一种用于屏蔽罩的绝缘膜结构制造技术

技术编号:13554726 阅读:72 留言:0更新日期:2016-08-18 22:33
一种用于屏蔽罩的绝缘膜结构,包括依次层叠的第一离型膜、绝缘膜和第二离型膜;所述绝缘膜上设有多个用以贴合到屏蔽罩上且与屏蔽罩的待贴合部位尺寸匹配的绝缘膜贴合块,该绝缘膜贴合块与所述绝缘膜之间具有切断线;所述绝缘膜朝向所述第一离型膜的一侧设有第一胶粘剂层,所述第二离型膜层朝向所述绝缘膜层的一侧设有第二胶粘剂层;所述第二胶粘剂层的粘性小于所述第一胶粘剂层的粘性,所述第一离型膜层没有粘性。本实用新型专利技术同时向多个屏蔽罩提供绝缘膜,具有工作效率高的优点。

【技术实现步骤摘要】
201620257209

【技术保护点】
一种用于屏蔽罩的绝缘膜结构,其特征在于:包括依次层叠的第一离型膜、绝缘膜和第二离型膜;所述绝缘膜上设有多个用以贴合到屏蔽罩上且与屏蔽罩的待贴合部位尺寸匹配的绝缘膜贴合块,该绝缘膜贴合块与所述绝缘膜之间具有切断线;所述绝缘膜朝向所述第一离型膜的一侧设有第一胶粘剂层,所述第二离型膜层朝向所述绝缘膜层的一侧设有第二胶粘剂层;所述第二胶粘剂层的粘性小于所述第一胶粘剂层的粘性,所述第一离型膜层没有粘性。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:葛杨波孙习城
申请(专利权)人:上海维衡精密电子股份有限公司
类型:新型
国别省市:上海;31

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