光场显示控制方法和装置、光场显示设备制造方法及图纸

本申请实施例公开了一种光场显示控制方法和装置以及一种光场显示设备，其中一种光场显示控制方法包括：调整光场显示设备的显示器的显示像素密度分布；根据调整后的所述显示器显示像素的实际位置信息对光场图像进行采样处理；经调整后的所述光场显示设备显示采样处理后的所述光场图像。本申请实施例提供的技术方案，可充分利用光场显示设备的显示器的像素来呈现光场显示图像不同区域的差异化的空间分辨率。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及光场显示
，特别是涉及一种光场显示控制方法和装置以及一种光场显示设备。
技术介绍
光场显示技术早在20世纪初被提出，两种具有代表性的实现方式为：1908年Lippmann基于子透镜(Lenslet)阵列的实现方式以及1903年Ives基于平行光栅(Parallax Barriers)的实现方式。近年来，伴随着消费级电子产品对显示设备的多样化需求，光场显示技术被运用到不同的场景和设备中，例如：3D显示器、可穿戴式设备、视力矫正的光场显示器等。目前，电子设备的计算能力、显示分辨率以及光场显示技术对硬件资源需求的逐渐匹配，为光场显示技术的推广应用提供了良好的支持。光场显示技术可通过传统光场显示技术类似的硬件结构，实现相对灵活的显示效果，例如：光场3D显示、光场投影显示、穿戴式设备上的光场近眼显示、光场显示的视力纠正，等等，然而实现上述灵活显示特性的代价是牺牲显示分辨率，也就是说，基于相同显示像素条件下，采用光场显示技术显示的图像的空间分辨率相比传统图像的空间分辨率低，如何改善光场显示图像的空间分辨率问题，成为业内的研究热点。
技术实现思路
在下文中给出了关于本申请的简要概述，以便提供关于本申请的某些方面的基本理解。应当理解，这个概述并不是关于本申请的穷举性概述。它并不是意图确定本申请的关键或重要部分，也不是意图限定本申请的范围。其目的仅仅是以简化的形式给出某些概念，以此作为稍后论述的更详细描述的前序。本申请提供一种光场显示控制方法和装置以及一种光场显示设备。一方面，本申请实施例提供了一种光场显示控制方法，包括：调整光场显示设备的显示器的显示像素密度分布；根据调整后的所述显示器显示像素的实际位置信息对光场图像进行采样处理；经调整后的所述光场显示设备显示采样处理后的所述光场图像。结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，所述光场显示控制方法还包括：对图像进行预处理以得到与所述图像对应的所述光场图像。结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，对所述图像进行预处理以得到与所述图像对应的光场图像，包括：根据用户的视力信息对所述图像进行预处理以得到所述光场图像。结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，所述光场显示控制方法还包括：获取所述用户的视力信息。结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，调整所述光场显示设备的所述显示器的显示像素密度分布，包括：确定目标像素密度分布信息；根据所述目标像素密度分布信息调整所述显示器的显示像素密度分布，以使调整后的所述显示器中至少两个显示区域的显示像素密度不同。结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，确定所述目标像素密度分布信息，包括：确定所述图像的第一区；确定所述光场图像中与所述第一区对应的光场子图像信息；确定所述显示器中影响所述光场子图像信息显示的第一显示区域；根据所述第一显示区域确定所述目标像素密度分布信息，其中，所述目标像素密度分布信息中，对应所述第一显示区域的目标像素密度异于对应第二显示区域的目标像素密度，所述第二显示区域为所述显示器除所述第一显示区域之外的其他至少部分显示区域。结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，确定所述目标像素密度分布信息，包括：确定所述图像的第一区；根据所述第一区的像素相对所述图像的一参考点的相对位置信息，确定所述显示器的第一显示区域；根据所述第一显示区域确定所述目标像素密度分布信息，其中，所述目标像素密度分布信息中，对应所述第一显示区域的目标像素密度异于对应第二显示区域的目标像素密度，所述第二显示区域为所述显示器除所述第一显示区域之外的其他至少部分显示区域。结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，所述显示器包括与所述光场显示设备的子透镜阵列中各子透镜分别对应的显示区域，所述第一显示区域分布在至少一个所述显示区域。结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，所述第一显示区域分布在至少二个所述显示区域。结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，确定所述图像的第一区，包括：获取感兴趣区信息；根据所述感兴趣区信息确定所述图像的所述第一区。结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，确定所述图像的第一区，包括：对所述图像进行图像分析；根据所述图像分析的结果确定所述图像的所述第一区。结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，根据所述目标像素密度分布信息调整所述显示器的显示像素密度分布，包括：根据所述目标像素密度分布信息确定可控变形材料部的形变控制信息；根据所述形变控制信息控制所述可控变形材料部发生形变，以通过所述可控变形材料部的形变相应调整所述显示器的显示像素密度分布。结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，所述可控变形材料部至少由以下一种或多种可控变形材料制备而成：压电材料、电活性聚合物、光致形变材料、磁致伸缩材料。结合本申请实施例一方面提供的任一种光场显示控制方法，可选的，所述光场显示控制方法还包括：在经调整后的所述光场显示设备显示采样处理后的所述光场图像期间，对所述显示器不同显示区域的显示亮度进行均衡控制。另一方面，本申请实施例还提供了一种光场显示控制装置，包括：一显示像素密度分布调整模块，用于调整光场显示设备的显示器的显示像素密度分布；一图像采样处理模块，用于根据调整后的所述显示器显示像素的实际位置信息对光场图像进行采样处理；一光场显示控制模块，用于经调整后的所述光场显示设备显示采样处理后的所述光场图像。结合本申请实施例另一方面提供的任一种光场显示控制装置，可选的，所述光场显示控制装置还包括：一图像预处理模块，用于对图像进行预处理以得到与所述图像对应的光场图像；结合本申请实施例另一方面提供的任一种光场显示控制装置，可选的，所述图像预处理模块包括：一图像预处理子模块，用于根据用户的视力信息对所述图像进行预处理以得到所述光场图像。结合本申请实施例另一方面提供的任一种光场显示控制装置，可选的，所述光场显示控制装置还包括：一视力信息获取模块，用于获取所述用户的视力信息。结合本申请实施例另一方面提供的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光场显示控制方法，其特征在于，包括：调整光场显示设备的显示器的显示像素密度分布；根据调整后的所述显示器显示像素的实际位置信息对光场图像进行采样处理；经调整后的所述光场显示设备显示采样处理后的所述光场图像。

【技术特征摘要】
2014.11.26 CN 20141069398081.一种光场显示控制方法，其特征在于，包括：
调整光场显示设备的显示器的显示像素密度分布；
根据调整后的所述显示器显示像素的实际位置信息对光场图像
进行采样处理；
经调整后的所述光场显示设备显示采样处理后的所述光场图像。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：
对图像进行预处理以得到与所述图像对应的所述光场图像。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，对所述图像进行
预处理以得到与所述图像对应的光场图像，包括：
根据用户的视力信息对所述图像进行预处理以得到所述光场图
像。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，还包括：获取所
述用户的视力信息。
5.根据权利要求1-4任一所述的方法，其特征在于，调整所述
光场显示设备的所述显示器的显示像素密度分布，包括：
确定目标像素密度分布信息；
根据所述目标像素密度分布信息调整所述显示器的显示像素密
度分布，以使调整后的所述显示器中至少两个显示区域的显示像素密
度不同。
6.一种光场显示控制装置，其特征在于，包括：
一显示像素密度分布调整模块，用于调...

【专利技术属性】
技术研发人员：周梁，杜琳，
申请(专利权)人：北京智谷技术服务有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11