具有摩擦负载表面的密封环制造技术

公开了一种密封环。密封环可以具有在密封环的第一外轴向端与密封凸缘之间延伸的一个或者多个外部表面。密封凸缘可以邻近密封环的第二外轴向端定位，并且可以径向向外延伸到密封环的外径。密封凸缘的外部表面可以形成环形密封带。密封斜坡可以从接近密封环的第一外轴向端向外延伸至邻近密封凸缘定位的第二端。密封斜坡可以包括第一表面，该第一表面被配置成当弹性体密封件处于负载状态时在第一表面和被压缩成与第一表面接触的弹性体密封件之间形成摩擦密封接触界面。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种密封环，并且更具体而言，涉及一种具有摩擦负载表面的密封环。
技术介绍
密封环诸如由金属或其他耐用材料形成的密封环可以与弹性密封构件诸如弹性体O形环或复曲面密封件结合使用，以形成密封组件。此类密封组件在多种不同的应用中提供密封功能，包括但不限于具有相对旋转部件的机器、机器系统、机械系统和/或其部件。本专利技术的密封组件可以安装和/或定位在机器或机械系统部件之间，所述机械系统部件可相对于彼此旋转以保持润滑并且将杂质从内部轴承表面附近排除。具体地，与O形环或复曲面密封件相结合的密封环可以在特定壳体或组件的内表面内保持在弹性体支撑的位置中，以及与对面的可相对旋转的壳体或部件或定位和支撑在其中的密封组件的表面保持弹性邻接接触。然而，如果引入杂质和/或润滑剂，从而损害每个密封组件的表面之间的邻接密封接触的完整性以及损害可旋转机器或机械系统部件以及在一些应用中损害附加相关联的密封组件的完整性，则可损害每个密封组件的密封能力和因而保持润滑并清除可相对旋转的机器或机械系统部件之间的内部轴承表面附近的杂质的能力。Kometani的美国专利N0.8226088 ( ‘088专利)公开了一种包括可在公共轴线上相对旋转的一对壳体的浮动密封件。每个壳体支撑浮动环，其中弹性环在壳体与浮动环之间。通过弹性环的弹性可以将浮动环滑动地密封在一起。在面向相关联的弹性环的浮动环中的每一个的外圆周接触表面上形成粗糙表面，并且在与每个相关联的弹性环相对的壳体中的每一个的内圆周接触表面上另外形成粗糙表面。在一个实施例中，将薄膜状弹性层固定到在每个浮动环与位于靠近每个浮动环的密封侧的相关联的弹性环之间的接触表面的一部分的接触表面。另外，将薄膜状弹性层固定到在每个壳体与位于靠近每个浮动环的密封侧的相关联的弹性环之间的接触表面的一部分的接触表面。在第二实施例中，将弹性层涂覆在并且固定到每个浮动环和每个壳体相对于弹性环的整个接触表面上，而不在壳体和浮动环上形成粗糙表面。在第三实施例中，在浮动环和位于靠近其密封侧和粗糙表面的壳体两者的部分上都成机加工平滑部分。最后，在第四实施例中，浮动环中的每个包括由柔软性降低的橡胶材料形成的涂层，该涂层覆盖浮动环的整个圆周表面。本专利技术旨在减轻或消除以上所述缺点中的一个或多个。
技术实现思路
本专利技术的一个方面涉及一种密封环。密封环可以包括在密封环的第一外轴向端与密封凸缘之间延伸的一个或多个外部表面。密封凸缘可以邻近密封环的第二外轴向端定位，并且可以从一个或多个外部表面径向向外延伸到密封环的外径。密封凸缘的外部表面可以形成环形密封带。环形密封带可以沿密封环的第二外径向端径向延伸，并且可以邻近密封环的外径定位。倾斜密封斜坡可以由密封环的一个或多个外部表面中的一个或多个形成，并且可以从接近密封环的第一外轴向端的密封斜坡的第一端向外延伸至邻近密封凸缘定位的密封斜坡的第二端。密封斜坡也可以包括邻近密封斜坡的第一端定位的第一表面。第一表面可以被配置成当弹性体密封件处于负载状态时在第一表面与被压缩成与第一表面接触的弹性体密封件之间形成摩擦密封接触界面。本专利技术的另一个方面涉及一种密封组件。该密封组件可包括环形弹性体密封件。密封组件另外可包括密封环，该密封环具有密封凸缘和可在密封环的第一外轴向端与密封凸缘之间延伸的一个或多个外部表面。密封凸缘可以邻近密封环的第二外轴向端定位，并且可以从一个或多个外部表面径向向外延伸到密封环的外径。密封凸缘的外部表面可形成环形密封带，该环形密封带可以沿密封环的第二外轴向端径向延伸并且可以邻近密封环的外径定位。倾斜密封斜坡可由密封环的一个或多个外部表面中的一个或多个形成，并且可以从接近密封环的第一外轴向端的密封斜坡的第一端向外延伸至邻近密封凸缘定位的密封斜坡的第二端。密封斜坡可以包括可邻近密封斜坡的第一端定位的第一表面。第一表面可以配置成当弹性体密封件处于负载状态时在第一表面和被压缩成与第一表面接触的弹性体密封件之间形成摩擦密封接触界面。弹性体密封件可安装在密封斜坡的外部表面中的一个或多个上。本专利技术的又一方面涉及一种密封环。密封环可包括在第一外端和第二外端之间轴向延伸的环形主体。环形主体可以包括可邻近环形主体的第一外端定位的衬圈和可从环形主体的第二外端向外径向延伸至环形主体的外径的密封凸缘。环形主体另外可包括定位在衬圈和密封凸缘之间的倾斜密封斜坡。倾斜密封斜坡可以包括邻近衬圈定位的摩擦外部表面和邻近密封凸缘定位的平滑外部表面。倾斜密封斜坡和衬圈可以具有大体均匀的厚度，该厚度可以在整个环形主体的径向宽度内从环形主体的第一外端延伸至环形主体的第二外端。【附图说明】图1是根据本专利技术的示例性实施例的密封环的剖视图；图2是图1所示的根据本专利技术的示例性实施例的密封环的放大剖视图；图3是根据本专利技术的示例性实施例的密封环的侧视图；图4是根据本专利技术的示例性实施例的密封环的侧视图；图5是根据本专利技术的示例性实施例的密封环的侧视图；图6是根据本专利技术的示例性实施例的密封组件的剖视图；以及图7是根据本专利技术的示例性实施例的密封旋转组件的图解剖视图。【具体实施方式】本专利技术涉及一种具有摩擦负载表面的密封环，该密封环可以适用于任何配置、组件、机器和/或可以使用本文中所公开类型的密封环的应用。具体地，至少一个实施例公开了具有摩擦负载表面的密封环，并且本专利技术的至少一个附加实施例公开了可包括具有摩擦负载表面的密封环和弹性体密封件的密封组件。至少另一个实施例公开了一种密封旋转组件，该密封旋转组件可以部分地形成机器系统或机器的部件并可以包括一个或多个密封组件，一个或多个密封组件可各自包括具有摩擦负载表面的密封环和弹性体密封件。现在将详细参考附图所例示的示例性实施例。在任何可能的情况下，在所有附图中将使用相同的附图标号来指示相同或类似的部件。图1示出具有摩擦负载表面12的密封环10的示例性实施例。如图1所示的示例性实施例所示，密封环10可由环形密封环主体14形成，该环形密封环主体14具有贯穿密封环10的径向圆周的基本上均匀的横截面轮廓16，其中密封环主体14的横截面轮廓16围绕中心纵向轴线18以恒定的径向偏移距离延伸，从而将密封环10限定为具有轴向地设置成从其中穿过的中心开口 20的圆形、环形密封环主体14。密封环主体14的横截面轮廓16可以在第一外轴向端22和第二外轴向端24之间延伸，以限定密封环10的总体轴向宽度26。另外，密封环主体14的横截面轮廓16可具有在密封环10的中心纵向轴线18最近侧的内径向端30与密封环10的中心纵向轴线18最远侧的外径向端32之间延伸的总体径向长度28。如此，内径向端30可限定密封环10的内径34，并且外径向端32可限定密封环10的外径36。密封环主体14可被限定为基本上实心的单一主体，其可以包括大体轴向延伸部分38和大体径向延伸部分40。在一个实施例中，大体轴向延伸部分38从密封环主体14的第一外轴向端22延伸到大体径向延伸部分40，大体径向延伸部分40沿密封环主体14的第二外轴向端24和/或邻近所述第二外轴向端24从大体轴向延伸部分38向外延伸，以限定密封凸缘42。大体轴向延伸部分38可包括在密封环10的中心纵向轴线18近侧、面向该中心纵向轴线18和/或朝该中心纵向轴线18大体定向的一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种密封环(10)，其包括：一个或多个外部表面(50)，所述一个或多个外部表面(50)在所述密封环(10)的第一外轴向端(22)与密封凸缘(42)之间延伸，所述密封凸缘(42)邻近所述密封环(10)的第二外轴向端(24)定位并且从所述一个或多个外部表面(50)径向向外延伸至所述密封环(10)的外径(36)；所述密封凸缘(42)的外表面，所述密封凸缘(42)的外表面形成环形密封带(80)，所述环形密封带(80)沿所述密封环(10)的第二外轴向端(24)径向延伸并且邻近所述密封环(10)的所述外径(36)定位；倾斜密封斜坡(60)，所述倾斜密封斜坡(60)由所述密封环(10)的所述一个或多个外部表面(50)中的一个或多个形成，所述密封斜坡(60)从接近所述密封环(10)的所述第一外轴向端(22)的所述密封斜坡(60)的第一端(66)向外延伸至邻近所述密封凸缘(42)定位的所述密封斜坡(60)的第二端(68)；以及所述密封斜坡(60)包括邻近所述密封斜坡(60)的所述第一端(66)定位的第一表面(12)，所述第一表面(12)被配置成当所述弹性体密封件(124)处于负载状态时在所述第一表面(12)和被压缩成与所述倾斜密封斜坡(60)接触的弹性体密封件(124)之间形成摩擦密封接触界面。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：D·B·安托万，
申请(专利权)人：卡特彼勒公司，
类型：发明
国别省市：美国;US