一种半主动激光目标探测装置制造方法及图纸

技术编号:9906580 阅读:87 留言:0更新日期:2014-04-11 04:49
本发明专利技术涉及一种半主动激光目标探测装置。包括非成像光学系统和四象限探测器;非成像光学系统包括外壳、球罩、窄带干涉滤光片、负透镜、正胶合透镜和正透镜,外壳的前端中心孔内固定球罩和窄带干涉滤光片,紧靠窄带干涉滤光片有负透镜,负透镜固定在支架的中心孔内,支架与外壳固定,靠近负透镜支架的中心孔内依次固定正胶合透镜、正透镜和四象限探测器;四象限探测器的光敏面直径是10mm,四象限探测器并不位于光学系统的焦平面上,而是具有-3mm的离焦量。它视场较大,探测精度较高,结构简单,价格低,使用方便,具有很好的市场应用前景。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及一种半主动激光目标探测装置。包括非成像光学系统和四象限探测器;非成像光学系统包括外壳、球罩、窄带干涉滤光片、负透镜、正胶合透镜和正透镜,外壳的前端中心孔内固定球罩和窄带干涉滤光片,紧靠窄带干涉滤光片有负透镜,负透镜固定在支架的中心孔内,支架与外壳固定,靠近负透镜支架的中心孔内依次固定正胶合透镜、正透镜和四象限探测器;四象限探测器的光敏面直径是10mm,四象限探测器并不位于光学系统的焦平面上,而是具有-3mm的离焦量。它视场较大,探测精度较高,结构简单,价格低,使用方便,具有很好的市场应用前景。【专利说明】一种半主动激光目标探测装置
本专利技术属于激光制导
,特别涉及一种半主动的激光目标探测装置。
技术介绍
本专利技术的光学系统属于非成像系统,目标信号经光学系统后在四象限探测器靶面上形成一定大小且均匀的光斑,探测器通过分析光斑覆盖在探测器4个不同区域的面积来判断目标的方位。应用于武器系统可提高其打击能力。专利CN102323590A—种半主动激光目标方位精确识别装置的专利虽为相同领域,但是涉及的侧重点不同。同时探测器类型不同。专利CN101672641A—种基于双四象限探测器的光学精密跟踪探测器随同为激光制导领域,探测器类型不同,光学系统采用反射式。
技术实现思路
为了克服现有技术的缺点,本专利技术提供一种半主动激光目标探测装置,它视场较大,探测精度较高,结构简单,价格低,使用方便,具有很好的市场应用前景。本专利技术解决其技术问题所采取的技术方案是:包括非成像光学系统和四象限探测器;非成像光学系统包括外壳、球罩、窄带干涉滤光片、负透镜、正胶合透镜和正透镜,外壳的前端中心孔内固定球罩和窄带干涉滤光片,紧靠窄带干涉滤光片有负透镜,负透镜固定在支架的中心孔内,支架与外壳固定,靠近负透镜支架的中心孔内依次固定正胶合透镜、正透镜和四象限探测器;四象限探测器的光敏面直径是10_,四象限探测器并不位于光学系统的焦平面上,而是具有-3mm离焦量。本专利技术视场较大,探测精度较高,结构简单,价格低,使用方便,具有很好的市场应用前景。【专利附图】【附图说明】图1为本专利技术示意图;图2为本专利技术光路示意图;图3为本专利技术光学系统光斑均匀性评价函数相对照度分布图(从左至右依次为O、0.7、I 视场);图4为本专利技术光学系统光斑大小评价函数径向能量曲线图。【具体实施方式】下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明。如图1所示,本专利技术包括非成像光学系统和四象限探测器;非成像光学系统包括外壳7、球罩1、窄带干涉滤光片2、负透镜3、正胶合透镜4和正透镜5,外壳7的前端中心孔内固定球罩I和窄带干涉滤光片2,紧靠窄带干涉滤光片2有负透镜3,负透镜3固定在支架8的中心孔内,支架8与外壳7固定,靠近负透镜3支架8的中心孔内依次固定正胶合透镜4、正透镜5和四象限探测器6。所述的四象限探测器6并不位于光学系统的焦平面上,而是具有一定的离焦量。探测装置工作波长是1064nm的激光波段,具有较大视场。窄带干涉滤光片的带宽为15nm。参看附图2,光学系统所用材料全部为国产常用材料,包括K9、ZF6或BAK4,同时镀有1064nm的增透膜,球罩I镀有憎水层。系统面型均为球面镜,没有非球面,有利于降低加工成本。本专利技术的光学设计参数如下:【权利要求】1.一种半主动激光目标探测装置,其特征在于:包括非成像光学系统和四象限探测器,非成像光学系统包括外壳(7)、球罩(I)、窄带干涉滤光片(2)、负透镜(3)、正胶合透镜(4)和正透镜(5 ),外壳(7 )的前端中心孔内固定球罩(I)和窄带干涉滤光片(2 ),紧靠窄带干涉滤光片(2)有负透镜(3),负透镜(3)固定在支架(8)的中心孔内,支架(8)与外壳(7)固定,靠近负透镜(3)支架(8)的中心孔内依次固定正胶合透镜(4)、正透镜(5)和四象限探测器(6);四象限探测器的光敏面直径是10_,四象限探测器并不位于光学系统的焦平面上,而是具有_3mm的离焦量。2.根据权利要求1所述的半主动激光目标探测装置,其特征在于:所述的窄带干涉滤光片(2)的带宽为15nm。3.根据权利要求1所述的半主动激光目标探测装置,其特征在于:所述的光学系统所用材料为K9、ZF6或BAK4,同时镀有1064nm的增透膜,球罩(I)镀有憎水层。4.根据权利要求1所述的半主动激光目标探测装置,其特征在于:光学设计参数如下。5.根据权利要求1所述的半主动激光目标探测装置,其特征在于:所述四象限探测器的参数如下。 【文档编号】G01S17/06GK103713291SQ201310712361【公开日】2014年4月9日 申请日期:2013年12月20日 优先权日:2013年12月20日 【专利技术者】李金侠 申请人:河北汉光重工有限责任公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半主动激光目标探测装置,其特征在于:包括非成像光学系统和四象限探测器,非成像光学系统包括外壳(7)、球罩(1)、窄带干涉滤光片(2)、负透镜(3)、正胶合透镜(4)和正透镜(5),外壳(7)的前端中心孔内固定球罩(1)和窄带干涉滤光片(2),紧靠窄带干涉滤光片(2)有负透镜(3),负透镜(3)固定在支架(8)的中心孔内,支架(8)与外壳(7)固定,靠近负透镜(3)支架(8)的中心孔内依次固定正胶合透镜(4)、正透镜(5)和四象限探测器(6);四象限探测器的光敏面直径是10mm,四象限探测器并不位于光学系统的焦平面上,而是具有?3mm的离焦量。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李金侠
申请(专利权)人:河北汉光重工有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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