细胞培养系统技术方案

提供一种细胞培养系统，其中，该细胞培养系统包括：溶液保持部件，其保持用于培养细胞的培养基；以及溶液供给部件，其与溶液保持部件相连结，将从溶液保持部件供给来的溶液向细胞培养容器供给。也可以是，溶液供给部件经由滴下溶液的工序向细胞培养容器供给溶液。也可以是，细胞培养容器在比溶液供给部件靠重力方向下方的位置与溶液供给部件相连结，溶液供给部件具有供从溶液保持部件供给来的溶液滴下的空间，细胞培养装置在容器侧面的期望的高度的位置具有用于排出溶液的排出口，通过从溶液供给部件向细胞培养容器供给溶液，从而在细胞培养容器内的溶液上表面的高度达到排出口时将溶液向外部排出。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于更换细胞培养容器内的培养基的细胞培养系统。
技术介绍
近年来，伴随着干细胞研究、再利用医疗的发展，要求大量调制临床用途的细胞。临床用途的细胞的调制要求符合严格基准的环境下的操作，因此，在操作者进入操作空间时，产生了换上一次性的操作服等巨大的工时和成本。另外，操作者的操作工序成为培养系统被污染的契机。因而，要求尽可能地减少操作者进入操作空间进行操作的次数，可能的操作不依赖人手而自动进行。在培养细胞时要定期更换培养基(细胞培养液)，但是培养基更换伴随有培养系统的污染(日语：コンタミネーション)的风险，期望尽可能地不借助人手而自动进行。作为自动更换培养基的系统，公知有使培养基向培养系统连续回流的系统(专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开昭61－58582号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题临床用途的细胞的调制需要制定严格的基准，并尽可能地排除培养系统被污染的风险，但是在像专利文献1这样的使培养基连续回流的系统中，存在有因回流的不良情况等使劣化的培养基逆流并污染培养系统的风险。本专利技术是鉴于上述情况而做成的，其目的在于提供一种能够简单地更换细胞培养空间中的细胞培养容器内的培养基、并且能够减轻细胞培养系统的污染的风险的细胞培养系统。用于解决问题的方案为了达到上述目的，本专利技术提供以下技术方案。本专利技术的第1技术方案提供一种细胞培养系统，其中，该细胞培养系统包括：溶液保持部件，其保持用于培养细胞的培养基；以及培养基供给部件，其与该溶液保持部件相连结，将从所述溶液保持部件供给来的培养基向细胞培养容器供给，所述细胞培养容器在比所述培养基供给部件靠重力方向下方的位置与所述培养基供给部件相连结，所述培养基供给部件具有供从所述溶液保持部件供给来的培养基滴下的空间，所述细胞培养容器在容器侧面的期望的高度的位置具有用于排出培养基的排出口，通过从所述培养基供给部件供给培养基，从而在培养基上表面的高度达到所述排出口时，所述排出口将培养基向外部排出。根据本技术方案，在使用者不在场的情况下，也能够相对于细胞培养容器供给、排出培养基等溶液。而且，由于培养基在滴下容器内滴下，因此能够降低位于比其靠上游的位置的溶液保持部件的培养基被污染的风险。本专利技术的第2技术方案提供一种细胞培养系统，其中，该细胞培养系统包括：溶液保持部件，其保持用于培养细胞的培养基；以及培养基供给部件，其与该溶液保持部件相连结，将从所述溶液保持部件供给来的培养基向细胞培养容器供给，所述细胞培养容器在容器上表面具有从所述培养基供给部件供给培养基的供给口，并且在容器侧面的期望的高度的位置具有用于排出培养基的排出口，从所述供给口供给来的培养基在细胞培养容器内的空间从所述供给口向培养基上表面滴下，通过从所述培养基供给部件供给培养基，从而在培养基上表面的高度达到所述排出口时，所述排出口将培养基向外部排出。根据本技术方案，在使用者不在场的情况下，也能够相对于细胞培养容器供给、排出培养基等溶液。而且，由于培养基在细胞培养容器内滴下，因此能够降低位于比其靠上游的位置的溶液保持部件、培养基供给部件的培养基被污染的风险。另外，在上述各个技术方案中，也可以是，该细胞培养系统具有控制溶液的滴下速度的滴下速度调整部件。据此，能够以任意的更换效率替换细胞培养容器中的旧的培养基，能够降低培养基的劣化速度。另外，在具有上述滴下速度调整部件的技术方案中，也可以是，该细胞培养系统具有远程控制所述滴下速度调整部件的控制部。据此，能够减少操作者进入操作空间进行操作的次数，能够降低与操作相伴的工时和成本，并且也能够减少培养系统被污染的机会。另外，在上述各个技术方案中，也可以是，该细胞培养系统具有用于对所述培养基保存部件的培养基施加压力的压力附加部件。据此，滴下速度的调整范围较大，能够更高精度地控制滴下速度。而且，培养基保存部件、暂时培养基保持部件的设置位置的自由度提高。另外，在上述各个技术方案中，也可以是，该细胞培养系统具有用于对所述细胞培养容器的所述排出口施加负压的负压供给部件。据此，细胞培养容器的排出口的设置位置的自由度提高，能够增加可使用的细胞培养容器的形态。另外，在上述各个技术方案中，也可以是，该细胞培养系统还具有废液保持部件，该废液保持部件与所述细胞培养容器的排出口相连结，并保持从所述细胞培养容器供给的培养基，从所述细胞培养容器排出的培养基在所述废液保持部件中的空间滴下。据此，由于废液在废液保持部件内滴下，因此能够防止逆流，能够降低细胞培养容器被污染的风险。本专利技术的第3技术方案提供一种细胞培养系统，其中，该细胞培养系统包括：溶液保持部件，其保持用于培养细胞的培养基等溶液；溶液供给部件，其与该溶液保持部件相连结，将从所述溶液保持部件供给来的溶液向细胞培养容器供给；以及溶液排出部件，其从所述细胞培养容器中排出溶液，所述细胞培养容器在比所述溶液供给部件靠重力方向下方的位置与所述溶液供给部件相连结，所述溶液供给部件具有供从所述溶液保持部件供给来的溶液滴下的空间。根据本技术方案，由于溶液在溶液供给部件内滴下，因此能够降低位于比其靠上游的位置的溶液保持部件的培养基等溶液被污染的风险。本专利技术的第4技术方案提供一种细胞培养系统，其中，该细胞培养系统包括：溶液保持部件，其保持用于培养细胞的培养基等溶液；溶液供给部件，其与该溶液保持部件相连结，将从所述溶液保持部件供给来的溶液向细胞培养容器供给；以及溶液排出部件，其从所述细胞培养容器中排出溶液，所述细胞培养容器在比所述溶液供给部件靠重力方向下方的位置与所述溶液供给部件相连结，在所述细胞培养容器上表面具有从所述溶液供给部件供给溶液的供给口，从该供给口供给来的溶液在所述细胞培养容器内的空间从所述供给口滴下。根据本技术方案，由于溶液在细胞培养容器内滴下，因此能够降低位于比其靠上游的位置的溶液保持部件的培养基等溶液被污染的风险。另外，在上述第3及第4技术方案中，也可以是，所述溶液供给部件具有控制溶液的滴下速度的滴下速度调整部件，所述溶液排出部件具有控制溶液的排出速度的废液速度调整部件，该细胞培养系统具有控制部，该控制部远程操作所述滴下速度调整部件对溶液的滴下速度的控制和所述废液速度调整部件对溶液的排出速度的控制。据此，由于操作者能够远程更换培养系统的培养基，因此能够减少操作者进入操作空间进行操作的次数，能够降低与操作相伴的工时和成本，并且也能够减少培养系统被污染的机会。另外，在上述第3及第4技术方案中，也可以是，该细胞培养系统具有用于对所述溶液保持部件的溶液施加压力的压力附加部件。据此，滴下速度的调整范围较大，能够更高精度地控制滴下速度。而且，溶液保持部件的设置位置的自由度提高。另外，在上述第3及第4技术方案中，也可以是，所述细胞培养容器具有与所述溶液排出部件相连结的排出口，该细胞培养系统具有用于对所述细胞培养容器的所述排出口施加负压的负压供给部件。据此，溶液自细胞培养容器排出的排出速度的调整范围较大，能够更高精度地控制排出速度。而且，细胞培养容器的排出口的设置位置的自由度提高，能够增加可使用的细胞培养容器的形态。另外，在上述第3及第4技术方案中，也可以是，所述溶液排出部件具有废液保持部件，该废液保持部件与所述细胞培养容器相连结并保持从所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种细胞培养系统，其中，该细胞培养系统包括：溶液保持部件，其保持用于培养细胞的培养基等溶液；以及溶液供给部件，其与该溶液保持部件相连结，将从所述溶液保持部件供给来的溶液向细胞培养容器供给，所述溶液供给部件经由滴下溶液的工序向所述细胞培养容器内供给溶液。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.07.10 JP 2014-142253;2014.10.10 JP 2014-208771.一种细胞培养系统，其中，该细胞培养系统包括：溶液保持部件，其保持用于培养细胞的培养基等溶液；以及溶液供给部件，其与该溶液保持部件相连结，将从所述溶液保持部件供给来的溶液向细胞培养容器供给，所述溶液供给部件经由滴下溶液的工序向所述细胞培养容器内供给溶液。2.根据权利要求1所述的细胞培养系统，其中，所述细胞培养容器在比所述溶液供给部件靠重力方向下方的位置与所述溶液供给部件相连结，所述溶液供给部件具有供从所述溶液保持部件供给来的溶液滴下的空间，所述细胞培养容器在容器侧面的期望的高度的位置具有用于排出溶液的排出口，通过从所述溶液供给部件向所述细胞培养容器供给溶液，从而在所述细胞培养容器内的溶液上表面的高度达到所述排出口时，溶液从所述排出口向所述细胞培养容器的外部排出。3.根据权利要求1所述的细胞培养系统，其中，所述细胞培养容器在容器上表面具有从所述溶液供给部件供给溶液的供给口，并且在容器侧面的期望的高度的位置具有用于排出溶液的排出口，从所述供给口供给来的溶液在所述细胞培养容器内的空间朝向溶液上表面滴下，通过从所述溶液供给部件供给溶液，从而在所述细胞培养容器内的溶液上表面的高度达到所述排出口时，溶液从所述排出口向所述细胞培养容器的外部排出。4.根据权利要求1所述的细胞培养系统，其中，所述溶液供给部件包括：滴下容器，其具有供从所述溶液保持部件供给来的溶液滴下的空间；以及滴下速度调整部件，其控制该滴下容器内的溶液的滴下速度。5.根据权利要求1所述的细胞培养系统，其中，该细胞培养系统具有控制所述细胞培养容器内的溶液滴下速度的滴下速度调整部件。6.根据权利要求4或5所述的细胞培养系统，其中，该细胞培养系统具有远程控制所述滴下速度调整部件的控制部。7.根据权利要求1～6中任一项所述的细胞培养系统，其中，该细胞培养系统具有用于对所述溶液保持部件的溶液施加压力的压力附加部件。8.根据权利要求1～7中任一项所述的细胞培养系统，其中，该细胞培养系统具有用于对所述细胞培养容器的所述排出口施加负压的负压供给部件...

【专利技术属性】
技术研发人员：木村博之，南达哉，真柄泰典，
申请(专利权)人：奥林巴斯株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP