一种水晶灯挂件玻璃的制作方法技术

本发明专利技术公开了一种水晶灯挂件玻璃的制作方法，其特征在于包括以下步骤：将已成型的水晶灯挂件清洗后，放入磁控溅射托盘，然后送入镀膜机；采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射不锈钢平面靶，在水晶挂件上磁控溅射一SSTOx层；采用氮气作为反应气体，直流电源溅射铬平面靶，在SSTOx层上磁控溅射一氮化铬薄膜层；采用氧气作为反应气体，交流电源溅射锌锡靶，在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锌锡层；采用氧气作为反应气体，交流电源溅射钛靶，在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层。本发明专利技术的目的是为了克服现有技术中的不足之处，提供一种工艺简单，生产出的产品耐磨损或耐腐蚀，能自洁的水晶灯挂件玻璃的制作方法。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了，其特征在于包括以下步骤：将已成型的水晶灯挂件清洗后，放入磁控溅射托盘，然后送入镀膜机；采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射不锈钢平面靶，在水晶挂件上磁控溅射一SSTOx层；采用氮气作为反应气体，直流电源溅射铬平面靶，在SSTOx层上磁控溅射一氮化铬薄膜层；采用氧气作为反应气体，交流电源溅射锌锡靶，在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锌锡层；采用氧气作为反应气体，交流电源溅射钛靶，在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层。本专利技术的目的是为了克服现有技术中的不足之处，提供一种工艺简单，生产出的产品耐磨损或耐腐蚀，能自洁的水晶灯挂件玻璃的制作方法。【专利说明】
本专利技术涉及。
技术介绍
现有的水晶灯挂件玻璃的制作方法工艺复杂，而且生产出的水晶灯挂件玻璃产品在使用过程中容易磨损或腐蚀，而且使用一段时间后，表面会堆积灰尘之类的污垢，使得水晶灯挂件玻璃不再晶莹透彻。影响使用效果。故此，现有的水晶灯挂件玻璃的制作方法有待于进一步完善。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服现有技术中的不足之处，提供一种工艺简单，生产出的产品耐磨损或耐腐蚀，能自洁的水晶灯挂件玻璃的制作方法。为了达到上述目的，本专利技术采用以下方案:，其特征在于包括以下步骤:A、将已成型的水晶灯挂件清洗后，放入磁控溅射托盘，然后送入镀膜机；B、采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射不锈钢平面靶，在水晶挂件上磁控溅射一 SSTOx层；C、采用氮气作为反应气体，直流电源溅射铬平面靶，在SSTOx层上磁控溅射一氮化铬薄膜层；`D、采用氧气作为反应气体，交流电源溅射锌锡靶，在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锋锡层；E、采用氧气作为反应气体，交流电源溅射钛靶，在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层。如上所述的，其特征在于步骤A中水晶灯挂件的清洗具体包括:将成型的水晶灯挂件放在丙酮中超声清洗10分钟后，再用乙醇超声清洗10分钟，最后在去离子水中超声清洗10分钟。如上所述的，其特征在于步骤B中所述SSTOx层的厚度为30~45nm，氩气与氧气的体积比为1:2，溅射功率为75~115KW，分两个阴极溅射。如上所述的，其特征在于步骤C中氮化铬薄膜层的厚度为3~5nm，氩气与氮气的体积比为1:2，直流电源溅射功率3~6KW。如上所述的，其特征在于步骤D中氧化锌锡层的厚度为10~20nm，ZnSn合金旋转靶中Zn与Sn的摩尔比为48:52，氩气与氧气的体积比为1:2，所述交流电源的溅射功率为30~45KW。如上所述的，其特征在于步骤E氧化钛层的厚度为10~20nm，氩气与氧气的体积比为1: 2，所述交流电源的溅射功率为30~45KW。综上所述，本专利技术相对于现有技术其有益效果是:本专利技术工艺简单，加工方便，制作出的水晶灯挂件玻璃耐磨损、耐腐蚀；本专利技术产品利用TiO2的光催化效果来达到自清洁的目的，使用效果好。本专利技术方法制作的水晶灯挂件，呈金黄色，有24K金效果，且透光，具有良好的视觉效果。【具体实施方式】下面结合【具体实施方式】对本专利技术作进一步描述:实施例1 ，包括以下步骤:A、将已成型的水晶灯挂件清洗后，放入磁控溅射托盘，然后送入镀膜机；其中水晶灯挂件的清洗具体包括:将成型的水晶灯挂件放在丙酮中超声清洗10分钟后，再用乙醇超声清洗10分钟，最后在去离子水中超声清洗10分钟；B、采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射不锈钢平面靶，在水晶挂件上磁控溅射一 SSTOx层；其中所述SSTOx层的厚度为30nm，氩气与氧气的体积比为1:2，溅射功率为75KW，分两个阴极溅射；C、采用氮气作为反应气体，直流电源溅射铬平面靶，在SSTOx层上磁控溅射一氮化铬薄膜层；其中氮化铬薄膜层的厚度为3nm，氩气与氮气的体积比为1:2，直流电源溅射功率3KW ；D、采用氧气作为反应气体，交流电源溅射锌锡靶，在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锌锡层；其中氧化锌锡层的厚度为10nm，ZnSn合金旋转靶中Zn与Sn的摩尔比为48:52，氩气与氧气的体积比为1:2，所述交流电源的溅射功率为30KW ；E、采用氧气作为反应气体，交流电源溅射钛靶，在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层；其中氧化钛层的厚度为10nm，氩气与氧气的体积比为1:2，所述交流电源的溅射功率为 30KW。实施例2，包括以下步骤:A、将已成型的水晶灯挂件清洗后，放入磁控溅射托盘，然后送入镀膜机；其中水晶灯挂件的清洗具体包括:将成型的水晶灯挂件放在丙酮中超声清洗10分钟后，再用乙醇超声清洗10分钟，最后在去离子水中超声清洗10分钟；B、采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射不锈钢平面靶，在水晶挂件上磁控溅射一 SSTOx层；其中所述SSTOx层的厚度为45nm，氩气与氧气的体积比为1:2，溅射功率为115KW，分两个阴极溅射；C、采用氮气作为反应气体，直流电源溅射铬平面靶，在SSTOx层上磁控溅射一氮化铬薄膜层；其中氮化铬薄膜层的厚度为5nm，氩气与氮气的体积比为1:2，直流电源溅射功率6KW ；D、采用氧气作为反应气体，交流电源溅射锌锡靶，在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锌锡层；其中氧化锌锡层的厚度为20nm，ZnSn合金旋转靶中Zn与Sn的摩尔比为48:52，氩气与氧气的体积比为1:2，所述交流电源的溅射功率为45KW ；E、采用氧气作为反应气体，交流电源溅射钛靶，在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层；其中氧化钛层的厚度为20nm，氩气与氧气的体积比为1:2，所述交流电源的溅射功率为 45KW。实施例3，包括以下步骤:A、将已成型的水晶灯挂件清洗后，放入磁控溅射托盘，然后送入镀膜机；其中水晶灯挂件的清洗具体包括:将成型的水晶灯挂件放在丙酮中超声清洗10分钟后，再用乙醇超声清洗10分钟，最后在去离子水中超声清洗10分钟； B、采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射不锈钢平面靶，在水晶挂件上磁控溅射一 SSTOx层；其中所述SSTOx层的厚度为40nm，氩气与氧气的体积比为1:2，溅射功率为90KW，分两个阴极溅射；C、采用氮气作为反应气体，直流电源溅射铬平面靶，在SSTOx层上磁控溅射一氮化铬薄膜层；其中氮化铬薄膜层的厚度为4nm，氩气与氮气的体积比为1:2，直流电源溅射功率4KW ；D、采用氧气作为反应气体，交流电源溅射锌锡靶，在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锌锡层；其中氧化锌锡层的厚度为15nm，ZnSn合金旋转靶中Zn与Sn的摩尔比为48:52，氩气与氧气的体积比为1:2，所述交流电源的溅射功率为35KW ；E、采用氧气作为反应气体，交流电源溅射钛靶，在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层；其中氧化钛层的厚度为15nm，氩气与氧气的体积比为1:2，所述交流电源的溅射功率为 40KW。以上显示和描述了本专利技术的基本原理和主要特征以及本专利技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本专利技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本专利技术的原理，在不脱离本专利技术精神和范围的前提下，本专利技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本专利技术范围内。本专利技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。【权利要求】1.，其特征在于包括以下步骤: A、将已成型的水晶灯挂件清本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种水晶灯挂件玻璃的制作方法，其特征在于包括以下步骤：A、将已成型的水晶灯挂件清洗后，放入磁控溅射托盘，然后送入镀膜机；B、采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射不锈钢平面靶，在水晶挂件上磁控溅射一SSTOx层；C、采用氮气作为反应气体，直流电源溅射铬平面靶，在SSTOx层上磁控溅射一氮化铬薄膜层；D、采用氧气作为反应气体，交流电源溅射锌锡靶，在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锌锡层；E、采用氧气作为反应气体，交流电源溅射钛靶，在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：魏佳坤，
申请(专利权)人：揭阳市宏光镀膜玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：