【技术实现步骤摘要】
本专利技术总体涉及电子器件,并且在具体实施例中涉及机电开关器件及其形成方法。
技术介绍
半导体器件用于各种电子和其他应用。除了别的以外,半导体器件包括形成在半导体晶片上的集成电路或分立器件,这些集成电路或分立器件通过以下方式形成:在半导体晶片之上沉积一种或多种材料薄膜并且将材料薄膜图案化以形成集成电路。功率半导体器件常常用于多种应用。用于比较功率器件的通用度量标准是特定导通电阻与击穿电压之间的关系。常规半导体功率器件具有用于给定类型器件衬底的折衷设计。换言之,超出该折衷设计的具有低导通电阻以及高击穿电压的器件是不能实现的。已提议将纳米机电(NEM)继电器技术用于超低功率互补逻辑应用。
技术实现思路
根据本专利技术实例,开关器件包括被布置在衬底上的开口。源极被布置成邻近开口并且具有与开口的侧壁平行的接触表面。漏极被布置成邻近开口并且具有与开口的侧壁平行的接触表面。可移动栅极堆叠包括沟道和栅极。可移动栅极堆叠被布置在开口之内。根据本专利技术另一实施例,开关器件包括被布置在衬底中且具有第一侧壁和相对的第二侧壁的开口、被布置在开口中和/或之上的源极、被布置在开口中和/或之上的漏极、以及被布置在开口中的沟道。该沟道包括具有第一位置和第二位置的可移动导电元件。在第一位置中,可移动导电元件被配置成接触漏极和源极。在第二位置中,可移动元件配置成通过气隙与漏极区域和源极区域分离。根据本专利技术另一实施例,集成电路包括多个开关器件。所述多个开关器件中的每个开关器件包括被布置在衬底中的开口、源极区域、漏极区域、沿着第一方向定向且包括被布置在开口内的可移动导电元件的栅极线。可移动导 ...
【技术保护点】
一种开关器件,包括:第一开口,被布置在衬底中;第一源极,被布置成邻近所述第一开口并且具有与所述第一开口的侧壁平行的接触表面;第一漏极,被布置成邻近所述第一开口并且具有与所述第一开口的所述侧壁平行的接触表面;以及第一可移动栅极堆叠,包括被布置在所述第一开口之内的第一沟道和第一栅极。
【技术特征摘要】
2015.06.30 US 14/788,2221.一种开关器件,包括:第一开口,被布置在衬底中;第一源极,被布置成邻近所述第一开口并且具有与所述第一开口的侧壁平行的接触表面;第一漏极,被布置成邻近所述第一开口并且具有与所述第一开口的所述侧壁平行的接触表面;以及第一可移动栅极堆叠,包括被布置在所述第一开口之内的第一沟道和第一栅极。2.根据权利要求1所述的开关器件,进一步包括本体,所述本体被布置成邻近所述第一开口并且具有与所述第一开口的所述侧壁平行的接触表面。3.根据权利要求2所述的开关器件,其中所述开关器件包括接通状态和关断状态,并且其中所述第一可移动栅极堆叠被配置成在所述接通状态下朝向所述本体被拉动。4.根据权利要求1所述的开关器件,其中所述开关器件包括接通状态和关断状态,并且其中所述第一可移动栅极堆叠被配置成在所述接通状态下朝向所述第一源极被拉动。5.根据权利要求1所述的开关器件,其中所述开关器件包括接通状态和关断状态,其中所述开关器件被配置成在接通状态下导电,其中在所述关断状态下,所述第一可移动栅极堆叠处于第一参考位置,其中在所述接通状态下,所述第一可移动栅极堆叠从所述第一参考位置发生位移并且接触所述第一源极和所述第一漏极,从而通过所述第一沟道在所述第一源极与所述第一漏极之间提供第一导电路径。6.根据权利要求1所述的开关器件,其中所述第一可移动栅极堆叠被弹性耦合至所述第一开口的侧壁。7.根据权利要求1所述的开关器件,其中所述第一可移动栅极堆叠被弹性耦合至所述第一开口的底表面。8.根据权利要求1所述的开关器件,其中所述第一可移动栅极堆叠包括弹性部件。9.根据权利要求1所述的开关器件,进一步包括:源极接触焊盘,被耦合至所述第一源极;以及漏极接触焊盘,被耦合至所述第一漏极,其中所述源极接触焊盘和所述漏极接触焊盘被布置在所述衬底的相同侧之上。10.根据权利要求1所述的开关器件,进一步包括:源极接触焊盘,被耦合至所述第一源极;以及漏极接触焊盘,被耦合至所述第一漏极,其中所述源极接触焊盘和所述漏极接触焊盘被布置在所述衬底的相对侧上。11.根据权利要求1所述的开关器件,进一步包括:第二开口,被布置在所述衬底中;第二源极,被布置成邻近所述第二开口并且具有与所述第二开口的侧壁平行的接触表面;第二漏极,被布置成邻近所述第二开口并且具有与所述第二开口的侧壁平行的接触表面;以及第二可移动栅极堆叠,包括被布置在所述第二开口之内的第二沟道和第二栅极。12.根据权利要求11所述的开关器件,其中,所述第一源极和所述第二源极被耦合至共用源极节点,并且其中所述第一漏极和所述第二漏极被耦合至共用漏极节点。13.根据权利要求11所述的开关器件,其中,所述第一源极和所述第二源极通过所述衬底的共用区域被分离。14.一种开关器件,包括:开口,被布置在衬底中,所述开口包括第一侧壁和相对的第二侧壁;源极,被布置在所述开...
【专利技术属性】
技术研发人员:M·胡茨勒,
申请(专利权)人:英飞凌科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:德国;DE
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。