本发明公开了一种热处理装置的快速风冷结构，快速风冷结构嵌设于保温层中，包括：环状侧部保温块，设于保温层侧壁处，其圆周设有上下贯通的纵向风道，沿纵向风道侧壁设有连通炉膛的多数个径向风道；环状顶部进风保温块，设于保温层顶部处，并与环状侧部保...

一种具有多级主工艺步骤的热处理设备工艺控制装置和方法，包括加热器、给加热器供电的电力供应单元、测量反应腔室温度的温度测量单元、信号处理单元、包含在电力供应单元中的功率控制单元、专用温度控制器和工艺模块控制器；当工艺流程开始前，工艺模块控...

本实用新型涉及硅片生产领域，提供了一种料架传送机。该料架传送机包括两根平行设置的型材以及分别设置在两根型材上的传送带机构，驱动传送带运作的双输出轴减速机和电机均设置在两根型材之间的中部位置，因此使本装置结构紧凑，占用空间小，而且由于驱动...

本发明提供了一种安全传输硅片的机械手及方法，通过在机械手片叉上设置图像传感器，利用图像传感器获取硅片边缘位置数据，再通过判断器计算出硅片的识别中心位置，然后计算出识别中心位置超出片叉中心的超出范围，并且判断该超出范围是否在片叉中心的安全...

本发明提供了一种硅片安全运输方法，对机械手片叉进行了位姿识别，通过在片叉上设置不在同一直线上的三个或以上的传感器，在基座上设定基准面，在基准面上设定探测点，片叉下表面的传感器探测到每个传感器与探测点的坐标值，再利用这些坐标值建立片叉下表...

本发明公开了一种应用原子层沉积技术制备薄膜的实现方法，通过以抽真空式或变流量式的不同ALD工艺方式，改变反应腔室内的吹扫气体进气量，在腔室内形成气流场的扰动，可有效提高对过剩反应源及反应副产物的吹扫效果，降低薄膜生长周期的工艺时间，提高...

本发明公开了一种具有气体保护的二相流雾化喷射清洗装置及清洗方法，在喷嘴主体内设置带有预设角度的液体导向出口的多路液体分流管路，以及带有垂直气体导向出口的出气网板，使喷射出的高速液体流与高速气体流产生充分地相互作用，形成颗粒尺寸均一、可调...

本发明提供了一种半导体立式炉设备异常恢复的方法，其按照半导体立式炉设备各模块属性层次架构，初始化配置承载器和晶圆信息；在工艺过程中，更新信息存储模块的所有半导体立式炉设备各模块的属性信息，同时关联传输并记录每个模块下属的所有晶圆承载器，...

本发明提供了一种半导体设备的硅片承载装置中硅片的安全放置方法，通过示教数据设置机械手的运动轨迹和位置，利用机械手片叉上的传感器组来探测片叉和硅片之间的距离测量值，根据距离测量值来计算判断硅片所在平面与机械手的片叉所在平面的截交线方程并据...

本发明公开了一种图形晶圆无损伤超声波/兆声波清洗装置，在壳体密封腔内设有上下紧贴的超声波/兆声波发生机构和底部石英部件，底部石英部件包括上下相连的环状石英微共振腔保护圈、由多个垂直棒状石英结构组成的石英微共振腔阵列和具有非水平平面下表面...

本发明提供了一种应用于热处理设备晶圆传输调度的方法，其包括：生成工艺过程所需的晶圆序列映射；根据热处理设备各模块的状态，在优先保证本次任务调度的及时响应的前提下，生成模块优先使用的次序序列；根据所述的模块优先使用的次序序列，仓储机械手模...

本发明公开了一种能量均匀分布的超声波/兆声波清洗装置，在本体内设有超声波/兆声波发生机构和底部石英部件，超声波/兆声波发生机构设有压电材料，底部石英部件设有石英微共振腔阵列，石英微共振腔阵列自本体下端面的开口伸出，可通过石英微共振腔阵列...

本发明公开了一种半导体热处理设备工艺门状态的检测装置，包括上测距传感器和检测单元。所述上测距传感器至少为三个，设于所述工艺门侧面位于所述工艺门上表面下方的同一高度、沿工艺门圆周分布，用于当所述工艺门上升至与所述半导体热处理设备的反应管下...

本发明公开了一种具有防撞功能的传片机械手及其防撞方法，通过在传片机械手上设置振动传感器芯片采集传片机械手的抓手与硅片碰撞时产生的振动频率，能够有效地采集到碰撞产生的微小冲击力，并能及时传递碰撞信号，通过机械手控制器对振动频率数据进行记录...

本发明公开了一种半导体设备的炉体排气装置，包括：水平导流板，设于炉体正上方，并与主机箱体顶部内壁固定；倾斜导流板，相连设于水平导流板一侧，并向下倾斜连接至主机箱体侧壁；第一、第二排气管道，第一排气管道水平设于倾斜导流板下方的主机箱体内，...

本发明公开了一种提高清洗均匀度的图形晶圆无损伤清洗装置，在壳体密封腔内设有上下紧贴的超声波/兆声波发生机构和底部石英部件，底部石英部件包括相连的环状石英微共振腔保护圈和由多个垂直棒状石英结构组成的石英微共振腔阵列，环状石英微共振腔保护圈...

本发明公开了一种半导体清洗设备工作状态的监测系统，包括灯塔和灯塔控制单元。灯塔具有指示灯和蜂鸣器，其根据控制信号输出颜色或声音或颜色和声音的组合。灯塔控制单元与清洗设备的机械手单元、装卸载硅片单元、化学药液传输单元、清洗工艺腔室单元、暂...

本发明公开了一种组合式多频率超声波/兆声波清洗装置，包括本体和超声波/兆声波频率控制单元，本体内设有超声波/兆声波发生机构和底部石英部件，超声波/兆声波发生机构设有若干具有不同固有频率并组合为整体的压电材料，底部石英部件设有石英微共振腔...

本发明公开了一种频率动态变化的超声波/兆声波清洗装置，包括本体和超声波/兆声波频率控制单元，本体内设有超声波/兆声波发生机构和底部石英部件，超声波/兆声波发生机构设有压电材料，压电材料连接本体外的信号源，底部石英部件设有石英微共振腔阵列...

本发明公开了一种晶圆清洗装置和清洗方法，清洗装置包括清洗介质喷淋部分和清洗介质控制部分，清洗介质喷淋部分包括喷嘴、连接喷嘴的可移动喷淋管路，清洗介质控制部分包括与一混合腔室并联的第一、第二管路，混合腔室连接喷淋管路；其中，第一管路在其与...