一种新型多晶硅片清洗机制造技术

本实用新型专利技术提供了一种新型多晶硅片清洗机，属于机械技术领域。它解决了现有的清洗机清洗效果不佳的问题。本新型多晶硅片清洗机包括底板和设于底板上的圆板，圆板下侧设有多个喷头，圆板和底板之间设有储液桶，储液桶顶部敞口、底部封闭，底板上设有能驱动储液桶上下平移的驱动件，储液桶顶壁能与圆板下端面相抵并将储液桶顶部敞口封闭，储液桶内固定有呈锥形的支撑筒，支撑筒直径向下逐渐减小，支撑筒上端口处制有向外的翻边，翻边上端面上设有用于放置多晶硅片的凹槽，凹槽的数量与喷头相同且凹槽的位置与喷头的出水口一一正对。本新型多晶硅片清洗机具有清洗效果好的优点。

Novel polycrystalline silicon chip cleaning machine

The utility model provides a novel polycrystalline silicon chip cleaning machine, which belongs to the technical field of machinery. The utility model solves the problem that the cleaning effect is not good. This new type of polycrystalline silicon wafer cleaning machine comprises a bottom plate and the bottom plate on the plate, the lower plate is provided with a plurality of nozzles, a liquid storage barrel is arranged between the plate and the bottom plate, a liquid storage barrel is open and closed at the bottom, can drive the liquid storage barrel under the translation of the driving part is provided with a base plate, a liquid storage barrel can end and top wall offset and circular plate under the top liquid storage barrel open closed, with a conical support tube fixed in the liquid storing tank, a supporting cylinder diameter decreases downwards, the supporting cylinder port is arranged at the outward flanging on a flange end face is provided with a groove for placing the polysilicon film, and the number of nozzles and nozzle outlet groove with the same groove one is. The utility model has the advantages of good cleaning effect.

【技术实现步骤摘要】

本技术属于机械
，涉及一种清洗机，特别是一种新型多晶硅片清洗机。
技术介绍
当前硅片清洗工艺一般需要引入化学药液来完成对硅片的清洗，传统的清洗工艺一般是将硅片固定在清洗桶内，接着通过设于清洗桶上方的喷头对往硅片表面喷射常温化学药液来达到清洗的效果。但该工艺过程中，化学药液容易受到空气的影响，导致硅片清洗的效果也不理想。
技术实现思路
本技术的目的是针对现有的技术存在上述问题，提出了一种新型多晶硅片清洗机，解决的技术问题是如何提高清洗效果。本技术的目的可通过下列技术方案来实现：一种新型多晶硅片清洗机，包括底板和设于底板上且与其平行的圆板，圆板的下侧设有多个沿圆板的周向均布的喷头，其特征在于，所述的圆板和底板之间设有储液桶，储液桶顶部敞口、底部封闭，所述的底板上设有能驱动储液桶上下平移的驱动件，且储液桶的顶壁能与圆板的下端面相抵并将储液桶的顶部敞口封闭，所述的储液桶内固定有呈锥形的支撑筒，支撑筒和储液桶两者的中心轴线共线，且支撑筒的直径向下逐渐减小，所述的支撑筒的上端口处制有向外的翻边，翻边的上端面上设有用于放置多晶硅片的凹槽，所述的凹槽的数量与喷头相同且凹槽的位置与喷头的出水口一一正对。安装时，每个喷头均通过管道与放置药液的容器相连；初始状态时，储液桶和圆板处于分离状态；使用时，将多晶硅片放入到凹槽内，然后驱动件工作以带动储液桶上移并最终与圆板相抵，在然后喷头对着多晶硅片进行喷射药液，以对多晶硅片进行清洗。清洗完毕后，驱动件带动储液桶下移然后将多晶硅片取出便可。在储液桶底部封闭以及且顶部敞口通过该储液筒和圆板的配合被封闭，使整个清洗的过程在一个密闭的空间内进行，从而有效避免化学药液受空气的影响，继而提高本清洗机的清洗效果。通过设置呈锥形的支撑筒且支撑筒的直径向下逐渐减小，对清洗产生的废水起到较好的导向作用，从而有效避免废水聚集在翻边上方阻碍化学药液与多晶硅片接触，继而使提高清洗效果的目的稳定实现。在上述的新型多晶硅片清洗机中，所述的储液桶的内侧壁上具有呈环状凸出的连接座，且翻边的下端面与连接座的上端面相贴靠，所述的翻边的上端面上设有均呈环状的定位槽和密封槽，密封槽有两个且定位槽位于两密封槽之间，所述的定位槽内固定有呈环状的磁块，且磁块的上端面与翻边相抵，每个所述的密封槽内均设有呈环状的密封垫，且密封垫的两端面分别与密封槽的底壁和翻边相抵，所述的支撑筒由导磁材料制成。即支撑筒通过在磁块磁力的吸引下可拆卸地固定在储液桶内，使操作者可以通过取出支撑筒来完成将全部多晶硅片取出，这样在实际操作过程中，可以准备多个支撑筒以进行交替使用，从而既提高了操作的方便性，又加快了清洗的效率。在两个密封垫的作用下，将磁块包裹在一个较为密封的腔室内，以对磁块起到较好的保护作用，使磁块始终将支撑筒稳定定位，以使提高清洗效果的目的稳定实现。在上述的新型多晶硅片清洗机中，所述的支撑筒内设有呈圆形的连接板，且连接板和支撑筒两者的中心轴线共线，所述的连接板的侧壁和支撑筒的内侧壁通过呈直杆状的连接杆相连，连接杆有两根且沿周向均布，所述的连接板的上端面上垂直固定有拉杆，且拉杆的上端伸出支撑筒。使用时，通过握持拉杆并上拉，便可将支撑筒从储液桶内取出，具有操作方便的优点。在上述的新型多晶硅片清洗机中，所述的储液桶的顶壁上设有与其同轴的环形卡槽，环形卡槽内设有密封圈，且密封圈的两端面分别与环形卡槽的底壁和圆板的下端面相抵。在密封圈的作用下，使圆板和储液桶之间形成可靠的密封，以进一步阻止外部空气与化学药液接触，从而使清洗效果等到进一步的提高。与现有技术相比，本新型多晶硅片清洗机具有以下优点：1、在储液桶底部封闭以及且顶部敞口通过该储液筒和圆板的配合被封闭，使整个清洗的过程在一个密闭的空间内进行，从而有效避免化学药液受空气的影响，继而提高本清洗机的清洗效果。2、通过设置呈锥形的支撑筒且支撑筒的直径向下逐渐减小，对清洗产生的废水起到较好的导向作用，从而有效避免废水聚集在翻边上方阻碍化学药液与多晶硅片接触，继而使提高清洗效果的目的稳定实现。3、支撑筒通过在磁块磁力的吸引下可拆卸地固定在储液桶内，使操作者可以通过取出支撑筒来完成将全部多晶硅片取出，这样在实际操作过程中，可以准备多个支撑筒以进行交替使用，从而既提高了操作的方便性，又加快了清洗的效率。4、在两个密封垫的作用下，将磁块包裹在一个较为密封的腔室内，以对磁块起到较好的保护作用，使磁块始终将支撑筒稳定定位，以使提高清洗效果的目的稳定实现。附图说明图1是本新型多晶硅片清洗机的结构示意图。图2是图1中A处的放大结构示意图。图3是图1中B处的放大结构示意图。图中，1、底板；2、圆板；3、喷头；4、储液桶；4a、排水口；4b、导向部；4c、连接座；5、支撑筒；5a、翻边；5b、凹槽；6、磁块；7、支撑柱；8、阀门；9、驱动件；10、导向杆；11、密封圈；12、密封垫；13、连接板；14、连接杆；15、拉杆。具体实施方式以下是本技术的具体实施例并结合附图，对本技术的技术方案作进一步的描述，但本技术并不限于这些实施例。如图1所示，本新型多晶硅片清洗机由底板1、圆板2、喷头3、储液桶4、支撑筒5、磁块6等组成。其中，支撑筒5由导磁材料制成，导磁材料可以为铁或含铁合金。具体来说，圆板2呈圆形，该圆板2设置在底板1上并与底板1相平行。在本实施例中，圆板2通过两根支撑柱7与底板1相固定，且支撑柱7沿圆板2的周向均布。自然，圆板2通过支架设于工作环境内也是可以的。圆板2的下侧固定有喷头3，喷头3有多个且沿圆板2的周向均布。实际安装时，每个喷头3均通过管道与放置药液的容器相连。储液桶4顶部敞口、底部封闭，该储液桶4设于底板1上方，并位于底板1和圆板2之间，此时，圆板2和储液桶4两者的中心轴线共线。储液桶4的底部贯穿有排水口4a，且该储液桶4的底部固定有能控制排水口4a与外界通断的阀门8。底板1上设有能驱动储液桶4上下平移的驱动件9，且储液桶4的顶壁能与圆板2的下端面相抵并将储液桶4的顶部敞口封闭。在本实施例中，优选驱动件9为气缸，且气缸的活塞杆与储液桶4的底壁相固定。自然，驱动件9采用油缸也是可以的。进一步说明，储液桶4的下端外侧壁上具有呈环状的导向部4b，底板1上竖直设有两根导向杆10，导向部4b上贯穿有两个导向孔，且导向孔沿导向部4b的周向均布，两导向杆10分别穿过两导向孔，以对储液桶4的移动起到较好的导向作用。如图2所示，储液桶4的顶壁上设有与其同轴的环形卡槽，环形卡槽内设有密封圈11，且密封圈11的两端面分别与环形卡槽的底壁和圆板2的下端面相抵，以使圆板2和储液桶4之间形成可靠的密封。如图1所示，支撑筒5竖直设于储液桶4内，且此时支撑筒5和储液桶4两者的中心轴线共线。支撑筒5呈锥形且其直径向下逐渐减小；支撑筒5的上端口处制有向外的翻边5a，翻边5a的上端面上设有用于放置多晶硅片的凹槽5b。凹槽5b的数量与喷头3相同且凹槽5b的位置与喷头3的出水口一一正对。进一步说明，支撑筒5和储液桶4可拆卸固定，具体来说，如图1和图2所示，储液桶4的内侧壁上具有呈环状凸出的连接座4c，且翻边5a的下端面与连接座4c的上端面相贴靠。翻边5a的上端面上设有呈环状的定位槽，定位槽内固定有呈环状的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型多晶硅片清洗机，包括底板和设于底板上且与其平行的圆板，圆板的下侧设有多个沿圆板的周向均布的喷头，其特征在于，所述的圆板和底板之间设有储液桶，储液桶顶部敞口、底部封闭，所述的底板上设有能驱动储液桶上下平移的驱动件，且储液桶的顶壁能与圆板的下端面相抵并将储液桶的顶部敞口封闭，所述的储液桶内固定有呈锥形的支撑筒，支撑筒和储液桶两者的中心轴线共线，且支撑筒的直径向下逐渐减小，所述的支撑筒的上端口处制有向外的翻边，翻边的上端面上设有用于放置多晶硅片的凹槽，所述的凹槽的数量与喷头相同且凹槽的位置与喷头的出水口一一正对。

【技术特征摘要】
1.一种新型多晶硅片清洗机，包括底板和设于底板上且与其平行的圆板，圆板的下侧设有多个沿圆板的周向均布的喷头，其特征在于，所述的圆板和底板之间设有储液桶，储液桶顶部敞口、底部封闭，所述的底板上设有能驱动储液桶上下平移的驱动件，且储液桶的顶壁能与圆板的下端面相抵并将储液桶的顶部敞口封闭，所述的储液桶内固定有呈锥形的支撑筒，支撑筒和储液桶两者的中心轴线共线，且支撑筒的直径向下逐渐减小，所述的支撑筒的上端口处制有向外的翻边，翻边的上端面上设有用于放置多晶硅片的凹槽，所述的凹槽的数量与喷头相同且凹槽的位置与喷头的出水口一一正对。2.根据权利要求1所述的新型多晶硅片清洗机，其特征在于，所述的储液桶的内侧壁上具有呈环状凸出的连接座，且翻边的下端面与连接座的上端面相贴靠，所述的翻边的上端面上设有...

【专利技术属性】
技术研发人员：钱其峰，徐国华，钱鹏飞，陆亚杰，
申请(专利权)人：浙江芯能光伏科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33