使用分子筛SSZ-28还原气流中的氮氧化物制造技术

技术编号:9797118 阅读:205 留言:0更新日期:2014-03-22 06:02
本发明专利技术通常涉及分子筛SSZ-28及其在还原气流如来自内燃机的废气中的氮氧化物中的用途。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】使用分子筛SSZ-28还原气流中的氮氧化物
本专利技术通常涉及分子筛SSZ-28及其在还原气流中的氮氧化物中的用途。背景结晶分子筛和沸石由于其独特筛分特性以及其催化性质而特别适用于诸如烃转化、气体干燥和分离的应用。虽然已经公开了许多不同的结晶分子筛,但仍然需要具有气体分离和干燥、烃和化学品转化及其他应用所希望的性质的新型分子筛。概述根据本专利技术,提供还原气流中所包含的氮氧化物的方法,其中所述方法包括使所述气流与具有大于约20:1至约45:1的选自氧化硅、氧化锗及其混合物的氧化物与选自氧化铝、氧化镓、氧化铁、氧化硼及其混合物的氧化物的摩尔比的结晶分子筛接触。所述分子筛在煅烧之后具有表2的X-射线衍射谱线。所述分子筛可含有能够催化氮氧化物的还原的金属或金属离子(例如,钴、铜、钼、铁、铬、锰、镍、锌、镧、钯、铑或其混合物),且所述方法可在存在化学计量过量的氧气下进行。在一个实施方案中,所述气流为内燃机的排出流。专利技术详述本专利技术包括在本文中称为“分子筛SSZ-28”或简称为“SSZ-28”的分子筛。分子筛SSZ-28及其制备方法公开在美国专利5,200, 377号和5,785,947号中。在制备SSZ-28的过程中,可使用N, N- 二甲基托品鐵(dimethyltropinium)或N,N-二甲基-3-氮鎗双环[3.2.2]壬烷阳离子作为结构导向剂(“SDA”),也称作结晶模板。可用于制造SSZ-28的SDA由以下结构(I)和(2)表示:

【技术保护点】
还原气流中所包含的氮氧化物的方法,其中所述方法包括使所述气流与结晶分子筛接触,所述结晶分子筛具有大于约20:1至约45:1的选自氧化硅、氧化锗及其混合物的氧化物与选自氧化铝、氧化镓、氧化铁、氧化硼及其混合物的氧化物的摩尔比且在煅烧后具有表2的X?射线衍射谱线。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.08.05 US 13/204,0231.还原气流中所包含的氮氧化物的方法,其中所述方法包括使所述气流与结晶分子筛接触,所述结晶分子筛具有大于约20:1至约45:1的选自氧化硅、氧化锗及其混合物的氧化物与选自氧化铝、氧化镓、氧化铁、氧化硼及其混合物的氧化物的摩尔比且在煅烧后具有表2...

【专利技术属性】
技术研发人员:S·I·佐尼斯R·J·萨克斯顿
申请(专利权)人:雪佛龙美国公司
类型:
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1