驱动装置和发光单元制造方法及图纸

本发明专利技术公开了驱动装置和发光单元。该驱动装置包括：驱动电路，其用于向发光元件提供依据控制电压而定的驱动电流；第一检测电路，它用于检测所述驱动电流；第二检测电路，其用于检测第一参考电流（用作发光时的驱动电流的基准）及第二参考电流（用作不发光时的驱动电流的基准）；第一生成电路，其通过将第一电压和校正电压相加而生成加运算电压作为发光时的控制电压，并且还生成第二电压作为不发光时的控制电压，所述校正电压是通过预定的计算而导出的；以及第二生成电路，其用于生成第三参考电流。所述第二检测电路具有将第二参考电流和第三参考电流相加而产生第一参考电流的第一加法器电路。本发明专利技术能够在电压驱动法中对驱动电流进行精确校正。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了驱动装置和发光单元。该驱动装置包括：驱动电路，其用于向发光元件提供依据控制电压而定的驱动电流；第一检测电路，它用于检测所述驱动电流；第二检测电路，其用于检测第一参考电流（用作发光时的驱动电流的基准）及第二参考电流（用作不发光时的驱动电流的基准）；第一生成电路，其通过将第一电压和校正电压相加而生成加运算电压作为发光时的控制电压，并且还生成第二电压作为不发光时的控制电压，所述校正电压是通过预定的计算而导出的；以及第二生成电路，其用于生成第三参考电流。所述第二检测电路具有将第二参考电流和第三参考电流相加而产生第一参考电流的第一加法器电路。本专利技术能够在电压驱动法中对驱动电流进行精确校正。【专利说明】驱动装置和发光单元相关申请的交叉参考本申请要求2012年10月4日提交的日本优先权专利申请JP2012-222163的优先权权益，并且将该日本优先权申请的全部内容以引用的方式并入本文。
本专利技术涉及一种用于驱动发光元件的驱动装置和包括这样的驱动装置的发光单元，更具体地，涉及一种非常适合用于驱动面发光型半导体激光器的驱动装置和包括这样的驱动装置的发光单元。
技术介绍
在激光打印机的领域中，为了满足对更高速性能和更高密度安装的需求，人们已经考虑去实现面发光型半导体激光器(下文中，简称为“面发光激光器”)的更高速性能和更高密度安装。然而，面发光激光器可能具有比边缘发光型半导体激光器(下文中，简称为“边缘发光激光器”)大一个数量级的几乎约为100欧姆的发光电阻，而且可能具有更大的寄生电容，该寄生电容会因为多通道构造而增大。此外，面发光激光器的发光电阻会因为可能是由发光引起的任何温度变化而改变，这导致发光特性的改变。因此，在面发光激光器中，通常使用电流驱动法来代替会受到发光电阻的变化影响的电压驱动法来尝试使发光特性稳定化(例如，参见日本待审专利申请特开昭S57-13790号公报)。然而，在面发光激光器中，上升特性(TR特性)和下降特性(TF特性)(它们在边缘发光激光器中不会受到严重影响)会依赖于由发光电阻和寄生电容决定的时间常数。因此，在电流驱动法中，用于驱动面发光激光器的驱动信号的波形将会失去陡峭的上升/下降沿。虽然已经代表性地提出了各种各样的驱动方法以应对这样的缺点，但是这些方法分别具有如下缺点:由于过度复杂，因而使得这些方法的控制缺乏实效性。因此，本专利技术的 申请人:曾经提出了这样的驱动装置:其能够在电压驱动法中使驱动电流的TR特性和TF特性陡峭，而且不管发光电阻有任何变化都能够使驱动电流保持在恒定值(日本待审专利申请第2010-251429号公报)。此外，在面发光激光器中，在装置温度有变化的情况下，谐振器结构的有效谐振器长度与有源层的发光波长之间的差(波长失谐△、)可能会发生变化，这导致了取决于波长失谐△ \大小的阀值电流发生变化。在某些情况下，在面发光激光器中，波长失谐△入可能被增大以使阀值电流减小。然而，在这样的情况下，如果通过施加脉冲信号来驱动面发光激光器，就会存在这样的缺点:与电流脉冲波形相比，光输出的波形的上升/下降沿会变得不那么陡峭。而且，在面发光激光器中，可能出现被称为“下垂(droop)”的如下现象:光输出还随着装置温度的升高而逐渐地减小。 该现象会随着注入电力的增大而更加显著地出现。此外，这种下垂会随着脉冲驱动中的脉冲图形变得更加密集而更加显著地出现。鉴于此，为了解决这些缺点，需要对驱动电流添加校正电流。然而，在日本待审专利申请第2010-251429号公报中披露的驱动装置中，如果校正电流被添加至驱动电流，那么反馈回路往往会减小该校正电流，这导致了难以对驱动电流执行精确校正的缺点。
技术实现思路
本专利技术期望提供一种能够在电压驱动法中对驱动电流进行精确校正的驱动装置和包括这样的驱动装置的发光单元。本专利技术的实施例提供了第一种驱动装置，所述第一种驱动装置包括:驱动电路，其被构造用来向发光元件提供依据控制电压的大小而定的驱动电流；第一检测电路，其被构造用来检测所述驱动电流或与所述驱动电流对应的物理量；第二检测电路，其被构造用来检测第一参考电流或与所述第一参考电流对应的物理量以及用来检测第二参考电流或与所述第二参考电流对应的物理量，所述第一参考电流要被用作所述发光元件发光时的驱动电流的基准，所述第二参考电流要被用作所述发光元件不发光时的驱动电流的基准；第一生成电路，其被构造用来生成通过将第一电压和校正电压彼此相加而获得的加运算电压以作为所述发光元件发光时的控制电压，并且还用来生成第二电压以作为所述发光元件不发光时的控制电压，所述第二电压是根据所述发光元件不发光时来自所述第一检测电路的检测结果与所述发光元件不发光时来自所述第二检测电路的检测结果的比较结果而得到的，所述第一电压是根据所述发光元件发光时来自所述第一检测电路的检测结果与所述发光元件发光时来自所述第二检测电路的检测结果的比较结果而得到的，所述校正电压是通过预定的计算而导出的；以及第二生成电路，其被构造用来通过利用所述发光元件发光时的控制电压、所述第一电压、所述第二电压和所述第二参考电流而生成第三参考电流，所述第三参考电流等于所述第一参考电流与所述第二参考电流之间的差值。所述第二检测电路具有第一加法器电路，所述第一加法器电路通过将所述第二参考电流和所述第三参考电流彼此相加而生成所述第一参考电流。本专利技术的实施例提供了第一种发光单元，所述第一种发光单元包括:发光元件；驱动电路，其被构造用来向所述发光元件提供依据控制电压的大小而定的驱动电流；第一检测电路，其被构造用来检测所述驱动电流或与所述驱动电流对应的物理量；第二检测电路，其被构造用来检测第一参考电流或与所述第一参考电流对应的物理量以及用来检测第二参考电流或与所述第二参考电流对应的物理量，所述第一参考电流要被用作所述发光元件发光时的驱动电流的基准，所述第二参考电流要被用作所述发光元件不发光时的驱动电流的基准；第一生成电路，其被构造用来生成通过将第一电压和校正电压彼此相加而获得的加运算电压以作为所述发光元件发光时的控制电压，并且还用来生成第二电压以作为所述发光元件不发光时的控制电压，所述第二电压是根据所述发光元件不发光时来自所述第一检测电路的检测结果与所述发光元件不发光时来自所述第二检测电路的检测结果的比较结果而得到的，所述第一电压是根据所述发光元件发光时来自所述第一检测电路的检测结果与所述发光元件发光时来自所述第二检测电路的检测结果的比较结果而得到的，所述校正电压是通过预定的计算而导出的；以及第二生成电路，其被构造用来通过利用所述发光元件发光时的控制电压、所述第一电压、所述第二电压和所述第二参考电流而生成第三参考电流，所述第三参考电流等于所述第一参考电流与所述第二参考电流之间的差值。所述第二检测电路具有第一加法器电路，所述第一加法器电路通过将所述第二参考电流和所述第三参考电流彼此相加而生成所述第一参考电流。在根据本专利技术的上述各实施例的第一种驱动装置和第一种发光单元中，发光时流过所述发光元件的驱动电流是由通过将所述第一电压和所述校正电压彼此相加而生成的控制电压规定的。此外，所述第一电压是根据通过利用所述控制电压而生成的所述参考电流与发光时流过所述发光元件的所述驱动电本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种驱动装置，其包括：驱动电路，它被构造用来向发光元件提供依据控制电压的大小而定的驱动电流；第一检测电路，它被构造用来检测所述驱动电流或与所述驱动电流对应的物理量；第二检测电路，它被构造用来检测第一参考电流或与所述第一参考电流对应的物理量并且用来检测第二参考电流或与所述第二参考电流对应的物理量，所述第一参考电流要被用作所述发光元件发光时的驱动电流的基准，所述第二参考电流要被用作所述发光元件不发光时的驱动电流的基准；第一生成电路，它被构造用来生成通过将第一电压和校正电压彼此相加而获得的加运算电压以作为所述发光元件发光时的控制电压，并且还用来生成第二电压以作为所述发光元件不发光时的控制电压，所述第二电压是根据所述发光元件不发光时来自所述第一检测电路的检测结果与所述发光元件不发光时来自所述第二检测电路的检测结果的比较结果而得到的，所述第一电压是根据所述发光元件发光时来自所述第一检测电路的检测结果与所述发光元件发光时来自所述第二检测电路的检测结果的比较结果而得到的，所述校正电压是通过预定的计算而导出的；以及第二生成电路，它被构造用来通过利用所述发光元件发光时的控制电压、所述第一电压、所述第二电压和所述第二参考电流而生成第三参考电流，所述第三参考电流等于所述第一参考电流与所述第二参考电流之间的差值，其中，所述第二检测电路具有第一加法器电路，所述第一加法器电路通过将所述第二参考电流和所述第三参考电流彼此相加而生成所述第一参考电流。...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：大尾桂久，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：