多层体及其生产方法技术

本发明专利技术涉及生产多层体(具体来说，防伪元件)的方法，其中，在基材上产生部分化第一层或部分化第一层系统，所述部分化第一层或部分化第一层系统提供在第一部分中，而没有提供在第二部分中。随后，产生部分化第二层或者部分化第二层系统，所述部分化第二层或部分化第二层系统提供在第三部分中，而没有提供在第四部分中，所述第三部分与所述第一和第二部分交叠。然后采用所述部分化第二层或部分化第二层系统作为掩蔽结构，形成所述部分化第一层或者部分化第一层系统。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及具有两层或层系统的多层体，及其生产方法。多层体作为防伪元件是本领域已知的，并且被广泛地用于保护钞票、证券和身份证件免受伪造或者用于产品鉴定。它们是基于数层功能层的组合，例如，其可以包括光学可变元素(OVD＝光学可变装置)、衍射元素、部分金属化层或印刷特征。已知通过如下方式来生产此类多层体：依次施加单独层，装配所需的层序列。为了获得特定防伪能力的多层体，希望将单层的特征进行无缝相互混合。换言之，层应该尽可能精确地相互配准排列。但是，当多层体是依次装配的情况下，无法总是实现该情形，因为用于生产各单层的方法在层相对位置方面存在容差。作为结果，无法可靠地实现特征之间所需的无缝过渡，这对于防伪保护和此类多层体的光学外观具有负面影响。配准或配准精确地指的是叠加层的相互精确位置排列，维持所需的位置容差。因此，本专利技术的目的是提供生产多层体的方法，其使得可以生产具有改善的防伪安全的多层体。本专利技术的另一个目的是提供具体的防伪多层体。通过具有权利要求1的特征的方法以及通过具有权利要求26的特征的多层体，实现该目的。用于生产多层体，具体地，用于生产防伪元件，的此类方法包括如下步骤：a)在基材上生产部分化第一层或者部分化第一层系统，其中，所述部分化第一层或者部分化第一层系统存在于第一部分化区域中而不存在于第二部分化区域中；b)生产部分化第二层或部分化第二层系统，其中，所述部分化第二层或部分化第二层系统存在于第三部分化区域中而不存在于第四部分化区域中，以及其中，所述第三部分化区域与所述第一和第二部分化区域交叠；c)采用所述部分化第二层或部分化第二层系统作为掩蔽，构建所述部分化第一层或者部分化第一层系统。以这种方法，获得了多层体，具体地，防伪元件，其包括：基材，部分化第一层或者部分化第一层系统以及部分化第二层或者部分化第二层系统，其中，采用所述部分化第二层或者部分化第二层系统作为掩蔽，将所述部分化第一层或者部分化第一层系统精确地构建成与所述部分化第二层或者部分化第二层系统配准，以及其中，所述部分化第一层或者部分化第一层系统存在于第一部分化区域中而不存在于第二部分化区域中，以及其中，所述部分化第二层或部分化第二层系统存在于第三部分化区域中而不存在于第四部分化区域中，以及其中，所述第三部分化区域与所述第一和第二部分化区域交叠。通过使用所述部分化第二层或部分化第二层系统作为掩蔽来构建所述部分化第一层或者部分化第一层系统，可以将这两层或层系统准确地相互配准排列。特别重要的是，所述第二部分化层或第二部分化层系统不仅延伸进入被所述第一部分化层或第一部分化层系统覆盖的那些区域，即所述第一部分化区域，还延伸进入未被所述第一部分化层或第一部分化层系统覆盖的区域，即所述第二部分化区域。通过使用所述第二部分化层或第二部分化层系统作为掩蔽在这里指的是，在构建所述第一部分化层或第一部分化层系统期间，后者选择性保留在所述第二部分化层或第二部分化层系统覆盖的那些区域中或者从所述第二部分化层或第二部分化层系统覆盖的那些区域中选择性去除。因此，在构建期间，获得了这两层或层系统之间的限定位置关系，从而使得它们相互精确地配准排列，例如相互无缝地毗邻。层系统在这里指的是数层的任意排列。层可以是以层系统的表面法线的方向一个在另一个顶部排列，或者也是在平面中彼此相邻。层以这种方式水平和垂直地排列的组合也是可能的。交叠指的是各个部分化区域以跨越第一或第二层的平面的表面法线的方向至少部分地是一个位于另一个顶部，即以多层体的堆叠方向观察。两层或两层系统的生产不需要是以特定顺序进行，即，也可以是在所述第一部分化层或第一部分化层系统之前生产所述第二部分化层或者第二部分化层系统。可以直接在基材上生产层或层系统，直接一个在另一个的顶上生产层系统，或者可以生产任意中间层。步骤c)中的所述部分化第一层或部分化第一层系统的构建优选通过蚀刻进行。如果所述部分化第二层或者部分化第二层系统是抗蚀刻物质或者包含抗蚀刻物质的话，则是有利的。抗蚀刻物质指的是这样的物质，其对于蚀刻剂具有抗性并且在抗蚀刻物质覆盖保护对于蚀刻剂敏感的物质的地方，能够保护该物质免受蚀刻剂的侵袭。在该实施方式中，因此，在生产了两层或两层系统之后，向得到的层堆叠施加蚀刻剂，该蚀刻剂去除了未被所述第二部分化层或者第二部分化层系统覆盖的地方的所述第一部分化层或第一部分化层系统。抗蚀刻物质优选是漆，其可以具体包括粘结剂、染料、颜料(具体来说，有色或无色颜料)、特殊作用颜料、薄膜体系、胆甾醇型液晶和/或金属或非金属纳米颗粒。因此，所述第二部分化层或第二部分化层系统不仅在所述第一部分化层或第一部分化层系统的构建中起了保护功能，其自身还会产生装饰作用。还可能的情况是，对于所述第二部分化层或者第二部分化层系统，可以使用数种不同抗蚀刻物质(例如，具有不同着色的抗蚀刻漆)来产生进一步的视觉效果。用于构建所述第一部分化层或者第一部分化层系统的蚀刻剂取决于该层或者层系统的组成。具体来说，对于大部分的不透明金属层，或者透明或半透明HRI层(HRI＝高折射率)，具体例如，氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、氢氧化四甲基铵或钠-乙二胺四乙酸酯是合适的。对于此类蚀刻剂，合适的抗蚀刻物质是基于例如PVC(聚氯乙烯)、聚酯树脂或丙烯酸酯，其中，通常可以结合其他成膜物质，例如硝化纤维素。可以通过机械振动，例如通过刷拭、移动蚀刻浴或者超声处理，来支撑蚀刻。蚀刻操作的常规温度优选是15-75℃。步骤c)中的所述部分化第一层或部分化第一层系统的构建还可优选通过剥离方法(lift-offmethod)的方式进行。如果所述部分化第二层或者部分化第二层系统是修补基面涂层(washcoat)或者包含修补基面涂层(washcoat)的话，则是有利的。在剥离方法中，通过溶剂去除修补基面涂层。因此，修补基面涂层必须在溶剂中是可溶的。出于环保原因，优选使用水作为溶剂。合适的修补基面涂层包括例如，基于聚乙烯醇(PVA)或者聚乙烯吡咯烷酮(PVP)，并且可额外地含有有助于后续去除修补基面涂层的填料。修补基面涂层的去除是在溶剂浴中进行，或者通过喷洒溶剂进行，优选温度是15-65℃。在蚀刻的情况下，也可以通过机械振动，例如通过刷拭、振动溶剂浴、喷洒或者超声处理，来支撑修补基面涂层的去除。在将所述部分化第一层或部分化第一层系统施加到修补基面涂层的区域中，将所述部分化第一层或部分化第本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于生产多层体(10)，具体来说，用于生产防伪元件的方法，所述方法包括如下步骤：a)在基材上生产部分化第一层(11)或者部分化第一层系统，其中，所述部分化第一层(11)或者部分化第一层系统存在于第一部分化区域(111)中而不存在于第二部分化区域(112)中；b)生产部分化第二层(12)或部分化第二层系统，其中，所述部分化第二层(12)或部分化第二层系统存在于第三部分化区域(121)中而不存在于第四部分化区域(122)中，以及其中，所述第三部分化区域(121)与所述第一部分化区域(111)和第二部分化区域(112)交叠；c)采用所述部分化第二层(12)或部分化第二层系统作为掩蔽，构建所述部分化第一层(11)或者部分化第一层系统。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.11.29 DE 102013113283.91.用于生产多层体(10)，具体来说，用于生产防伪元件的方法，所述方
法包括如下步骤：
a)在基材上生产部分化第一层(11)或者部分化第一层系统，其中，所
述部分化第一层(11)或者部分化第一层系统存在于第一部分化区域(111)
中而不存在于第二部分化区域(112)中；
b)生产部分化第二层(12)或部分化第二层系统，其中，所述部分化第
二层(12)或部分化第二层系统存在于第三部分化区域(121)中而不存在于
第四部分化区域(122)中，以及其中，所述第三部分化区域(121)与所述第
一部分化区域(111)和第二部分化区域(112)交叠；
c)采用所述部分化第二层(12)或部分化第二层系统作为掩蔽，构建所
述部分化第一层(11)或者部分化第一层系统。
2.如权利要求1所述的方法，
其特征在于：
步骤c)中的所述部分化第一层(11)或部分化第一层系统的构建通过蚀
刻进行。
3.如权利要求2所述的方法，
其特征在于：
所述部分化第二层(12)或者部分化第二层系统是抗蚀刻物质，或者至少
包含抗蚀刻物质。
4.如权利要求3所述的方法，
其特征在于：
所述抗蚀刻物质是漆，其具体地包含粘结剂、颜料，具体是有色或无色颜
料和/或特殊作用颜料、薄膜体系、胆甾醇型液晶、染料和/或金属或非金属纳
米颗粒。
5.如权利要求1-4中任一项所述的方法，
其特征在于：
步骤c)中的所述部分化第一层(11)或部分化第一层系统的构建通过剥
离进行。
6.如权利要求5所述的方法，
其特征在于：
所述部分化第二层(12)或者部分化第二层系统是修补基面涂层，其可溶
于溶剂中，具体来说，可溶于水中，或者所述部分化第二层(12)或者部分化
第二层系统至少包含此类修补基面涂料。
7.如权利要求6所述的方法，
其特征在于：
所述修补基面涂料是具体包含粘合剂和填料的漆。
8.如权利要求1-7中任一项所述的方法，
其特征在于：
步骤c)中的所述部分化第一层(11)或部分化第一层系统的构建通过掩
蔽曝光进行。
9.如权利要求8所述的方法，
其特征在于：
所述部分化第二层(12)或者部分化第二层系统是保护漆，或者至少包含
保护漆。
10.如权利要求8或9所述的方法,
其特征在于：
所述部分化第一层(11)或者部分化第一层系统是光刻胶或者至少包含光
刻胶，其中，所述保护漆，具体是可溶于溶剂，具体来说可溶于水的修补基面
涂层。
11.如权利要求9或10所述的方法，
其特征在于：
所述保护漆和/或光刻胶是这样的漆，其具体地包含粘结剂、颜料，具体是
有色或无色颜料和/或特殊作用颜料、薄膜体系、胆甾醇型液晶、染料和/或金
属或非金属纳米颗粒。
12.如权利要求1-11中任一项所述的方法，
其特征在于：
在步骤a)和/或b)中，所述部分化第一层(11)或部分化第一层系统和/
或所述部分化第二层(12)或部分化第二层系统首先在整个表面上产生或者至
少在大面积的表面上产生，以及然后进行构建。
13.如权利要求12所述的方法，
其特征在于：
通过蚀刻、剥离或掩蔽曝光，来进行步骤a)或b)中的所述部分化第一
层(11)或部分化第一层系统和/或所述部分化第二层(12)或部分化第二层系
统的构建。
14.如权利要求13所述的方法，
其特征在于：
在步骤b)的所述部分化第二层(12)或部分化第二层系统的构建期间，
根据步骤c)的所述部分化第一层(11)或部分化第一层系统的构建同时进行。
15.如权利要求1-14中任一项所述的方法，
其特征在于：
在步骤a)和/或步骤b)中，所述部分化第一层(11)或部分化第一层系
统和/或所述部分化第二层(12)或部分化第二层系统是以结构化形式产生的。
16.如权利要求15所述的方法，
其特征在于：
通过印刷方法，具体来说，通过凹板印刷、柔版印刷、胶印、丝网印刷或

\t数字印刷，具体地，通过喷墨印刷的方式，来产生所述部分化第一层(11)或
部分化第一层系统和/或所述部分化第二层(12)或部分化第二层系统。
17.如权利要求1-16中任一项所述的方法，
其特征在于：
所述部分化第一层(11)或部分化第一层系统是如下情况或者包括如下情
况：金属和/或具有高折射率(HRI＝高折射率)材料的反射层，和/或至少一
层单色或多色漆层和/或法布里-珀罗层系统。
18.如权利要求1-17中任一项所述的方法，
其特征在于：
所述部分化第二层(12)或部分化第二层系统是如下情况或者包括如下情
况：至少一层...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·斯托布，L·布雷姆，P·克拉莫，R·施皮斯，K·福斯特，
申请(专利权)人：雷恩哈德库兹基金两合公司，OVD基尼格拉姆股份公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE