苏州柯创电子材料有限公司专利技术

苏州柯创电子材料有限公司共有74项专利

  • 金属化薄膜电容的制造工艺
    本发明公开一种金属化薄膜电容的制造工艺,包括以下步骤:S1,薄膜电容金属化:聚丙烯薄膜为基膜,真空蒸镀方式将锌铝附着在聚丙烯薄膜表面形成电极;S2,包裹:在金属层和聚丙烯薄膜中间的留边位置,通过真空热压的方式,包裹一层绝缘材料形成绝缘层...
  • 本发明提供一种改进的高强度耐刮擦聚丙烯材料,其包括如下重量份材料:聚丙烯55~65份;聚对苯二甲酸乙二醇酯5~15份;POE‑g‑MAH 5~10份;茂金属聚乙烯5~10份;碳酸钙10~15份;铝酸酯偶联剂1~2份;邻苯二甲酸二辛酯1~...
  • 本发明公开了一种适用于高压蒸汽环境的绝缘薄膜,其由以下质量百分含量的材料组成:对苯二甲酸45%~65%;乙二醇25%~45%;1,4‑环己烷二甲醇1%~5%;间苯二甲酸5%~7%;丙三醇0.1%~3%;聚氧化丙烯三醇0.1%~2%;2,...
  • 一种聚氨酯改性单面胶带及其制备工艺
    本发明提供了一种聚氨酯改性单面胶带,其包括,基膜层,呈片层膜状结构;印刷层,为涂覆于所述基膜层上的油墨;粘结层,粘附于所述印刷层上,所述粘结层包括两层结构:第一层为粘附于所述印刷层表面的增粘胶膜,所述增粘胶膜为内包含有硬脂酸改性氢氧化镁...
  • 本发明公开了一种阻燃聚酯胶带基材,包括如下组分:聚酯切片;分散剂;热稳定剂;氢氧化镁;纳米氧化锌;功能助剂;所述功能助剂为微胶囊结构,微胶囊结构的粒径范围为10~100μm,壁材和芯层的厚度比为1:18~1:22,芯层为复合粉,壁材为聚...
  • 本发明公开一种X光片用保护板,包括以下重量份数的组分:PE料粒:50‑65份;炭黑:70‑80份;分散剂:12‑15份;无机粒子:9‑12份:抗氧化剂:12‑15份;抗紫外剂:5‑10份。本发明提供一种X光片用保护板,将多个X光片间隔后...
  • 本发明公开了一种高阻隔抗紫外聚酯胶带基材,包括以下组分:聚酯切片;分散剂;热稳定剂;二氧化硅;纳米氧化锌及功能助剂;所述功能助剂为微胶囊结构,微胶囊结构的粒径范围为10~100μm,壁材和芯层的厚度比为1:16~1:20,芯层为复合粉,...
  • 本发明公开了一种改性有机硅离型膜,包括一层聚酯薄膜和涂布在聚酯薄膜的至少一侧表面上的改性有机硅隔离剂,所述改性有机硅隔离剂是核壳式结构,通过种子乳液聚合法改性制得。本发明的离型膜的表面张力为30mN/m,由未改性有机硅的19mN/m升高...
  • 一种带保护膜单面胶带及其制备工艺
    本发明提供了一种带保护膜单面胶带,其包括,基膜层,呈片层膜状结构;印刷层,为涂覆于所述基膜层上的油墨;粘结层,粘附于所述印刷层上,所述粘结层包括两层结构:第一层为粘附于所述印刷层表面的增粘胶膜,所述增粘胶膜为内包含有硬脂酸改性氢氧化镁的...
  • 本发明公开了一种光学膜用管材,包括如下组分:ABS、PVC、工程塑料、甲基三乙氧基硅烷、甲基丙烯酸甲酯、稳定剂、增容剂、润滑剂、纳米材料、抗冲改性剂、交联剂以及抗氧剂。本发明提供的一种光学膜用管材,该管材具有较好的物理、机械综合性能,其...
  • 本发明公开了一种耐受冲击强度高的绝缘板,其由以下质量百分含量的材料组成:环氧树脂40%~60%;间氨基甲胺14%~18%;邻甲苯基缩水甘油醚8%~21%;三乙醇胺1%~3%;碳酸钙6%~15%;乙二醇锑5%~16%;钛酸四丁酯0.5%~...
  • 本发明提供一种光学膜传送带,其为双层结构,具体包括,下层,呈层状结构,所述下层主成分为PET树脂或PP树脂;上层,呈层状结构,所述上层主成分采用PVC树脂;其中,所述下层与所述上层相对的表面上粘结有胶层或涂覆有胶液,所述下层与所述上层通...
  • 本发明公开一种金属化薄膜电容的封装材料,包括防水绝缘层和粘合层,防水绝缘层包括一下重量份数的原料制成:石英砂5‑9份、氧化铝24‑30份、聚烯丙胺树脂24‑30份、氧化镁5‑10份、纳米级二氧化硅3‑9份、酸酐20‑26份、阻燃剂10‑...
  • 本发明提供一种具有高性能双层PET薄膜,其包括PET基材及涂覆于PET基材上的防刮耐磨层,其中防刮耐磨层包括:环氧丙烯酸酯30~50wt%;聚醚丙烯酸酯2~8wt%;三羟甲基丙烷三丙烯酸酯30~40wt%;新戊二醇二乙氧基双丙烯酸酯10...
  • 本发明公开了一种共聚酯电子绝缘垫块,其由以下质量百分含量的材料组成:原料配方由以下质量百分含量的材料组成:对苯二甲酸50%~70%;乙二醇20%~40%;1,4‑环己烷二甲醇1%~3%;聚氧化丙烯三醇0.2%~2%;季戊四醇0.2%~2...
  • 本发明涉及一种具有高绝缘性能的保护膜,其包括以下重量份的材料:聚乙烯100重量份;聚酰亚胺30~32重量份;氮化硅10~12重量份;二月桂酸二丁基锡2~3重量份;其中,所述聚乙烯的数均分子量为20000~22000g/mol,所述聚酰亚...
  • 一种高强度胶带及其制备工艺
    本发明提供了一种高强度胶带,其包括,基膜层,膜层厚度为2±1μm~15±1μm;印刷层,膜层厚度为0.5±1μm~6±1μm;粘结层,所述粘结层包括两层结构:第一层为粘附于所述印刷层表面的增粘胶膜;第二层为涂于所述第一层表面的含氢氧化镁...
  • 本发明公开了一种二氧化硅均匀分散的超薄型PI膜的制备方法,包括如下步骤:SiO2类流体的制备、SiO2的表面改性、聚酰胺酸的制备和PI膜的制备。本发明通过对SiO2进行类流体技术改性和聚乙二醇改性,通过高速分散与循环砂磨处理将纳米的Si...
  • 本发明公开了一种复合层聚酯薄膜,其结构具有ABC型三层复合结构,其中所述A层为上表层,是PTT/PET聚酯层,由PTT切片和PET切片共混熔融挤出,所述B层为芯层,包括如下组分:50%~70%的PET切片,30%~50%的PET在造粒;...
  • 本发明提供了一种加工性能优良的PET反射膜,其包括:对苯二甲酸30~40wt%;乙二醇10~15wt%;间苯二甲酸10~15wt%;1,6‑己二醇2~4wt%;聚乙二醇3~8wt%;BaSO4 15~25wt%;ZnO 5~15wt%。...