本发明提供在含有砂土等异物的水(浆料)中运转时的耐浆料磨损性能优异的滑动轴承及具备该滑动轴承装置的泵。滑动轴承由包含芳香族聚醚酮、聚苯并咪唑、氮化硼、碳纤维石墨及不可避免的杂质的树脂组合物形成，相对所述树脂组合物而言，所述聚苯并咪唑的含...

提供能够及早检测导电性粉体的熔融物的附着的喷镀装置、熔融附着物的检测方法及在附着了熔融物的情况下也能够缩短喷镀装置的维修时间的喷镀装置用电极。喷镀装置具备第一电极和第二电极，通过在所述第一电极与所述第二电极之间产生的等离子体喷镀导电性粉...

本发明关于一种清洗半导体晶片等基板的基板清洗装置及基板清洗方法，特别是关于清洗基板的周缘部的基板清洗装置及基板清洗方法。基板清洗装置(1)具备：保持基板(W)并使其旋转的基板保持部(10)；具有内部空间(R)并使清洁带(19)抵靠于基板...

提供一种能够从转子室良好地排出气体中含有的粉体的真空泵。真空泵(1)具备：在内部具有转子室(5)的泵壳体(6)；配置于转子室(5)内的一对罗茨转子(8)；及支承一对罗茨转子(8)的一对旋转轴(9)。泵壳体(6)具有与转子室(5)连通的气...

本发明涉及用于防止潜没式泵的空转的技术，该潜没式泵使用于移送液氨、液氢、液氮、液化天然气、液化乙烯气体、液化石油气等液化气体的用途。流路切换装置(5)具备：流路构造体(45)，其具有第1流路(41)、第2流路(42)以及第3流路(43)...

本发明提供一种清洗能力更高的基板清洗方法以及基板清洗装置。本发明提供一种基板清洗方法，包括：第一步骤，对基板的下表面供给药液；以及第二步骤，随后，对所述基板的下表面供给含气泡液体。给含气泡液体。给含气泡液体。

本发明提供一种能够去除附着于离子电阻器的孔的气泡的技术。镀覆方法包括：在将阳极和离子电阻器浸渍于镀覆液的状态下，通过驱动配置于比离子电阻器靠上方的位置的搅棒来搅拌镀覆液(步骤S20)；在停止了搅棒对镀覆液的搅拌的状态下，使作为阴极的基板...

基板处理装置，具备：研磨部，研磨部对基板进行研磨；搬运部，搬运部将研磨前的基板向所述研磨部搬运；以及清洗部，清洗部清洗研磨后的基板。清洗部具有上下两层配置的第一清洗单元及第二清洗单元。第一清洗单元及第二清洗单元分别具有直线排列地配置的多...

一种用于将清洗药液供给至清洗装置的清洗药液供给装置，具备：药液入口部及稀释水入口部；流体地连接于所述药液入口部及所述稀释水入口部的第一药液控制部；及流体地连接于所述药液入口部及所述稀释水入口部的第二药液控制部，所述第一药液控制部具有第一...

本发明提供一种可防止在基板的表面发生光腐蚀的基板搬送方法、基板处理装置、及记录介质。基板搬送方法是将基板搬入至接收单元，检测出从光传感器(302)照射的光被搬送至接收单元的基板遮断，来确认基板存在于接收单元，并且在将基板从接收单元搬出之...

本发明提供一种当基板与保持构件碰撞时，减轻对于保持构件的安装机构的风险的构造。一种实施方式提供一种用于保持多边形基板的头，该头具有：基板支承面，该基板支承面的形状对应于多边形基板的形状；保持构件，该保持构件配置于基板支承面的各边外侧；及...

本发明提出一种能够使形成于基板的镀膜的均匀性提高的镀覆装置。镀覆装置具有：第一电位传感器，配置在保持于基板保持架的基板与阳极之间的区域内的第一位置；第二电位传感器，配置在保持于上述基板保持架的基板与上述阳极之间的区域外的第二位置；以及第...

实现能够以简单的构造使基板的清洗力提高的清洗组件及基板处理装置。清洗组件包含：第一搬送机构(210

本发明提供镀覆装置。在镀覆处理中实时且正确地掌握镀覆膜厚。镀覆装置具备：镀覆槽，其用于收容镀覆液；基板支架，其用于保持基板；阳极，其以与被上述基板支架保持的上述基板对置的方式配置在上述镀覆槽内；电位传感器，其构成为配置于被上述基板支架保...

本发明提供一种用于识别对镀覆装置的生产率进行限制的要素的方法以及计算机程序。课题在于识别对镀覆装置的生产率进行限制的要素。提供一种识别对镀覆装置的生产率进行限制的要素的方法。方法包括如下步骤：制作时序图，该时序图表示上述多个处理单元以及...

本发明提供一种能够抑制基板的外周缘的膜厚变得不均匀的技术。镀覆装置(1)具备镀覆槽、阳极、基板保持件、至少一个辅助阳极(60a～60d)、具有供给电的供电部位(62)、和与至少一个辅助阳极连接并且在该辅助阳极的延伸方向上排列的多个连接部...

本发明高效清洗基板。镀覆模块(400)包括：镀覆槽(410)，构成为收容镀覆液；基板保持器(440)，构成为保持被镀覆面(Wf

本发明提供一种研磨装置及研磨方法，能够防止设置于研磨垫的透明窗的内表面上的结露，并能够测定准确的膜厚。研磨装置具备：研磨垫(2)，该研磨垫具有研磨面(2a)；研磨头(1)，该研磨头用于将工件(W)按压于研磨面(2a)；透明窗(33)，该...

本发明提供一种研磨装置及研磨方法，能够防止设置于研磨垫的透明窗的内表面上的结露，并能够测定准确的膜厚。研磨装置具备：研磨垫(2)，该研磨垫具有研磨面(2a)；研磨头(1)，该研磨头用于将工件(W)按压于研磨面(2a)；透明窗(33)，该...

本发明提供一种在工件的研磨后使研磨头上升的方法、研磨装置及计算机可读取的记录介质，在工件的研磨结束后使研磨头从研磨垫上升时，能够防止工件因与保持环的接触而弯曲，能够防止在工件产生过度的应力。本方法一边使研磨头(7)及研磨垫(2)旋转一边...