本发明抑制产生对接触部件的供电不均。基板支架具备：框状的支承机构，其构成为被多个支柱悬挂保持，并对基板的被镀覆面的外周部进行支承；背板组件，其构成为配置于基板的被镀覆面的背面侧，并与支承机构一起夹持基板；接触部件(468)，其配置于支承...

提供一种显示系统，包括：旋转机械装置(10)，其包括旋转机械(11)及使旋转机械旋转的驱动机械(12)；显示装置(20)，其能够显示旋转机械装置的状态；探测部(13)，其获取表示旋转机械装置的状态的多个状态量；以及显示控制部(26)，其...

本发明提供一种用来抑制清洗构件的磨耗、或未预期的污物的产生的基板支撑机构、基板清洗装置及基板处理方法。本发明的基板支撑机构(100)包括：第一支撑部(110)，能够自由摇动，包括在闭合状态下能够与基板(W)的其中一面的周缘接触的接触区域...

本发明是监视清洗部件的污染程度的基板清洗装置、基板处理装置、基板清洗部件的污染程度判定方法、能够对附着于基板的微粒数进行推定的基板清洗装置、基板处理装置以及附着于基板的微粒数的推定方法。该基板清洗装置具备：保持基板的基板保持部；与被保持...

传感器认证登录系统具有：多个传感器，其检测感测对象设备的状态量；和设定设备，其将多个传感器的设置信息个别地储存。对无线通信中的电波的强度进行测定的电波强度测定部设于传感器和设定设备中的至少一方。设定设备当检测到存在设置信息未被储存的传感...

本发明提供用于兼具执行基板的清洗和抑制镀覆槽内的镀覆液气氛释放至镀覆模块内的技术。镀覆模块包括：镀覆槽(410)，构成为收容镀覆液；基板保持器，构成为保持被镀覆面朝向下方的基板(Wf)；升降机构，构成为使基板保持器升降；罩部件(460)...

本发明涉及镀覆装置以及气泡除去方法。本发明提供一种能够将滞留在电阻体的气泡除去的技术。镀覆装置(1000)具备：镀覆槽(10)，存积镀覆液(Ps)，并且在内部配置有电阻体(12)；基板保持件(30)，配置于比电阻体靠上方的位置，并保持虚...

提供一种即使向切削件施加大的机械负载也不担心破损的对切削件激发超声波振动的超声波切削装置。超声波切削装置具备旋转轴(1)、能够装卸地安装于旋转轴(1)的圆筒法兰(3)、从圆筒法兰(3)向径向外侧扩展的圆盘状切削件(5)以及能够装卸地安装...

本发明提供一种提高形成于基板的镀膜厚度的均匀性的镀覆装置。镀覆模块（400）包含：用于收纳镀覆液的镀覆槽（410）；用于保持基板（Wf）的基板支架（440）；收纳于镀覆槽（410）内的阳极（430）；配置于被基板支架（440）保持的基板...

本发明提供一种研磨装置及研磨方法，可不使基板产生划痕等缺陷及污染而以所需的研磨性能研磨基板。研磨装置包括：研磨台，用于支撑研磨垫；研磨头，将基板按压于研磨垫的研磨面而研磨基板；垫温度测定器，测定研磨面的温度；垫温度调整装置，调整研磨面的...

本发明关于研磨晶片等基板的研磨方法及研磨装置。此外，本发明关于记录有用于使研磨装置执行研磨方法的程序的计算机可读取记录介质。本方法使研磨台(3)旋转，并将基板(W)按压于研磨面(2a)来研磨基板(W)。研磨基板(W)的工序包含膜厚轮廓调...

本发明提供一种能够去除附着于离子电阻器的孔的气泡的技术。镀覆方法包括：在将阳极和离子电阻器浸渍于镀覆液的状态下，通过驱动配置于比离子电阻器靠上方的位置的搅棒来搅拌镀覆液(步骤S20)；在停止了搅棒对镀覆液的搅拌的状态下，使作为阴极的基板...

本发明涉及镀覆装置以及镀覆装置的气泡除去方法。本发明提供一种能够抑制因滞留在基板的被镀覆面的气泡而导致基板的镀覆品质变差的技术。镀覆装置(1000)具备：镀覆槽(10)，存积镀覆液，并且在内部配置有阳极(11)；基板保持件(30)，配置...

本发明涉及镀覆装置，本发明提供一种能够抑制由旋转机构的轴承产生的颗粒侵入镀覆槽的技术。镀覆装置(1000)具备迷宫式密封部件(50)，迷宫式密封部件具有：内侧迷宫式密封件(53)，配置于比轴承(33)靠下方的位置，且密封轴承；外侧迷宫式...

提供一种顺畅地进行镀覆液向被镀覆面的接触并且能够抑制气泡残留于被镀覆面的镀覆装置。镀覆装置的基板保持器具有：头部模块，用于与基板接触来进行保持；倾斜模块，构成为使头部模块倾斜；以及升降模块，构成为使头部模块升降。倾斜模块具有：第一部件；...

本发明提供一种膜厚推定模型的创建方法、膜厚推定方法及存储介质，该模型能够降低来自晶片等工件的反射光的谱图的偏差的影响，并决定准确的膜厚。本方法包括下述的工序：决定分别表示来自具有膜的样本的反射光的多个样本谱图的特征的多个样本特征量，通过...

提供一种真空泵装置，其能够防止由热传导造成的泵壳体的温度降低，将转子室的内部维持在高温度。配置在泵壳体(2)与电机壳(14)之间的侧罩(10A)具有形成转子室(1)的端面的内侧壁部(31)、与内侧壁部(31)相比位于外侧的外侧壁部(32...

本发明提供一种在测定研磨中的基板的膜厚时，能够不使光的透过率降低地以较高精度进行测定的基板研磨装置和基板研磨方法。基板研磨装置(1)具备载物台(10)、保持研磨垫(22)的研磨头(21)、研磨液供给喷嘴(28)、膜厚测定头(31)、光谱...

将砂轮的更换作业的至少一部分自动化。处理系统具有：研磨机，其以能够装拆的方式安装有对处理对象物的表面进行处理的处理部；机械手，其安装有研磨机，构成为将安装于研磨机的处理部按压到处理对象物；处理部更换装置，其用于更换研磨机的处理部；和控制...

本发明的目的之一在于提供抑制基板的种层劣化的技术。本发明的镀覆方法包括：在基板保持架保持基板的工序，在该工序中，在上述基板保持架保持了上述基板的状态下，形成保护向上述基板供电的接点不受镀覆液影响的密封空间，在上述密封空间内利用液体局部覆...