玻璃偏振器以及该偏振器的制造方法，该偏振器由含有限量的ＺｒＯ↓［２］和ＴｉＯ↓［２］的Ｒ↓［２］Ｏ－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］－Ｂ↓［２］Ｏ↓［３］－ＳｉＯ↓［２］玻璃制成，且具有的卤化银液相温度和金红石液相温度均不超过９９５℃。

经激光束辐照后，与低铝熔凝石英玻璃器件相比，内透光率提高了，吸光变化降低了的熔凝石英玻璃器件。该器件经激光束辐照后还呈现诱导透光率。

本发明公开了含铝至少５０ｐｐｂ的熔凝石英玻璃器件，含铝量达此水平的熔凝石英玻璃经激光光束辐照，与低铝熔凝氧化硅器件相比内透光率提高，并吸光变化降低。

熔凝石英玻璃器件经激光束辐照，与低铝熔凝石英玻璃器件相比内透射率提高了，吸光变化降低了。该器件还呈现激光束辐照时诱发透光率。还具有提高了的轴外折射率均匀性。

本发明揭示了一种制备玻璃材料的方法：混合除气性材料，熔融，使其除气，形成玻璃料，然后将玻璃料与基本上非除气性材料混合，熔融形成玻璃。由于玻璃料已经过除气，因此在最终的玻璃熔融步骤中产生较少气体，从而减少了起泡和浮渣形成。结果，玻璃熔炉中...

一种用于化学处理和制造的微结构，它包括许多限定了至少一个用于容纳要处理的化学物质的微通道的微通道壁，至少一层粘附在许多限定了所述至少一个微通道的微通道壁上的涂层，所述涂层包括催化剂载体和催化剂，其特征在于，所述许多微通道壁包含选自玻璃、...

一种制造精密光学元件的方法，所述方法包括：　　　　ａ）提供玻璃化转变温度（Ｔ↓［ｇ］）约为５５０℃的非氧化物玻璃；　　　　ｂ）提供模具，所述模具具有活性表面，所述表面具有光学抛光面，可在施涂保护涂层或不施涂保护涂层的条件下使用，其中，所...

一种用于玻璃或玻璃陶瓷反应器（１００）的气密接口组件（１０），该组件包括一有一金属孔（１２０）的金属连接件（１２）和一有一玻璃孔（１３０）的玻璃件（１３）。玻璃件（１３）设置在金属孔（１２０）内，金属连接件（１２）具有比玻璃件（１３）高...

一种层叠片材，包括具有火抛光质量光学表面的表层和模数高于表层、用于提高该层叠片材总体刚度或断裂韧度的芯层。

公开一种具有芯的光纤，该芯的碱金属氧化物掺杂剂峰值浓度大于约０．００２重量％，但小于约０．１重量％。碱金属氧化物浓度随光纤半径变化。通过适当选择芯和包层中的碱金属氧化物掺杂剂氧化硅的浓度，能获得低损失的光纤。还公开几种制造光纤的方法，包...

一类源自ＳｉＯ↓［２］－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］－Ｐ↓［２］Ｏ↓［５］三元体系的玻璃，所述玻璃具有高应变点，透明度和低热膨胀系数。以批料中氧化物的摩尔量为基准计，该组合物的组成如下：５５－８０摩尔％ＳｉＯ↓［２］，１２－３０摩尔％Ａｌ↓［...

揭示了一种合成二氧化硅玻璃光学材料，这种材料对紫外波长区、具体来说是波长小于约２５０纳米的紫外辐照造成的光学损害具有很高的耐受性，具体来说是具有很低的激光引发的波前畸变；具体来说，当其受到约１９３纳米、能量密度约７０微焦／厘米↑［２］的...

本发明提供光纤涂层体系和涂布光纤。依据本发明的一个实施方式，涂布光纤包括：具有纤芯和包层的光纤；包封所述光纤的底涂层，所述底涂层的杨氏模量约等于或小于５ＭＰａ，所述底涂层是在紫外强度为３．４ｍＷ／ｃｍ↑［２］时胶凝时间约小于１．４秒的可...

一种陶瓷体，其包含５０－９５重量％的钛酸铝晶相和５－５０重量％的玻璃相。本发明的陶瓷体可包含最高４０重量％的次要晶相，例如富铝红柱石。所述玻璃是铝硅酸盐，以氧化物重量百分数为基准计，其包含５０－９０重量％的ＳｉＯ↓［２］，１－２５重量％...

本发明提供适于用作光纤二次涂层或者拼接光纤接头再涂层的材料。至于后一用途，所述涂布材料的特征较好在于杨氏模量至少约为１２００ＭＰａ，通过棒管法测定的界面强度大于２５ＭＰａ。

揭示了一种可用来密封发光器件的玻璃料组合物。所述玻璃料组合物包含玻璃部分，所述玻璃部分包含基本组分和至少一种吸收组分。所述玻璃料的玻璃部分包含二氧化硅、氧化硼、任选的氧化铝，以及（ａ）氧化铜和／或（ｂ）氧化铁，五氧化二钒和任选的二氧化钛...

揭示一种能用于制造平板显示器，如有源矩阵液晶显示器（ＡＭＬＣＤ）的基板的玻璃。该玻璃的ＭｇＯ浓度在１．０－３．０摩尔％范围，∑［ＲＯ］／［Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］］比值大于或等于１．００，其中，［Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］］是Ａｌ↓［２］Ｏ↓...

一类源自硅铝酸稀土金属盐（ＲＥ↓［２］Ｏ↓［３］－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］－ＳｉＯ↓［２］）三元体系的玻璃，所述玻璃具有高的应变点和低的液相线温度。优选为Ｌａ↓［２］Ｏ↓［３］－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］－ＳｉＯ↓［２］三元体系。该玻璃是电子...

一种刻痕平板玻璃的方法，包括移动光学组件，其适应于引导源自辐射源的电磁辐射。该方法也包括使电磁辐射照射到玻璃板上，在玻璃板上形成细长的加热区域，其中从辐射源到玻璃板的距离在移动过程中是基本恒定的。本文也描述了一种装置。

本发明涉及可用于制备玻璃料的玻璃组合物，该玻璃料适用于制备微型反应器。该玻璃组合物在最终烧结形成微型反应器成品后，具有３０微米或更少的表面晶体层，或全部为完全无定形。通常，本发明硼硅玻璃的组成为：Ｂ↓［２］Ｏ↓［３］＝１２－２２摩尔％；...