测器，其被放置以在来自红外光源的光在约束环内被多次反射后接收该光。在另一表现方式中，提供了一种用于处理衬底的设备。提供了处理室。衬底支撑件位于该处理室内。气体入口提供工艺气体到处理室内，其中，当衬底在处理室进行处理时，该处理提供气体副产物。气体源提供工艺气体至该气体入口。排放泵从处理室抽排气体。气体副产物测量系统包括：量子级联激光器，其用于提供红外光；气室，其从排放泵接收抽排气体；气室内的至少一个镜，其对红外光是高反射性的；以及红外检测器，其被放置以在来自量子级联激光器的光在约束环内被反射多次后接收该光。具体而言，本专利技术的一些方面可以阐述如下:1.一种用于处理衬底的设备，其包括:处理室；在该处理室内的衬底支撑件；气体入口，其用于提供工艺气体至所述处理室内，其中，当衬底在所述处理室中被处理时，所述处理提供气体副产物；气体源，其用于提供所述工艺气体至所述气体入口；排放泵，其用于从所述处理室抽排气体；气体副产物测量系统，其包括：红外光源；和红外检测器；和控制器，其可控地连接于所述气体源和所述红外光源并从所述红外检测器接收信号，其中所述控制器包括：至少一个处理器；和计算机可读介质，其包括：用于使所述工艺气体流进所述蚀刻室的计算机可读代码；用于处理来自所述红外检测器的数据的计算机可读代码；用于使用经处理的来自所述红外检测器的所述数据来确定所述气体副产物的浓度的计算机可读代码；和用于使用所确定的所述气体副产物的浓度来调整流入所述处理室的所述工艺气体的流动的计算机可读代码。2.根据条款1所述的设备，其进一步包括用于使用所确定的所述气体副产物的浓度来确定处理速率和终点的计算机可读代码。3.根据条款2所述的设备，其进一步包括存储器，该存储器存储多个与处理速率和终点相关的模型，其中，用于使用经处理的所述数据的计算机可读代码包括用于将经处理的所述数据与所述多个模型进行比较以找到最接近的匹配模型的计算机可读代码，其中，所述最接近的匹配模型表明处理速率和终点。4.根据条款3所述的设备，其进一步包括具有反射镜的气室，在来自所述红外光源的光到达所述红外检测器之前，所述反射镜使来自所述红外光源的光通过所述气室反射多次。5.根据条款4所述的设备，其中所述红外光源是量子级联激光器。6.根据条款5所述的设备，其中所述气室从所述排放泵中接收气体。7.根据条款5所述的设备，其中所述气室是围绕所述衬底支撑件上方的处理体积的约束环。8.根据条款4所述的设备，其中所述反射镜是由所述气室的侧面形成的。9.根据条款1所述的设备，其进一步包括：第二处理室；在所述第二处理室中的第二衬底支撑件；第二气体入口，其用于提供所述工艺气体到所述第二处理室内；其中所述气体副产物测量系统进一步包括：第二红外检测器，其与所述第二处理室关联，其中所述红外检测器与所述处理室相关联；和分束器，其将来自所述红外光源的部分光束引导到所述红外检测器并将来自所述红外光源的部分光束引导到所述第二红外检测器；并且其中所述控制器从所述第二红外检测器接收信号。10.根据条款1所述的设备，其进一步包括存储器，该存储器存储多个与处理速率和终点相关的模型，其中，用于使用经处理的数据的所述计算机可读代码包括用于将经处理的数据与所述多个模型进行比较以找到最接近的匹配模型的计算机可读代码，其中，所述最接近的匹配模型表明处理速率和终点。11.根据条款1所述的设备，其进一步包括具有反射镜的气室，在来自所述红外光源的光到达所述红外检测器之前，所述反射镜使来自所述红外光源的光通过所述气室反射多次。12.根据条款11所述的设备，其中所述气室从所述排放泵接收气体。13.根据条款11所述的设备，其中所述气室是围绕所述衬底支撑件上方的处理体积的约束环。14.根据条款11所述的设备，其中所述反射镜是由所述气室的侧面形成的。15.根据条款1所述的设备，其中所述红外光源是量子级联激光器。16.一种用于处理衬底的设备，其包括:处理室；该处理室中的衬底支撑件；气体入口，其用于提供工艺气体到所述处理室内，其中当衬底在所述处理室中被处理时，该处理提供气体副产物；气体源，其用于提供所述工艺气体至所述气体入口；排放泵，其用于从所述处理室抽排气体；气体副产物测量系统，其包括：红外光源；围绕所述衬底支撑件上方的处理体积的约束环；至少一个镜，其用于在所述约束环内反射红外光；和红外检测器，其被放置以在来自所述红外光源的光在所述约束环内被反射多次后接收该光。17.根据条款16所述的设备，其中所述红外光源是量子级联激光器，并且其中所述至少一个镜是所述约束环的反射表面。18.一种用于处理衬底的设备，其包括:处理室；在该处理室中的衬底支撑件；气体入口，其用于提供工艺气体到所述处理室内，其中当衬底在所述处理室中被处理时，该处理提供气体副产物；气体源，其用于提供所述工艺气体至所述气体入口；排放泵，其用于从所述处理室抽排气体；气体副产物测量系统，其包括：量子级联激光器，其用于提供红外光；气室，其从所述排放泵接收排放物；所述气室内的至少一个镜，其对于红外光是反射性的；和红外检测器，其被放置以在来自所述量子级联激光器的光在所述约束环内被反射多次后接收该光。19.根据条款18所述的设备，其中所述至少一个镜是所述气室的反射表面。本专利技术的这些和其它特征将在本专利技术的详细描述中并结合以下附图更详细地说明。附图说明所公开的专利技术在附图的图中通过举例的方式而不是通过限制的方式示出，且其中类似的附图标记指代相似的元件，并且其中：图1示意性描述了等离子体处理室的一个实施例。图2是显示适于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于处理衬底的设备，其包括：处理室；在该处理室内的衬底支撑件；气体入口，其用于提供工艺气体至所述处理室内，其中，当衬底在所述处理室中被处理时，所述处理提供气体副产物；气体源，其用于提供所述工艺气体至所述气体入口；排放泵，其用于从所述处理室抽排气体；气体副产物测量系统，其包括：红外光源；和红外检测器；和控制器，其可控地连接于所述气体源和所述红外光源并从所述红外检测器接收信号，其中所述控制器包括：至少一个处理器；和计算机可读介质，其包括：用于使所述工艺气体流进所述蚀刻室的计算机可读代码；用于处理来自所述红外检测器的数据的计算机可读代码；用于使用经处理的来自所述红外检测器的所述数据来确定所述气体副产物的浓度的计算机可读代码；和用于使用所确定的所述气体副产物的浓度来调整流入所述处理室的所述工艺气体的流动的计算机可读代码。

【技术特征摘要】
2015.09.23 US 14/863，2111.一种用于处理衬底的设备，其包括：处理室；在该处理室内的衬底支撑件；气体入口，其用于提供工艺气体至所述处理室内，其中，当衬底在所述处理室中被处理时，所述处理提供气体副产物；气体源，其用于提供所述工艺气体至所述气体入口；排放泵，其用于从所述处理室抽排气体；气体副产物测量系统，其包括：红外光源；和红外检测器；和控制器，其可控地连接于所述气体源和所述红外光源并从所述红外检测器接收信号，其中所述控制器包括：至少一个处理器；和计算机可读介质，其包括：用于使所述工艺气体流进所述蚀刻室的计算机可读代码；用于处理来自所述红外检测器的数据的计算机可读代码；用于使用经处理的来自所述红外检测器的所述数据来确定所述气体副产物的浓度的计算机可读代码；和用于使用所确定的所述气体副产物的浓度来调整流入所述处理室的所述工艺气体的流动的计算机可读代码。2.根据权利要求1所述的设备，其进一步包括用于使用所确定的所述气体副产物的浓度来确定处理速率和终点的计算机可读代码。3.根据权利要求2所述的设备，其进一步包括存储器，该存储器存储多个与处理速率和终点相关的模型，其中，用于使用经处理的所述数据的计算机可读代码包括用于将经处理的所述数据与所述多个模型进行比较以找到最接近的匹配模型的计算机可读代码，其中，所述最接近的匹配模型表明处理速率和终点。4.根据权利要求3所述的设备，其进一步包括具有反射镜的气室，在来自所述红外光源的光到...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕克·阿尔巴雷德，亚辛·卡布兹，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：美国;US