一种真空镀膜设备的真空室电源穿透密封件制造技术

技术编号:13265483 阅读:61 留言:0更新日期:2016-05-18 01:22
本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜设备的真空室电源穿透密封件,包括绝缘盖、绝缘座、安装座、电极,其特征在于,所述的绝缘盖设在绝缘座上方,绝缘座设在安装座上方;所述的绝缘盖、绝缘座和安装座分别设有螺栓孔,所述的电极穿过绝缘盖、绝缘座和安装,安装座上设有第一密封圈,绝缘座上设有第二密封圈。本实用新型专利技术的有益效果在于,能够实现电源不与真空室导通,真空不会泄露,同时加热和照明能够实现单独控制。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及机械设备领域,具体为一种真空镀膜设备的真空室电源穿透密封件
技术介绍
在真空镀膜的过程中,真空室里面的部件需要加热和照明,这就需要把电源引进到真空室里面,这种设备需要同时满足3个方面的要求:1.电源不能和真空室导通;2.不能有真空泄漏;3.加热和照明能够实现单独控制。目前的设备很难达到以上要求。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种真空镀膜设备的真空室电源穿透密封件,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种真空镀膜设备的真空室电源穿透密封件,包括绝缘盖、绝缘座、安装座、电极,其特征在于,所述的绝缘盖设在绝缘座上方,绝缘座设在安装座上方;所述的绝缘盖、绝缘座和安装座分别设有螺栓孔,所述的电极穿过绝缘盖、绝缘座和安装座,安装座上设有第一密封圈,绝缘座上设有第二密封圈;所述的螺栓孔均匀设有四个;所述的电极设有四个;所述的第一密封圈为O型密封圈,所述的第二密封圈为O型密封圈。本技术的有益效果在于,能够实现电源不与真空室导通,真空不会泄露,同时加热和照明能够实现单独控制,具有非常好的市场前景。【附图说明】图1为本技术结构不意图;图2为本技术俯视图结构不意图。图中:1-绝缘盖、2-螺栓孔、3-绝缘座、4-安装座、5-电极、6_第一密封圈、7_第二密封圈。【具体实施方式】下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。—种真空镀膜设备的真空室电源穿透密封件,包括绝缘盖1、绝缘座3、安装座4、电极5,其特征在于,所述的绝缘盖I设在绝缘座3上方,绝缘座3设在安装座4上方;所述的绝缘盖1、绝缘座3和安装座4分别设有螺栓孔2,所述的电极5穿过绝缘盖1、绝缘座3和安装座4,安装座4上设有第一密封圈6,绝缘座3上设有第二密封圈7;所述的螺栓孔2均匀设有四个;所述的电极5设有四个;优选的,所述的第一密封圈6为O型密封圈,所述的第二密封圈7为O型密封圈。安装座4焊接在真空室上,绝缘座3通过螺栓与安装座4固定连接,绝缘座3与安装座4之间靠第一密封圈6密封,2组4个通道电极5通过螺栓与绝缘座3固定,用第二密封圈7使其密封,绝缘盖I是为了防止电极外露所引发触电而设计。这样就实现了,两条火线,两条零线共两组电源引入真空室的目的。本技术的有益效果在于,能够实现电源不与真空室导通,真空不会泄露,同时加热和照明能够实现单独控制,具有非常好的市场前景。尽管已经示出和描述了本技术的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。【主权项】1.一种真空镀膜设备的真空室电源穿透密封件,包括绝缘盖、绝缘座、安装座、电极,其特征在于,所述的绝缘盖设在绝缘座上方,绝缘座设在安装座上方;所述的绝缘盖、绝缘座和安装座分别设有螺栓孔,所述的电极穿过绝缘盖、绝缘座和安装座,安装座上设有第一密封圈,绝缘座上设有第二密封圈。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备的真空室电源穿透密封件,其特征在于:所述的螺栓孔均匀设有四个。3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备的真空室电源穿透密封件,其特征在于:所述的电极设有四个。4.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备的真空室电源穿透密封件,其特征在于:所述的第一密封圈为O型密封圈,所述的第二密封圈为O型密封圈。【专利摘要】本技术公开了一种真空镀膜设备的真空室电源穿透密封件,包括绝缘盖、绝缘座、安装座、电极,其特征在于,所述的绝缘盖设在绝缘座上方,绝缘座设在安装座上方;所述的绝缘盖、绝缘座和安装座分别设有螺栓孔,所述的电极穿过绝缘盖、绝缘座和安装,安装座上设有第一密封圈,绝缘座上设有第二密封圈。本技术的有益效果在于,能够实现电源不与真空室导通,真空不会泄露,同时加热和照明能够实现单独控制。【IPC分类】C23C14/56【公开号】CN205188434【申请号】CN201520972551【专利技术人】王红涛 【申请人】深圳市纳尔逊科技有限公司【公开日】2016年4月27日【申请日】2015年11月30日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空镀膜设备的真空室电源穿透密封件,包括绝缘盖、绝缘座、安装座、电极,其特征在于,所述的绝缘盖设在绝缘座上方,绝缘座设在安装座上方;所述的绝缘盖、绝缘座和安装座分别设有螺栓孔,所述的电极穿过绝缘盖、绝缘座和安装座,安装座上设有第一密封圈,绝缘座上设有第二密封圈。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王红涛
申请(专利权)人:深圳市纳尔逊科技有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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